説明

日本電子株式会社により出願された特許

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【課題】 本発明は除振機構に関し、装置の高さを増やすことなく、除振性能を向上させることができる除振機構を提供することを目的としている。
【解決手段】 精密装置で、ターボポンプ等の振動発生を伴う装置を利用する時に必要とされる除振機構であって、2段以上のダンパを直列構成で用いる真空シール用ベローズを利用するものにおいて、前記ベローズを同心状に配置する構成と、真空圧による力を支持するゴム部材の一方を除振対象の外側に配置する構成と、を含んで構成される。 (もっと読む)


【課題】発光量の大きい化合物を提供する。
【解決手段】本発明にかかる化合物は、下記一般式(1)で表される。
【化1】


(式中、Rは、炭素数1〜6のアルキル基を表し、Rは、炭素数6〜12のアリール基の置換または未置換のものを表し、Rは、炭素数2〜6のアルキレン基を表し、Rは、窒素を含み、カルボニル結合またはチオエーテル結合によってスクシンイミド基に結合する有機基を表し、Xは、対イオンを表し、nは、1〜7の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】高分解能観察において、収差の変化を伴う時間的遅延を最小に留め、且つ、収差係数の算出精度が高い収差補正方法及び収差補正装置の提供を目的とする。
【解決手段】収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡において、複数の検出面を備える検出器に対して電子線を入射させ、前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像し、前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出し、算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する。 (もっと読む)


【課題】 焦点合わせを良好に行える電子顕微鏡における焦点合わせ方法および電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 対物レンズ電流値がx+Δxに設定された状態において、焦点合わせ部13は、電子線傾斜前後の像移動量Dを求める。次に対物レンズ電流値がxに設定された状態において、焦点合わせ部13は、電子線傾斜前後の像移動量Dを求める。次に対物レンズ電流値がx−Δxに設定された状態において、焦点合わせ部13は、電子線傾斜前後の像移動量Dを求める。そして、焦点合わせ部13は、その求めた像移動量D〜Dに基づき、対物レンズをジャストフォーカス状態にするための対物レンズ電流値を求める。 (もっと読む)


【課題】本発明は荷電粒子ビーム描画方法及び装置に関し、より高精度に近接効果補正が実施できる電子ビーム描画方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】近接効果補正を実施する荷電粒子ビーム描画装置において、描画領域を分割した領域に含まれる描画パターンをショート単位に分割し、該ショット単位の描画パターンについて、ショット単位の描画パターン(ビーム図形)のサイズに応じて予め決められているリサイズ値でリサイズ処理し、該リサイズ処理したショット単位の描画パターンに基づき近接効果補正量を算出する近接効果補正量算出工程と、該近接効果補正量に基づいて荷電粒子ビームのショット時間を制御すると共に、前記リサイズ処理したショット単位の描画パターンに基づいて荷電粒子ビームのサイズ及び位置を制御して、所望のパターンを描画する描画工程とを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は走査プローブ顕微鏡を用いた試料の磁気力測定方法及び装置に関し、任意のリフト量を設定した際、最適なカンチレバ加振電圧を自動的に求めることができる走査プローブ顕微鏡を用いた試料の磁気力測定方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】走査プローブ顕微鏡で、試料表面の形状を測定後、試料20とカンチレバ1間の距離を変化させて試料表面の磁気力測定を行なう磁気力測定装置において、磁気力測定の前に、カンチレバ1の加振電圧と試料20とカンチレバ間の距離の関係を求めて記憶しておく記憶手段と、試料20のリフト量を設定して磁気力測定を行なう際、設定したリフト量に対応するカンチレバ加振電圧を前記関係から求めて現加振電圧を修正する加振電圧修正手段、とを具備して構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は電子線装置の位置決め方法及び装置に関し、周期的な揺らぎを減少させることができる電子線位置決め方法及びその機能を具備する電子線装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子線を発生させる電子源1と、当該電子線を加速、減速、収束及び偏向させる光学系と、当該電子線を走査し、またはブランキング制御するための制御系と、前記電子線が照射される材料7を保持するためのステージ6と、該ステージ6の位置を計測するためのステージ測長系16aと、前記材料7から放出される電子線を検出する電子検出部18と、該電子検出部18から得られた検出信号を処理するための信号処理系19とからなる電子線装置において、前記ステージ測長系16aからの補正信号に振幅と位相を調整可能な周期信号を加算するように構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は荷電粒子ビーム装置の非点収差補正方法及び該補正方法を用いた荷電粒子ビーム装置に関し、非点収差補正を確実に行なうことを特徴としている。
【解決手段】荷電粒子ビーム2を試料室14内に配置された試料4に照射し、該試料4から照射により発生した2次的電子を検出してその画像を表示手段10に表示するようにした荷電粒子ビーム装置において、前記試料4から発生した2次的電子を検出する電子検出手段7と、該電子検出手段7の出力を受けて画像の信号特性を評価し、その評価値が最大になるような非点収差補正値を算出する非点収差評価演算手段9と、該非点収差評価演算手段9の出力を受けて、この出力を平滑化する緩和フィルタ12と、該緩和フィルタ12の出力を受けて非点収差補正コイル6を駆動する非点収差補正コイル駆動手段11と、を有して構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は電子ビーム描画装置の描画方法及び電子ビーム描画装置に関し、ビーム漏れとビームプロファイルのすそ野(レジスト中に蓄積するエネルギーのすそ野を含む)によるパターン寸法への影響を照射時間で補正することにより、より高精度の描画方法を提供することを目的としている。
【解決手段】ビーム漏れ、ビームプロファイルのすそ野を含んだ近接効果補正では、入射エネルギーと解像しきい値の関係を表わす係数に基づいた入射エネルギーと、後方散乱による蓄積エネルギーと、ビームオフ時に発生するビーム漏れによる蓄積エネルギーと、ビームオン時に発生するビーム漏れによる蓄積エネルギーと、ビームプロファイルのすそ野による蓄積エネルギーの和が一定となるように、ビーム漏れ、ビームプロファイルのすそ野補正を含んだ近接効果補正による補正量Smodを求める、ように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明はオージェ像収集方法及び装置に関し、S/N比のよいオージェ像を得ることを目的としている。
【解決手段】試料3に電子ビームを照射し、該試料3の表面から放出される二次的電子を分光器4によりエネルギー分光し、該分光した各エネルギーの二次的電子を検出器4bによりカウントするようにしたオージェ電子分光装置であって、前記検出器4bを複数用意し、前記異なるエネルギーの電子を同時にカウントするようにしたオージェ電子分光装置において、前記複数の検出器4bによりカウントされたデータに基づいて、エネルギー値毎に各検出器(チャネル)のカウント数のテーブルを作成し、該テーブルを用いてピークのチャネルとバックグラウンドのチャネルの組み合わせと、各組み合わせのS/N比を求め、最もS/N比が高い組み合わせを選択してピーク強度を算出するように構成する。 (もっと読む)


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