【課題】金属含有膜を用いる多層レジストプロセスにおいて、金属含有膜からの金属溶出を抑制することができるパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）被加工基板の上側に金属含有膜を形成する工程、（２）上記金属含有膜上に保護膜を形成する工程、（３）レジスト組成物を用い、上記保護膜上にレジスト膜を形成する工程、（４）フォトマスクを介した露光光の照射により、上記レジスト膜を露光する工程、（５）上記露光されたレジスト膜の現像により、レジストパターンを形成する工程、及び（６）上記レジストパターンをマスクとしたエッチングにより、被加工基板にパターンを形成する工程を有するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、形成されるレジストパターンの耐パターン倒れ性やドライエッチング時におけるレジストパターンに対する高いエッチング選択性を維持しつつ、高い屈折率及び吸光係数を有するレジスト下層膜を形成可能なレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法並びに重合体を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］電子求引性基が結合する芳香族構造を有する構造単位（Ｉ）と、ラクトン構造を有する構造単位、環状カーボネート構造を有する構造単位及び環状イミド構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位（ＩＩ）とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。 （もっと読む）

【課題】めっき膜を形成するめっき方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジストパターンを形成する工程、レジストパターン形成面に、下記一般式（１）で表わされる構造単位及び下記一般式（２）で表わされる構造単位を有する重合体を含有する表面改質層を形成する工程、レジストパターンの開口部にめっき膜を形成する工程を有するするめっき方法。


〔式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は単結合又は２価の連結基、Ｒ³は水素原子、水酸基又はアルコキシ基、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵は極性基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】撥水性、溶出量、Ｂｌｏｂ欠陥、ブリッジ欠陥、溶液安定性、溶解性及びパターン形状についての要求特性を維持しつつ、基板からの剥がれ耐性を高め、これらの要求特性をバランス良く満たすことができる液浸上層膜を形成可能な液浸上層膜形成用組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される分子量１００以上１，０００以下の化合物、［Ｂ］フッ素原子を含む構造単位（Ｉ）を有する重合体（ａ）を含む重合体成分、及び［Ｃ］溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】色度特性に優れ、分散性及び保存安定性の良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）キノフタロン系顔料を含む着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される繰り返し単位（１）と、下記式（２）で表される繰り返し単位（２）を含み、アミン価が８０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇである共重合体、及び（Ｃ）架橋剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。


〔Ｒ¹、Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵は脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基、Ｚは−ＮＲ²Ｒ³（但し、Ｒ²及びＲ³は、相互に独立に、水素原子又は置換若しくは非置換の炭化水素基を示す。）、又は置換若しくは非置換の含窒素複素環基を示し、Ｘ¹は２価の連結基を示す。 （もっと読む）

【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン６と、エポキシ基を有する化合物を含む第１の感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂を含有する第２の感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ９と、下式（ＤＡ１）のジアミンを用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜１２とを用いてカラーフィルタ１０を製造し、それを用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】保存安定性に優れる硬化性組成物及び硬化膜の提供。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される化合物、及び［Ｂ］エポキシ基を有する化合物を含有する硬化性組成物。上記［Ａ］化合物は下記式（２）で表されることが好ましい。また、下記式（２）におけるＲ^３が酸素原子であり、Ｒ^４がニトロ基であり、かつｍが１であるか、又はＲ^３が硫黄原子であり、かつｍが０であることが好ましい。さらに、［Ｂ］エポキシ基を有する化合物が、（ｂ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物に由来する構造単位と、（ｂ２）エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構造単位とを有する重合体であることが好ましい。
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【課題】顔料としてクレーを多く含む紙塗工用組成物においてハイシェア粘度が低く、かつ強度も十分に備える組成物を得る。
【解決手段】（Ａ）脂肪族共役ジエン単量体由来の構造単位を２０〜８０質量％、（Ｂ）不飽和カルボン酸単量体由来の構造単位を４〜１５質量％、及び（Ｃ）その他共重合可能な単量体由来の構造単位を５〜７６質量％（但し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量％）有する共重合体を含有し、透過型電子顕微鏡で測定した数平均粒子径が３０〜８０ｎｍ、固形分４８質量％における粘度が５０〜４００ｍＰａ・ｓである、共重合体ラテックスならびにクレーを５０質量％以上含有する顔料を含有することを特徴とする紙塗工用組成物。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥が少なくかつ良好なパターン形状を有するレジストパターンを形成できるフォトレジスト組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）を有するベース重合体、［Ｂ］塩基解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有し、［Ａ］重合体よりもフッ素原子含有率が高い重合体、及び［Ｃ］酸発生体を含有し、上記［Ａ］重合体のポリスチレン換算重量平均分子量が、１０，０００以上４０，０００以下であるフォトレジスト組成物である。上記塩基解離性基は、フッ素原子を有することが好ましい。上記塩基解離性基は、芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。構造単位（ＩＩ）が、下記式（２）で表されることが好ましい。
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【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン６と、エポキシ基を有する化合物を含む感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ９と、下式（ＣＡ）のテトラカルボン酸二無水物成分を用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜１２とを用いてカラーフィルタ１０を製造し、それを用いて液晶表示素子１を構成する。
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