説明

JSR株式会社により出願された特許

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【課題】本発明の目的は、密集コンタクトホールパターン形成において、ホールブリッジの発生を抑制することができるブリッジ耐性に優れ、さらに解像性を十分満足するフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]単環のラクトン基を含む構造単位(I−1)及び酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体、[B]多環のラクトン基を含む構造単位(I−2)及び酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体、並びに[C]感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。 (もっと読む)


【課題】色度特性及び耐熱性に優れる着色層を形成することができ、かつ、分散性及び保存安定性が良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分(A)、(B)及び(C);(A)顔料を含む着色剤、(B)下記式(1)で表される繰り返し単位と、架橋性官能基を有する繰り返し単位を含み、アミン価が80〜250mgKOH/gである共重合体、及び(C)架橋剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。


〔式(1)において、R1は、水素原子又はメチル基を示し、Zは、−NR23(但し、R2及びR3は、相互に独立に、水素原子又は置換若しくは非置換の炭化水素基を示す。)又は置換若しくは非置換の含窒素複素環基を示し、X1は、2価の連結基を示す。〕 (もっと読む)


【課題】塗布性(印刷性)に優れ、長時間駆動しても高品位な表示を持続する液晶配向剤を提供する。
【解決手段】液晶配向剤は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸および該ポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミドよりなる重合体を含有する液晶配向剤であって、前記テトラカルボン酸二無水物が、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物を含み、このビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物における下記式(1)で表される異性体の存在割合が70モル%以上である。
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【課題】本発明の目的は、優れた液晶配向能を有しつつ、液晶表示素子の高温使用時における電圧保持率を高め、その電圧保持率の熱劣化を小さくできる液晶配向剤、この液晶配向剤を用いて形成される液晶配向膜、及びこの液晶配向膜を具備する液晶表示素子を提供することである。
【解決手段】本発明は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸及びそのイミド化重合体からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有する液晶配向剤であって、上記テトラカルボン酸二無水物が、脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有するテトラカルボン酸二無水物を含み、かつ、上記ジアミンが、下記式(1)で表される化合物を含むことを特徴とする液晶配向剤である。
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【課題】MEEF、DOF及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】[A]側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する(メタ)アクリレート単位(I)、単環の脂環式基を有する酸解離性基を含む構造単位(II)及びラクトン基を含む構造単位(III)を有する重合体、並びに[B]感放射線性酸発生体、を含有するフォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】多層レジストプロセスにおいて、シリコン含有膜のフッ素系ガスエッチングに対する加工性と、酸素系ガスエッチングに対する耐性とを共に高め、微細なパターンを形成できるパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、(1)ポリシロキサン組成物を用い、被加工基板の上面側にシリコン含有膜を形成する工程、(2)上記シリコン含有膜上にレジストパターンを形成する工程、(3)上記レジストパターンをマスクとし、上記シリコン含有膜をドライエッチングしてシリコン含有パターンを形成する工程、並びに(4)上記シリコン含有パターンをマスクとし、上記被加工基板をドライエッチングして被加工基板にパターンを形成する工程を有し、上記ポリシロキサン組成物が、[A]フッ素原子を含むポリシロキサン、及び[B]架橋促進剤を含有するパターン形成方法である。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、LWRに優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A1]放射線の照射により下記式(1)で表される化合物を発生する酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、Rは、炭素数1〜20の1価の有機基である。Rは、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。上記式(1)で表される化合物は、下記式(1−1)で表される化合物であることが好ましい。式(1−1)中、Rは、上記式(1)と同義である。Xは、電子求引性基である。Rは、炭素数1〜20の1価の有機基である。

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【課題】得られる活物質層における重合体粒子の局在化が可及的に抑制され、充放電特性、耐酸化性および密着性のすべてに優れる電極を与えることができる電極用バインダー材料を提供すること。
【解決手段】上記電極用バインダー組成物は、フッ素原子を有する単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体粒子および液状媒体を含有し、pHが7〜8である蓄電デバイスの電極用バインダー組成物であって、前記重合体粒子の平均粒子径をR1とし、前記電極用バインダー組成物に0.2N塩酸を添加して組成物のpHを5としたときの重合体粒子の平均粒子径をR2としたとき、比R1/R2の値が1.1〜3.0であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】[A]親水性基を含む構造単位(I)を有するフッ素原子含有重合体、[B]アルカリ解離性基を含む構造単位(II)を有するフッ素原子含有重合体、及び[C]酸解離性基を有する重合体を含有し、[A]重合体、[B]重合体及び[C]重合体は互いに異なる重合体であるフォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】MEEF、CDU及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】[A]側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する(メタ)アクリレート単位(I)を有し、重量平均分子量が3,000以上8,000以下である重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物。また、[A]重合体は、酸解離性基を含む構造単位(II)をさらに有することが好ましい。 (もっと読む)


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