説明

日産化学工業株式会社により出願された特許

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高く、かつ熱的に安定な配向性とプレチルト角を、ラビングや有機溶媒による洗浄などのプロセス工程に依存せず、発現させることのできる液晶配向膜を得るための液晶配向剤を提供する。 液晶配向膜を形成する為のポリマーを1種類以上含有する液晶配向剤であって、このポリマーの少なくとも1種類が、主鎖に炭素数4〜16のアルキレン基を有し、かつ、液晶のプレチルト角を高める側鎖を有するポリマーであることを特徴とする。 (もっと読む)


次式(1)


で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン酸類と、リン酸と、過酸化水素と、次式(2)または(3)


で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒の存在下、または、式(1)で表される有機化合物または高分子化合物と、タングステン化合物と、式(2)または(3)で表される4級アンモニウム塩とから調製されるオレフィンの酸化触媒の存在下、過酸化水素で処理することを特徴とするオキシラン化合物の製造方法。該製造方法は特に工業的に有用である。
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【課題】 F2エキシマレーザーを用いたリソグラフィにおいて、十分な光吸収効果を有し、アウトガスの発生がなく、フッ素含有レジストを用いたレジストパターン形成において良好な形状となり、高いドライエッチングレートを有する有機反射防止膜を提供する。
【解決手段】 この反射防止膜組成物は、複素環式化合物と、ハロゲン元素を導入した安息香酸とを反応させることによって得られる材料を主要成分とする反射防止膜組成物であり、被処理基板上にと塗布薄膜形成した後、加熱硬化して、反射防止膜を形成する。複素環式化合物としては、エポキシ置換イソシアヌレートが適しており、また、ハロゲン元素を導入した安息香酸としてはヨード化ヒドロキシ安息香酸が適している。 (もっと読む)


ヌクレオプロタミンを有効成分として含む更年期障害抑制剤及び該更年期障害抑制剤の有効量を含む健康食品。ヌクレオプロタミンは、脊椎動物の成熟した精子核中に存在する塩基性タンパク質であるプロタミンが核酸と結合して複合体となったものであり、例えば、鮭、鱒、鰊、鱈等の魚類の白子などから得ることができる。本更年期障害抑制剤又は本健康食品を、定期的に例えば毎日適量摂取することにより、更年期障害に由来する種々の不快な自覚症状を効果的に抑制することができる。 (もっと読む)


多糖誘導体を担体に担持した充填剤を液体クロマトグラフィーに用いて、6E−−7−[2−シクロプロピル−4−(4−フルオロフェニル)キノリン−3−イル]−3,5−ジヒドロキシ−6−ヘプテン酸エチルの光学異性体の混合物を含有する溶液から(3R,5S,6E)体を製造する。前記多糖誘導体における多糖の水酸基及びアミノ基の水素原子の一部もしくは全部は、特定のアルキル基を有する芳香族基で1つの水素原子が置換されたカルバモイル基等の一種又は二種以上の置換基で置換されている。
本発明によれば、上記(3R,5S,6E)体を、従来の方法に比べてより高い生産性で製造することができる。
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1.本発明は、メバロン酸代謝経路を阻害する物質の有効量を投与することを特徴とするLKLF/KLF2遺伝子発現促進方法に関する。
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一般式(II)で示されるキノリンカルバルデヒドを一般式(III)で示されるイミン化合物と反応させ、次いで加水分解することを特徴とする一般式(I)で示されるキノリン化合物の製造方法によって、医薬、農薬などの合成中間体として有用なキノリン化合物を、工業的に入手容易で、かつ取り扱いの容易な原料を用い、短工程で効率よく工業的に有利に製造することができる。


(式中、R、R、R、R、R、RおよびRは明細書に記載のとおりである。)
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【課題】 インドール化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】
【化1】






式(1)で表される2−ニトロベンジルカルボニル化合物を金属と酸とで還元する際に、アシル化剤と塩基を共存させることを特徴とする式(2)(R2=H)で表されるインドール化合物の製造方法、当該インドール化合物をハロゲン化水素酸およびスルホキシド化合物と反応させることを特徴とする式(2)(R2=ハロゲン)で表されるインドール化合物の製造方法、ならびに当該インドール化合物を相間異動触媒と塩基存在下直接1−(N,N−ジメチルスルファモイル)−3−クロロスルホニル−1,2,4−トリアゾールと反応させることによるスルファモイルトリアゾール化合物の製造方法。 (もっと読む)


フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有する、半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいてに使用される下層膜を提供する。 具体的には、発泡剤、有機材料及び溶剤を含む、又は、発泡性基を有するポリマー及び溶剤を含む、半導体装置の製造に使用される多孔質下層膜を形成するための下層膜形成組成物。当該組成物より形成された下層膜は、その内部に空孔を有する多孔質構造となり、大きなドライエッチング速度の達成が可能である。
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半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用される、リソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有する下層膜を提供する。 具体的には、強酸触媒による架橋反応を利用することなく下層膜を形成するための組成物であり、エポキシ基を有する成分(高分子化合物、化合物)と、フェノール性水酸基、カルボキシル基、保護されたカルボキシル基または酸無水物構造を有する成分(高分子化合物、化合物)とを含む下層膜形成組成物である。 (もっと読む)


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