【課題】貯蔵安定性に優れると共に、密着性、充放電特性が良好な電極を製造可能な電極用バインダー組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る電極用バインダー組成物は、蓄電デバイスに使用される電極を作製するためのバインダー組成物であって、重合体（Ａ）と、カルボン酸またはその塩（Ｂ）と、液状媒体（Ｃ）と、を含有し、前記バインダー組成物中における前記成分（Ｂ）の濃度が２０〜１０，０００ｐｐｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬化性及び透明性に優れると共に、自律的な自己修復作用に優れた自己修復材料、該自己修復材料で保護された自己修復性部材、ならびに該自己修復材料を製造するための組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る自己修復材料は、脂肪族ポリオール及び環状構造を有するポリオールから選択される少なくとも１種のポリオールと、ポリイソシアネートと、水酸基含有（メタ）アクリレートと、を反応させてなるウレタン（メタ）アクリレートを含有する組成物を硬化反応させて形成された分子鎖を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来に比して耐熱性に優れた塩基性着色剤を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表されるアニオンを有する塩基性着色剤。


〔式（１）において、Ｒは１〜１６個の原子（但し、水素原子を除く。）で構成されるｎ価の有機基を示し、ｎは２〜４の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。
【解決手段】本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、ウエハ上の絶縁膜に形成された孔または溝に銅または銅合金を埋め込んだ後、化学機械研磨により余剰の銅または銅合金を除去することによって配線を形成する手法に用いる化学機械研磨用水系分散体であって、ヒュームドシリカまたはコロイダルシリカと、水と、過酸化水素と、ドデシルベンゼンスルホン酸カリウムおよびドデシルベンゼンスルホン酸アンモニウムから選択される少なくとも１種と、を含有し、前記ドデシルベンゼンスルホン酸カリウムおよび前記ドデシルベンゼンスルホン酸アンモニウムの合計量が０．００２質量％以上１質量％未満であり、ｐＨが７．５以上９．０以下である （もっと読む）

【課題】微細構造を有する装置の製造における加工、移動工程において保護層として利用でき、利用後は加熱除去できる保護ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】保護ポリマー組成物は、窒素雰囲気下において熱重量分析により測定される重量減少率が（ａ）１００℃で３０分経過した際の重量減少率が１０％以下であり、（ｂ）２５℃から１０℃／分で昇温させる場合において、測定開始から２０分後の重量減少率が８０％以上である。ただし、前記重量減少率にはポリマー中に含まれる溶媒成分の揮発による重量減少は含まれないものとする。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、均質かつ緻密なアルミニウム膜を形成する。
【解決手段】第一のアミン化合物と水素化アルミニウムとの錯体および有機溶媒を含有するアルミニウム膜形成用組成物を、金属酸化物層の表面に塗布して、塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、前記塗布膜に対して、加熱処理および光照射処理から選ばれる少なくとも一種の処理を行い、アルミニウム膜を形成するアルミニウム膜形成工程と、を含むアルミニウム膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子が沈降しない安定性と、高いアルミニウム膜の研磨速度と、低いシリコン酸化膜の研磨速度の全ての特性を充足さする化学機械研磨用分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）スルホ基およびその塩からなる群から選択される少なくとも１種の官能基を有するシリカ粒子と、（Ｂ）Ｎ−ビニルピロリドンおよびその誘導体からなる群から選択される少なくとも１種に由来する繰り返し単位を含む水溶性高分子とを含有し、ｐＨが２以上８以下である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に好適に使用され、特にネガ型現像技術において、ラインエッジラフネス、スカムやマイクロブリッジ等の欠陥の発生の無い微細なレジスパターン形成方法を提供することを課題としている。

【解決手段】露光により発生した酸の作用により有機溶剤に対する溶解度が減少する感放射線性組成物を、下記条件（１）を満足するフィルターを通過させた組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光し、有機溶剤を含有する現像液を用いて現像する工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法である。
条件（１）：フィルターの臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であり、かつ荷電修飾されていない。 （もっと読む）

【課題】
高研磨圧を要せずに、シリコン酸化膜やポリシリコン膜に対するシリコン窒化膜の研磨速度比を十分に大きくすることができると共に、貯蔵安定性が良好な化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供するものである。
【解決手段】
本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）スルホ基およびその塩からなる群から選択される少なくとも１種の官能基を有するシリカ粒子と、（Ｂ）三重結合を有する非イオン性界面活性剤とを含有し、ｐＨが、２以上７以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造に多くの時間を要せず、また、製造過程でマトリックス成分が酸化により劣化することが低減された、高品質な多孔質体の原材料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物の粒子（Ａ）と、高分子化合物（Ｂ１）および反応して前記高分子化合物（Ｂ１）を形成しうる成分（Ｂ２）から選ばれる少なくとも１種の成分（Ｂ）とを含有する粒子分散体であり、前記成分（Ｂ）１００質量部に対して、前記粒子（Ａ）を５０〜５００質量部の範囲で含有する粒子分散体。


［式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子または水酸基を示し、ただしＲ¹〜Ｒ⁴のうちの少なくとも２つは水酸基を示す。ｎは０〜２の整数を示す。］ （もっと読む）