説明

JSR株式会社により出願された特許

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【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン6と、エポキシ基を有する化合物を含む第1の感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜8と、アルカリ可溶性樹脂を含有する第2の感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ9と、下式(DA1)のジアミンを用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜12とを用いてカラーフィルタ10を製造し、それを用いて液晶表示素子1を構成する。
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【課題】保存安定性に優れる硬化性組成物及び硬化膜の提供。
【解決手段】[A]下記式(1)で表される化合物、及び[B]エポキシ基を有する化合物を含有する硬化性組成物。上記[A]化合物は下記式(2)で表されることが好ましい。また、下記式(2)におけるRが酸素原子であり、Rがニトロ基であり、かつmが1であるか、又はRが硫黄原子であり、かつmが0であることが好ましい。さらに、[B]エポキシ基を有する化合物が、(b1)不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物に由来する構造単位と、(b2)エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構造単位とを有する重合体であることが好ましい。
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【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつEL、DOF、CDU及びMEEFに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、5.0以上30.0以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数3〜7のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数3〜10のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】絶縁層を化学機械研磨する際に、絶縁層の物理的性質を変化させずに、材料剥がれやスクラッチなどの表面欠陥が被研磨面に発生することなく精度の高い被研磨面を得ることができる化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに前記化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットを提供すること。
【解決手段】化学機械研磨用水系分散体は、(A)砥粒、(B)キノリンカルボン酸および/またはピリジンカルボン酸、(C)炭素数4以上の脂肪族有機酸、(D)酸化剤、(E)三重結合を有する非イオン性界面活性剤、および(F)分散媒を含有し、前記(A)砥粒が、平均一次粒子径が5〜55nmかつ会合度が1.9〜4.0のコロイダルシリカである。
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【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつEL、DOF、CDU及びMEEFに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、5.0以上30.0以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数3〜7のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数3〜10のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】感度等の基本特性を満足すると共に、MEEFを良好な値としたままDOFにも優れるリソグラフィー特性を有するフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】本発明は、[A]1つの酸解離性基を含む構造単位(I)、及び2つ以上の酸解離性基を含む構造単位(II)を有する重合体、並びに[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。また、上記構造単位(I)が下記式(1)で表され、上記構造単位(II)が下記式(2)で表されることが好ましい。
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【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつEL、DOF、CDU及びMEEFに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が80質量%以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、[A]酸解離性基を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、5.0以上30.0以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数3〜7のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数3〜10のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶媒であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高速応答性等の諸特性に優れたPSA方式の液晶表示素子を形成することができる液晶配向剤、この液晶配向剤から形成された液晶配向膜を備えるPSA方式の液晶表示素子及びこのような液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】PSA方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、[A]下記式(1)で表される基を有する化合物(以下、「[A]化合物」ともいう。)を含有する。


(式(1)中、Rは少なくとも2個の単環構造を有する基である。Rは二重結合、三重結合、エーテル結合、エステル結合又は酸素原子を含む連結基である。aは0〜1の整数である。) (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、MEEF、DOF、LWR等のリソグラフィー性能に優れ、さらには現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、[B]酸発生体、及び[C]界面活性剤を含有するフォトレジスト組成物である。また[C]界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤であることが好ましい。さらに[C]界面活性剤は、フッ素原子又はケイ素原子を含むノニオン系界面活性剤であることが好ましい。
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【課題】感度、解像性等の基本特性のみならず、MEEF、DOF等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、より良好な断面形状のパターンを形成することができるフォトレジスト組成物、及びこの組成物を用いたネガ型のレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(1)フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、(2)上記レジスト膜に露光する工程、及び(3)上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒含有現像液を用いて現像する工程を含むネガ型のレジストパターン形成方法であって、上記フォトレジスト組成物が、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有する。
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