【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、液晶表示素子を提供する。
【解決手段】染料等を含む着色パターン６と、エポキシ基を有する化合物を含む感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜８と、アルカリ可溶性樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されるスペーサ９と、下式（ＣＡ）のテトラカルボン酸二無水物成分を用いて得られるポリアミック酸もしくはポリイミドを含む液晶配向剤から形成される配向膜１２とを用いてカラーフィルタ１０を製造し、それを用いて液晶表示素子１を構成する。
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【課題】本発明は、パターン形成工程におけるレジスト膜の膜減りを抑制すると共に、解像性及びＬＷＲにも優れるフォトレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、有機溶媒を含有する現像液を用いるネガ型パターン形成用のフォトレジスト組成物であって、［Ａ］酸の作用により水酸基となる基を含む構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物である。また、［Ａ］重合体が、酸の作用により、アルカリ水溶液に対する溶解度は増大し、有機溶媒を含有する現像液に対する溶解度は減少する重合体であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつＥＬ、ＤＯＦ、ＣＤＵ及びＭＥＥＦに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、５．０以上３０．０以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数３〜７のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数３〜１０のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高速応答性等の諸特性に優れたＰＳＡ方式の液晶表示素子を形成することができる液晶配向剤、この液晶配向剤から形成された液晶配向膜を備えるＰＳＡ方式の液晶表示素子及びこのような液晶表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ＰＳＡ方式の液晶表示素子における液晶配向膜形成用の液晶配向剤であって、［Ａ］下記式（１）で表される基を有する化合物（以下、「［Ａ］化合物」ともいう。）を含有する。


（式（１）中、Ｒ^１は少なくとも２個の単環構造を有する基である。Ｒ^２は二重結合、三重結合、エーテル結合、エステル結合又は酸素原子を含む連結基である。ａは０〜１の整数である。） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつＥＬ、ＤＯＦ、ＣＤＵ及びＭＥＥＦに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、５．０以上３０．０以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数３〜７のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数３〜１０のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】絶縁層を化学機械研磨する際に、絶縁層の物理的性質を変化させずに、材料剥がれやスクラッチなどの表面欠陥が被研磨面に発生することなく精度の高い被研磨面を得ることができる化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに前記化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットを提供すること。
【解決手段】化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）砥粒、（Ｂ）キノリンカルボン酸および／またはピリジンカルボン酸、（Ｃ）炭素数４以上の脂肪族有機酸、（Ｄ）酸化剤、（Ｅ）三重結合を有する非イオン性界面活性剤、および（Ｆ）分散媒を含有し、前記（Ａ）砥粒が、平均一次粒子径が５〜５５ｎｍかつ会合度が１．９〜４．０のコロイダルシリカである。
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【課題】本発明の目的は、感度を十分に満足し、かつＥＬ、ＤＯＦ、ＣＤＵ及びＭＥＥＦに優れる感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、有機溶媒が８０質量％以上の現像液を用いるレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物であって、上記感放射線性樹脂組成物が、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有し、かつ上記有機溶媒で現像した場合のレジスト感度曲線から算出されるコントラスト値γが、５．０以上３０．０以下であることを特徴とするレジストパターン形成用感放射線性樹脂組成物である。上記有機溶媒は、炭素数３〜７のカルボン酸アルキルエステル及び炭素数３〜１０のジアルキルケトンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】感度等の基本特性を満足すると共に、ＭＥＥＦを良好な値としたままＤＯＦにも優れるリソグラフィー特性を有するフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】本発明は、［Ａ］１つの酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）、及び２つ以上の酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有する重合体、並びに［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。また、上記構造単位（Ｉ）が下記式（１）で表され、上記構造単位（ＩＩ）が下記式（２）で表されることが好ましい。
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【課題】感度、解像性等の基本特性のみならず、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、より良好な断面形状のパターンを形成することができるフォトレジスト組成物、及びこの組成物を用いたネガ型のレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、（２）上記レジスト膜に露光する工程、及び（３）上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒含有現像液を用いて現像する工程を含むネガ型のレジストパターン形成方法であって、上記フォトレジスト組成物が、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有する。
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【課題】良好な電気特性を示すとともに、基板からの剥離性が良好な液晶配向膜を与えることができる液晶配向剤を提供する。
【解決手段】カルボキシル基、ヒドロキシアルキル基、−ＮＨＲ^１（但し、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基である。）及びメルカプト基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの特定基を有するポリオルガノシロキサンである特定基含有ポリオルガノシロキサン（Ｓ１）を液晶配向剤中に含有させる。液晶配向剤中には、ポリオルガノシロキサンとして特定基含有ポリオルガノシロキサン（Ｓ１）のみを含有していてもよいし、その他のオルガノシロキサン（Ｓ２）を更に含有していてもよい。 （もっと読む）