説明

富士電機株式会社により出願された特許

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【課題】全体の小型化を可能とする光走査装置を提供すること。
【解決手段】被写体に照射する照射光が入射し所定方向へ反射する第1の反射面を有し、該第1の反射面で反射する照射光を第1の軸方向に走査するように前記第1の反射面を回転駆動させる第1のマイクロスキャナ(10)と、一方の集光点が前記第1の反射面上の照射光位置に設定され、他方の集光点が前記第1のマイクロスキャナ(10)と干渉しない位置に設定された凹面鏡(50)と、前記凹面鏡(50)の他方の集光点に配置された第2の反射面を有し、前記凹面鏡(50)から前記第2の反射面に入射して反射する照射光を第1の軸方向と異なる第2の軸方向に走査するように前記第2の反射面を回転駆動させる第2のマイクロスキャナ(20)と、を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】インバータスタックと配電盤とを連結する出力端子構成の変更を簡単に行うことが可能なインバータ装置を提供すること。
【解決手段】インバータスタック10と配電盤50とを備え、インバータスタック10は、三相の出力端子と、負荷に接続された出力電線55が取り付けられた出力中継端子53とを中継する出力中継部として、出力端子からの三相の出力をそのまま出力中継端子53に出力可能な三相出力中継バー(81)と、三相出力中継バーをインバータスタック10に固定させる固定金82とがユニット化された第1出力中継ユニット80と、出力端子からの三相の出力を単相として出力中継端子53に出力可能な単相出力中継バー(91)と、単相出力中継バーをインバータスタック10に固定させる固定金(92)とがユニット化された第2出力中継ユニット(90)とのうち択一的に選択されたものが用いられている。 (もっと読む)


【課題】リーク不良の発生を抑制でき、かつ薄型基板を用いることができる半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ30を、半導体基板35の表層部に形成された第1導電型層34と、第1導電型層34の表面に形成されたゲート絶縁膜37と、ゲート絶縁膜37上に形成されたゲート電極38と、半導体基板35の主表面35a上に配置され、主表面35aの一部を露出させるコンタクトホール42が形成された層間絶縁膜41と、層間絶縁膜41上に配置され、コンタクトホール42を介して半導体基板35と接続されるアルミニウムを有する材料で構成される上部電極43と、上部電極43上に形成されたニッケルを有する材料で構成されるメッキ膜44と、半導体基板35の裏面35bに形成された下部電極46とを有する構成とする。そして、上部電極43のうちコンタクトホール42に形成されている部分の膜厚tを2μm以上にする。 (もっと読む)


【課題】高濃度のダストや水分が存在する測定環境であっても測定対象ガスの濃度を正確に測定可能なガス分析装置を提供する。
【解決手段】レーザ素子204と、測定対象ガスの吸収スペクトルを含む波長領域のパルス信号に高周波変調信号を重畳して得た高周波変調パルス信号を発生するパルス信号発生手段と、高周波変調パルス信号をレーザ素子204に印加して高周波変調パルス光を出射させるレーザ駆動手段と、高周波変調パルス光をコリメートして測定対象ガスが存在する煙道内部1等の測定対象空間に照射するレンズ205等のレーザ光学系と、煙道内部1を介して受光した高周波変調パルス光を電気的な受光信号に変換するためのレンズ206、受光素子207等の受光手段と、前記受光信号から測定対象ガス濃度を検出するガス濃度検出手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】コストの低減化を図りながら、より簡単にインバータスタックを配電盤に設置することが可能な運搬用カートを提供すること。
【解決手段】インバータスタック10を設置対象となる配電盤50まで搬送し、かつ配電盤50に設置するための運搬用カート1であって、配電盤50におけるインバータスタック10の載置面51と同じ高さレベルを有し、かつインバータスタック10を載置した状態で支持する支持面3と、支持面3より外方に突出する態様で設けられ、かつ自身が載置面51間に形成された進入部52に進入することで水平方向の位置決めを行う突出部3aとを備えたものである。 (もっと読む)


【課題】接点部に流れる電流の向きにかかわらず十分なアーク消弧機能を確保しながら小型化することが可能な電磁接触器を提供する。
【解決手段】所定間隔を保って配置された一対の固定接触子111,112及び当該一対の固定接触子に対して接離自在に配設された可動接触子130を絶縁材で形成された接点収納ケース102内に収納した接点装置100を備え、前記接点収納ケース内における前記可動接触子に沿う対向内周面にそれぞれ互いの対向磁極面を同一極性に着磁した一対のアーク消弧用内側永久磁石143,144を前記可動接触子に近接させて配置するとともに、前記接点収納ケースの外周面における前記アーク消弧用内側永久磁石に対向する位置に当該アーク消弧用内側永久磁石と同極性で且つ当該アーク消弧用内側永久磁石より保磁力が大きい一対のアーク消弧用外側永久磁石151,152を配置した。 (もっと読む)


【課題】回路規模が小さくて遅延が少なく且つ特性に与える素子バラツキの影響が小さいDC-DCコンバータの異常電流防止回路を提供する。
【解決手段】電流検出抵抗12を流れる電流を所定の基準電流と比較して過電流の有無を判定する電流コンパレータ30を備える。検出抵抗12の電圧は通常時(正常時)には負電圧であるが異常時に逆電流が生じた場合には正電圧が現れるようになる。電流コンパレータ30は検出抵抗12の電圧を監視し、検出抵抗12の電圧が負電圧の間はハイ出力をラッチ10を介してAND回路20に送ってPWM比較器9の出力信号がローサイド側スイッチ素子14,19に伝わるようにし、検出抵抗12の電圧が正電圧になると電流コンパレータ30の出力電圧はローになり、ローサイド側スイッチ素子14,19を強制的にOFFにする。 (もっと読む)


【課題】直流−直流変換回路の同期整流回路においては、スイッチング時のサージ電圧を抑制するために、同期整流用MOSFETの両端にスナバを設けるが部品点数が増加し、装置が大型になる。
【解決手段】従来から用いられている同期整流回路制御用ICの電源に接続されているコンデンサが同期整流用MOSFETと並列接続されるように逆阻止形半導体スイッチを用いて回路を構成する。この逆阻止形半導体スイッチは、同期整流用MOSFETの駆動信号又は同期整流用MOSFETの両端電圧と同期した信号と、IC電源に接続されたコンデンサ電圧をICの上限と下限の許容値内に制御する信号とで駆動する。 (もっと読む)


【課題】ワイヤボンディング時のストレスでボンディングパッド下の絶縁層のダメージを電気的に検出できる半導体装置および導入されたダメージを検出して良品、不良品を判定できる半導体装置の試験方法を提供すること。
【解決手段】酸化膜4上にポリシリコン5を配置し、このポリシリコン5にpnダイオード9を形成し、nカソード層6上に層間絶縁膜10を挟んで第1ボンディングパッド11を配置する。また、pアノード層7上に第2ボンディングパッド12を配設することで、層間絶縁膜10に導入されるダメージが層間絶縁膜10を貫通するか否かを電気的に検出できる半導体装置(パワーICなど)とすることができる。 (もっと読む)


【課題】被検体の破壊後に継続電流による被検体の損傷拡大や試験回路の損傷を抑制可能な半導体試験装置を提供する。
【解決手段】電源部21と被検体10との間に設けられ、被検体10の破壊時に被検体10に流れる電流を遮断する半導体スイッチ22aのターンオフ時に発生するサージ電圧を吸収するスナバ回路として、放電阻止型のスナバ回路23を用いることで、半導体スイッチ22aがターンオフ後に流れる継続電流を減少でき、被検体10の損傷の拡大及び試験回路の損傷が抑制される。 (もっと読む)


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