説明

日本電子株式会社により出願された特許

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【課題】実験条件の設定が容易で、自動的にスペクトル編集が行なえるような固体NMRスペクトルの解析方法を提供する。
【解決手段】接触時間τを変化させながら測定を繰り返し、13C-NMR信号の変化を、接触時間τを変数軸とする指数関数型曲線で表わし、この曲線を線形フィッティング法、逆ラプラス変換法、または最大エントロピー法によって解析することにより、13C-NMR信号群をCH2基由来の13C-NMR信号、CH基由来の13C-NMR信号、およびCH3基または四級炭素由来の13C-NMR信号に分離して帰属させる。 (もっと読む)


【課題】本発明は帯電液滴エッチングを用いた試料表面汚染物除去方法及び装置に関し、帯電液滴エッチング銃装着チャンバ内の吸着水を除去することを目的としている。
【解決手段】試料表面に形成された汚染物を除去する装置であって、真空環境下に置かれた試料3に対して、帯電液滴を照射する帯電液滴エッチング銃5と、試料表面に付着した水滴を離脱させるための近赤外ランプ4とを有し、前記帯電液滴エッチング銃5を用いて試料表面に照射させ、その後前記近赤外ランプ4を用いて試料エッチング面に付着した水滴を離脱させるように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は半導体検査装置のレシピ設定支援方法及び装置に関し、各レシピの中身を一つ一つ確認しなくても既存のレシピファイル情報が素速く把握できるようにした半導体検査装置のレシピ設定支援方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】半導体検査装置S6のレシピにおいて、レシピ設定支援情報管理システムS2は、前記レシピファイル情報データベースS2−1及びレシピ設定ノウハウデータベースS2−2を参照して新規レシピの作成や既存レシピの編集を行なう際、既存レシピファイルの情報や蓄積されたレシピ設定のノウハウ情報から指定された条件に関連性の高いレシピ設定情報を検索し、検索の結果に基づいてレシピ作成・編集システムS1でレシピファイルの作成及び編集を行なうように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は電子顕微鏡の可動絞り位置制御方法及び装置に関し、絞りを移動させる場合に直感的な操作を行なうことができるようにした電子顕微鏡の可動絞り位置制御方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子顕微鏡の可動絞りの位置を制御する装置であって、絞りの移動方向を指定する操作部10と、該操作部10からの指定に基づいて絞りの移動方向の補正制御を行なうCPU12と、絞りの移動方向データと絞りの移動方向に対する位置ずれを補正するための補正データが記憶された光学系条件テーブル11よりなり、前記CPU12は前記操作部10からの移動方向の指定に応じて前記光学系条件テーブル11を参照して、可動絞り14の位置が前記操作部10で指定した移動方向になるように補正演算を行ない、該補正演算の結果の駆動データで可動絞り用モータ13を駆動するように構成する。 (もっと読む)


【課題】 試料に電子線を照射してX線分析を行なう電子線装置において、高感度のX線検出を行なうと共に、試料とX線検出器の装置への脱着を簡易に行なうことのできる試料ホルダを提供する。
【解決手段】 サイドエントリー型の試料ホルダSHの先端部に試料台支持部材31で支持されたシリコンドリフト型X線検出器を組み込む。X線検出素子1の上に分析試料Sを直接載置する。試料位置移動はレバー32により試料台支持部材31を動かすことにより行なう。電子線EBにより試料Sから発生した特性X線は、試料の直下にあるX線検出素子1により高感度で検出される。 (もっと読む)


【課題】マスクパターン描画方法及び装置に関し、マスクにパターンを正確に描画するためのマスクパターン描画方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】素子領域層とゲート層とにより構成されるマスクパターンを作成する場合に、ゲート層パターンから素子領域層パターンのインコーナーまでの距離Dを算出する手段と、該距離Dがある一定の距離D0より短い場合には、素子領域層パターンのインコーナーから、ゲート層パターンと重なる素子領域層までを領域F1、それ以外の領域を領域F2と分割する手段と、前記距離Dがある一定の距離D0より長い場合には、ゲート層パターンと重なる素子領域層パターンを領域F1、それ以外の領域を領域F2と分割する手段と、前記領域F1と領域F2とでショットする最大ショットサイズを変えて素子領域層用マスクにパターン描画を行なうように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は3次元画像取得方法及び装置に関し、分解能を向上させることができるトモグラフィー法を用いた試料の3次元画像取得方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】走査透過型電子顕微鏡において、試料の3次元画像を得る3次元画像取得手段を設け、該3次元画像取得手段を用いて試料の第1の3次元画像を得、次に、試料を裏返して該3次元画像取得手段を用いて試料の第2の3次元画像を得、得られた試料の第1の3次元画像と第2の3次元画像とから試料の3次元画像を得る、ように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明はグリッドを用いた試料ホルダに関し、隔膜型ガス雰囲気試料ホルダの試料の上下に配置する隔膜を貼り付けたグリッドのアライメント調整を容易に行なうことができるグリッドを用いた試料ホルダを提供することを目的としている。
【解決手段】隔膜型ガス雰囲気試料室を有する試料ホルダにおいて、試料36を挟む形で形成された試料の上側及び下側に取り付けられた、その中央部に電子線透過用の複数の孔37が穿たれ、その任意の領域にその回転を規制するための規制手段が設けられたグリッド31と、該グリッド31が試料ホルダ30に位置決めされるために、試料ホルダ30に設けられたくぼみ32と、前記規制手段に嵌り込む位置決め用ガイドピン33と、試料室を周囲の高真空環境からシールするためのOリング35とを有して構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明はモノクロメータのスリット位置制御装置に関し、モノクロメータの調整を短時間で行なうことができるようにしたモノクロメータのスリット位置制御方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】入射した荷電粒子線を受けて、エネルギー分散を起こさせるエネルギーフィルタを有し、エネルギー分散面上に設置したエネルギー選択スリットを介して所望のエネルギー幅の電子線を取り出すようにしたモノクロメータにおいて、前記エネルギー選択スリット22に流れる電流を検出する電流検出手段4と、該電流検出手段4により検出した電流値が最小となるように前記エネルギー選択スリット22の位置を制御するスリット位置制御手段5、とを有するように構成される。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線装置において高い引出電圧で動作可能で、且つ、エミッタンスを向上させたエミッタ、およびその製造方法、並びに、当該エミッタを備える荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】エミッタ1の周囲に希ガスを導入し、エミッタ1と引出電極29の間に9kV以上の所定の引出電圧を印加して該引出電圧を一定に保ち、エミッタ1からのエミッションパターンを観察すると共に、エッチングガスを導入してエミッタ1の先端をエッチングし、
このエッチングの間にエミッションパターンが、前記エミッタの構成原子による三量体又は単量体のスポットを示し、このスポットのサイズ及び強度が他の構成原子のスポットよりも大きくなった時点で前記エッチングガスの導入を停止する。 (もっと読む)


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