【課題】再生処理時における流出側端部の局所的な温度上昇を防ぎ、クラックや溶損の発生を低減させたハニカム構造体を提供する。
【解決手段】流出側端部の熱容量が、流入側端部よりも大きいハニカム構造体、即ち、流出側目封じ部の断面積が流入側よりも大きく、流出側目封じ部深さが流入側よりも大きく、流出側目封じ部気孔率が流入側よりも小さいハニカム構造体を形成する。 （もっと読む）

【課題】加圧成形時に、碍管の成形体の端面にクラックが発生することを防止することができる静水圧加圧成形型を提供する。
【解決手段】円柱状の芯金１と、芯金１の一方の端部に配設された蓋部２と、他方の端部に配設された底部３と、蓋部２から底部３に亘って配設された円筒状の成形用ゴム型４とを備え、蓋部２の芯金１側を向く面と、底部３の芯金１側を向く面とが、いずれも芯金１に直交する平面であり、曲面状の凹みが全周に亘って連続的に形成された凹面部１６を有し、芯金１の側面部１ｃと底部３とが交わる位置に配設された下部リング状部材１１を更に備え、曲面状の凹みが全周に亘って連続的に形成された凹面部２６を有し、芯金の側面部１ｃと蓋部２とが交わる位置に配設された上部リング状部材２１を更に備える碍管成形用の静水圧加圧成形型１００。 （もっと読む）

【課題】キャリアガスの使用量を削減しつつ真空下より速い成膜速度でＤＬＣ膜を生成する。
【解決手段】ＤＬＣ成膜装置１０は、グランドに接続され基板１２を支持する支持電極１４と、この支持電極１４と対向する位置に設けられ混合ガスの噴射口である混合ガス噴射口１６ａを有する対向電極１６と、この対向電極１６の横に設けられバリアガスの噴射口であるバリアガス噴射口２１ａを有するガス噴射ヘッド２１と、支持電極１４と対向電極１６とを包含するチャンバ２０と、支持電極１４と対向電極１６との間に直流パルス電圧を印加するパルス供給源を有する直流パルス発生回路２２とを備えている。ＤＬＣ膜を生成するときには、混合ガス噴射口１６ａから混合ガスを噴射するとともに、バリアガス噴射口２１ａからバリアガスを噴射し、支持電極１４に直流パルス電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】収容した流体をより十分に反応槽で反応させる。
【解決手段】カートリッジの第１層５０ａ，第２層５０ｂに形成され、収容される液体によって定められた所定容積の複数の液体収容部１〜１５，１７に液体を収容し、流通ポート１ａ〜１６ａのうちいずれか１つの流通ポートに反応槽を接続した状態で、反応槽の接続された流通ポートと連通する液体収容部に圧力を作用させると、外部と連通した外気流通部２１から外気がその液体収容部に供給されると共に、収容されていた液体が反応槽に供給される。そして、カートリッジが回転されて他の流通ポートと反応槽とが接続されて複数の液体が反応槽に供給される。このとき、外気流通部２１から供給された外気が、反応槽と接続された流通ポート及びいずれかの液体収容部を介して反応槽へ供給されるから、反応槽に収容された複数の液体がこの外気の流入によって攪拌される。 （もっと読む）

【課題】従来よりもジェットの長さの長い窒素ラジカルジェットを形成することのできるマイクロプラズマジェット反応器、及びマイクロプラズマジェット発生装置を提供する。
【解決手段】板状のセラミック誘電体４と、その内部に配設された導電膜３とから形成され、所定の間隙を隔てて積層されてなる第一電極２ａと第二電極２ｂを有する。そして、窒素ガスを導入して流通させるガス導入流通部２１を形成するガス導入流通部形成部が隔壁板９及び保持部材７によって設けられている。プラズマ反応器１は、ガス導入流通部２１から貫通孔１５を流通して単位電極２ａ，２ｂ間に窒素ガスを導入し、単位電極２ａ，２ｂ間に電圧を印加することによって、単位電極２ａ，２ｂ間外へ窒素ラジカルジェットを放出する。非放電部１２が放電部１１を囲むように設けられ、窒素ラジカルジェットを囲むように窒素ガスを放出する。 （もっと読む）

【課題】成形性に優れ、生産効率が高く、更に、得られるハニカム構造体について安定した気孔率を確保でき、必要な強度を維持することができるハニカム構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒子径０．１〜４０μｍのタルク、平均粒子径０．１〜２０μｍのカオリン、平均粒子径０．０５〜１０μｍのアルミナ源原料、及び平均粒子径０．１〜２０μｍのシリカを混合して形成されたコージェライト化原料、バインダ、界面活性剤、水、及び吸水後の平均粒子径が２〜２００μｍ、且つ吸水倍率が２〜１００倍の吸水性樹脂を含有する坏土をハニカム形状に成形してハニカム成形体を作製し、前記ハニカム成形体を焼成して気孔率４０％未満のハニカム構造体を得るハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】成形性に優れ、得られたハニカム構造体の熱膨張率が低いハニカム構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】コージェライト化原料を含有し、更に、ナトリウム、カルシウム及びカリウムの含有率の合計（アルカリ金属・アルカリ土類金属含有率）が０．０５質量％以下、平均粒子径１．０μｍ以下のアルミナ粒子と、ナトリウム、カルシウム及びカリウムの含有率の合計が０．０５質量％以下、平均粒子径１．０μｍ以下のシリカ粒子とを成形助剤として含有する坏土を、ハニカム形状に成形してハニカム成形体を作製し、ハニカム成形体を焼成してハニカム構造体を得るハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】測定精度の向上が実現されたガスセンサを提供する。
【解決手段】被測定ガス中の所定ガス成分の濃度を、所定ガス成分が分解することにより酸素イオン伝導性固体電解質内を流れる電流に基づいて特定するガスセンサを、外部空間から被測定ガスを導入する内部空所と、基準ガスを導入する基準ガス空間と、内部空所の表面に形成した第一の電極と内部空所とは異なる空間に形成した第二の電極との間に所定電圧を印加することで、内部空所中の酸素を汲み出し可能に設けられたポンピングセルと、内部空所の表面に形成された測定電極と基準ガスと接触するように設けられた基準電極との間に電圧を印加して、測定電極と基準電極との間を流れる電流を測定可能に設けられた測定セルと、を備え、第一の電極が、貴金属と酸素イオン伝導性固体電解質とからなる多孔質サーメットによって形成されてなり、かつ、第一の電極の気孔率が１０％以上５０％以下であるようにした。 （もっと読む）

【課題】多孔質基材表面上に成膜されたセラミック多孔質膜の膜厚が薄く、均一で、膜剥離が少なく、高分離能のセラミックフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】ＭＦ膜上に平均細孔径の小さいＵＦ膜を備えた多孔質基材４上に、セラミック成分濃度・水分濃度・固形成分の適正管理を行ったセラミックゾル２１を用い、焼成回数を減少することで、セラミック多孔質膜の剥離頻度が低く、高分離能のセラミックフィルタを製造する。 （もっと読む）

【課題】導体パターンの剥がれや崩れがなく、しかも、導体パターンの厚みを厚くでき、抵抗値の低減化、高周波特性の向上を容易に図ることができるセラミック成形体を提供する。
【解決手段】第１セラミック成形体１０Ａは、樹脂と銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）系の金属の少なくとも１種類の粉末を含む導体ペースト１５を所定の形状に成形硬化して導体成形部１２とした後に、該導体成形部１２の表面全面に焼成収縮率調整膜１４を形成する。その後、表面に焼成収縮率調整膜１４が形成された導体成形部１２を鋳込み型１６内に設置し、熱硬化性樹脂前駆体とセラミック粉末と溶媒を含むゲルキャスト用のスラリー１８を鋳込み型１６内に鋳込んだ後に、硬化してセラミック成形部１３とすることによって得られる。 （もっと読む）