【課題】 保存安定性の良好な植物病害防除剤組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）補助剤として多価アルコール、エポキシ化植物油、グリシジルエーテルおよびイソプロピルリン酸エステルからなる群から選ばれる１種以上、並びに（ｂ）農薬活性成分として３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イルスルホニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−スルホンアミドを含有することを特徴とする植物病害防除剤組成物。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至５０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：重合性基を２個以上有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）成分：酸により反応する架橋剤、
（Ｅ）溶剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて用いられるレジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいてフォトレジストの下層に使用される下層膜を電子線照射によって硬化する組成物であって、重合性物質を含むレジスト下層膜形成組成物。前記重合性物質が電子線照射により重合可能な反応性基を少なくとも一つ有する化合物である。電子線照射による重合可能な反応性基が、炭素と炭素の不飽和多重結合を有する反応性基である。炭素と炭素の不飽和多重結合を有する反応性基が、アクリレート基、メタクリレート基、又はビニルエーテル基である。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス製造工程における銅配線膜の平坦化研磨に用いる研磨剤を提供する。
【解決手段】 砥粒（Ａ）、シアヌル酸（Ｂ１）又はその塩（Ｂ２）、ホウ酸（Ｃ１）又はその塩（Ｃ２）、酸化剤（Ｄ）、及び水（Ｅ）を含有する半導体デバイス製造における化学機械的研磨用組成物。砥粒（Ａ）は、金属酸化物粒子（Ａ１）、有機高分子粒子（Ａ２）、又はその組み合わせである。ホウ酸（Ｃ１）が、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸、八ホウ酸、又はその組み合わせである。被研磨材料が、銅、アルミニウム、タングステン、タンタル、及びそれらの合金、酸化ケイ素、並びに低誘電率絶縁膜からなら群より選ばれた少なくとも１種の物質である。
金属配線、バリアメタル、又は絶縁膜がパターン状に形成された基板を研磨する工程を含む半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】 湛水下水田の水面での拡散性が良好な農業用水面施用粒状組成物および該組成物を水溶性フィルムで包装した包装体を提供する。
【解決手段】 農薬活性成分、界面活性剤およびＮａ_２Ｏ含有量が４重量％以下であるガラス質中空体を含有する湛水下水田の水面での拡散性が良好な農業用水面施用粒状組成物および該組成物を水溶性フィルムで包装した包装体に関する。該農業用水面施用粒状組成物に含有されるガラス質中空体の加圧破壊率は６０％未満が好ましい。 （もっと読む）

【課題】転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差（実寸法差）を抑え、Linearityを１０ｎｍ以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクを提供する。
【解決手段】基板１２上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜１３と、この薄膜の上方に成膜された化学増幅型のレジスト膜２０を備えるマスクブランクであって、レジスト膜の化学増幅機能を阻害する物質がレジスト膜の底部からレジスト膜内へ移動することを阻止する保護膜２０を、前記薄膜とレジスト膜との間に備えている。 （もっと読む）

【課題】空気中でも安定であり、実用的な用途に適するキラルジルコニウム触媒の提供。
【解決手段】Zr(OR)₄（ただし、Rは直鎖、あるいは分岐したアルキル基である）と(R)-6,6'-Br₂BINOLとＮ−アルキルイミダゾールまたはN−ベンジルイミダゾールとを混合して得られた粉末を、水を含む有機溶媒中で結晶化させるなどの方法により得られる新規キラルジルコニウム触媒。 （もっと読む）

【課題】均一な光照射配向を発現し高い安定性と耐光性を有する液晶配向処理剤の提供。
【解決手段】高分子主鎖中に下記一般式（１）〜（７）


（Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリル基またはプロパルギル基を表す。）で表されるいずれかの結合を有する液晶配向処理剤。 （もっと読む）

【課題】長期保存においても高い触媒能を維持でき、安定で、反応後の回収、再使用も可能な実用性の高いキラルジルコニウム触媒を提供する。
【解決手段】式（ＩＩ）（Ｒ²は置換基を有していてもよい炭化水素基）で表されるジルコニウムアルコキシドと、式（ＩＩＩ）（Ｘ¹およびＸ²は、同一または別異に水素原子、ハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基で、Ｘ¹およびＸ²のいずれか一方はハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基）で表される（Ｒ）−ＢＩＮＯＬと、次式（ＩＶ）（Ｒ¹はアルキル基またはベンジル基）で表される、Ｎ−アルキルイミダゾールまたはＮ−ベンジルイミダゾールとを良溶媒中で混合し、次いで貧溶媒を加えて析出させる。
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