説明

古河電気工業株式会社により出願された特許

3,421 - 3,430 / 4,457


【課題】圧縮機を必要としないケーブル導体接続方法を提供する。
【解決手段】周方向に等角度間隔で形成した4個1組のねじ穴を、軸線方向に間隔をあけて2組形成した導体接続スリーブ2を使用する。この導体接続スリーブ2にケーブル導体1を挿入した後、次の順序で各ねじ穴にねじ込まれた雄ねじの締め込みを行う。一方のねじ穴の組では、まず第一の雄ねじ3aを締め込んでケーブル導体1をその雄ねじ3aと反対側のスリーブ内周面に押し付け、次に第一の雄ねじ3aの両側に位置する第二、第三の雄ねじ3b、3cを締め込み、最後に第四の雄ねじ3dを締め込む。他方のねじ穴の組では、第一の雄ねじ3aと反対側付近に位置する第五の雄ねじ3eを締め込んでケーブル導体1をその雄ねじ3eと反対側のスリーブ内周面に押し付け、次に第五の雄ねじ3e両側に位置する第六、第七の雄ねじ3f、3gを締め込み、最後に第八の雄ねじ3hを締め込む。 (もっと読む)


【課題】基板面に垂直方向に形成された複数の活性層に流れる電流の水平方向の調整の精度を高めることができる半導体発光素子を提供すること。
【解決手段】第1の一導電型クラッド層3、第1の活性層5及び第1の反対導電型クラッド層7が順に形成され、第1の反対導電型クラッド層7の上に第2の一導電型クラッド層11、第2の活性層13及び第2の反対導電型クラッド層15が順に形成され、さらに、第1の反対導電型クラッド層7と第2の一導電型クラッド層11の間に部分的に形成されたトンネルジャンクション層10とを有する。 (もっと読む)


【課題】炉心管内部を正圧状態に維持するために必要な不活性ガスの供給量を低減できるガラスロッド延伸装置およびガラスロッド延伸方法を実現できること。
【解決手段】本発明にかかるガラスロッド延伸装置100は、加熱炉1の炉心管4内に導入したガラスロッド15を加熱処理し、この加熱処理によって溶融軟化したガラスロッド15を所望の外径に延伸加工し、この延伸加工後のガラスロッド(延伸済みロッド15a)を炉心管4から引き出すものである。このようなガラスロッド延伸装置100では、加熱炉1の引出口側の下部開口部3bと支持棒17および下部チャック19との間を伸縮自在な筒部2によって覆い、炉心管4の内部空間に連通する閉空間を形成する。 (もっと読む)


【課題】配管系の設置費用をより低減することにより、一層低コストの燃料電池コジェネレーションシステムを提供すること。
【解決手段】電解質膜を加湿湿潤化するための水を供給する加湿水配管を有する燃料電池ユニットと、当該燃料電池ユニットで発生した熱を回収する熱回収ユニットとを備え、前記熱回収ユニットにおける冷却水配管中の熱交換器内の管路上に結露した凝縮水を供給配管を通じて前記加湿水配管へ供給するように構成し、前記熱交換器内の管路,前記凝縮水の供給配管の管路及び前記加湿水配管の管路を銅又は銅合金により構成し、前記熱交換器内の管路の外面,前記の供給配管の管路の内面及び前記加湿水配管の管路の内面には銅イオン溶出抑止手段を施したことを最も主用な特徴としている。 (もっと読む)


【課題】結晶成長装置へ負担をかけず、かつデバイス特性の劣化やばらつきを生じさせずに、凹型形状を表面に有する半導体部の表面にその凹型形状を維持して半導体層を成長した半導体素子を製造できる半導体素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】(001)面を有する底面と低指数面を有する内側面とで形成された凹型形状を表面に有する凹型半導体部を形成する凹型半導体部形成工程と、前記凹型半導体部の表面に、エチル基を有する成長原料を用いて、前記成長原料の再蒸発領域の温度で半導体層を成長する半導体層成長工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】逆引きタイプの剛性筒体に用いても、剛性筒体を解体する時の拡径保持材の引抜き力を適切に管理できる筒状ゴムユニット拡径保持材を提供する。
【解決手段】断面略矩形の紐状部2の一方の側面に外周側噛み合い片3Gを形成し、他方の側面に内周側噛み合い片3Nを形成してなる筒状ゴムユニット拡径保持材1において、内周側噛み合い片3Nの一部に変形容易な易変形部30を設ける。この拡径保持材1で逆引きタイプの剛性筒体を形成すると、拡径保持材1を引き抜いて剛性筒体を解体するときに、内周側噛み合い片3Nが内側へ容易に倒れ、外周側噛み合い片3Gが外れやすくなるので、拡径保持材1の引抜き力が弱くて済む。 (もっと読む)


【課題】接続端子の摺動部などに好適なめっき材料、および前記めっき材料を用いて挿抜性を改善した、嵌合型多極コネクタなどの電気電子部品を提供する。
【解決手段】導電性基体1上にNiなどの下地層2が設けられ、その上に銅または銅合金の中間層3が設けられ、その上にCu−Sn金属間化合物からなる最外層4が設けられためっき材料5。めっき材料5を、端子などの摺動面に用いたとき、最外層4が硬質のCu−Sn金属間化合物層からなるため、端子間の接触圧力を小さくしても、フレッティング現象が起き難い。従ってめっき材料5を摺動面に用いた端子はめっき層を薄くするなどして挿抜性を高めることができる。めっき材料5は、製造中または使用中の基体成分の熱拡散が前記下地層2により防止され、下地層成分の熱拡散が中間層3に阻止されるので、最外層4のCu−Sn金属間化合物層が汚染されず、その機能が良好に保持される。 (もっと読む)


【課題】本発明は放熱性、加工精度、加工性を高めることができ、小径のスルーホールの形成を容易にすることができるメタルコアプリント配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のメタルコアプリント配線板は、金属コア層1と、金属コア層1上に形成された絶縁層3と、絶縁層3の表面上に形成された第1の導体層4と、絶縁層1の裏面上に形成された第2の導体層5とを有し、第1の導体層4及び第2の導体層5を貫通するスルーホール6が形成され、金属コア層1には、スルーホール6の貫通位置に厚さの薄い薄肉部1aが形成されている。薄肉部1aの厚さは、第1の導体層4及び第2の導体層5の厚さと略同一であるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】銅箔と低融点金属を含む導電性ペーストとの界面に生成する低融点金属の拡散層を抑え、銅箔と導電性ペーストとの界面にボイドや亀裂が発生しない銅箔、および該銅箔の製造方法を提供する。
【解決手段】元箔表面に、結晶方位が、X線回折法により測定した111面がもっとも多く、111面と200面との結晶方位の積分強度比率(111面/200面)が3以上である突起物群を設けた銅箔である。前記銅箔は、元箔表面に、過硫酸塩を0.1g/L以上20g/L以下の比率で添加した硫酸銅めっき液を用いて、電気めっき法にて析出させて製造する。
【選択面】なし (もっと読む)


【課題】本発明は回路基板の高密度化及び回路基板に形成される回路パターンの配策自由度を向上させることができる回路基板構造及び電気接続箱を提供する。
【解決手段】本発明の回路基板構造では、端子ホルダ5の底面に凹部5aが形成され、端子ホルダ5の凹部5aと回路基板1の表面との間に、正面側と背面側とを貫通する空間部7が形成され、その空間部7は、空間部7内の回路基板1上に抵抗、ダイオード、コンデンサなどの低背部品3aを実装することが可能な大きさに形成されている。 (もっと読む)


3,421 - 3,430 / 4,457