説明

株式会社日立プラントテクノロジーにより出願された特許

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【課題】ガス処理槽内でバイオフィルムの形成を防止することにより、良好な処理効率を保持するようにしたガス処理装置を提供すること。
【解決手段】ガス処理槽1の内部壁面、あるいは担体保持板3にバイオフィルムが形成されないように、これらを掻き取り具9により摺擦して、付着した微生物を掻き落とす掻き取り装置を設ける。 (もっと読む)




【課題】高い除電性能を得るためのイオン発生装置及びそれを用いた除電装置を提供する。
【解決手段】イオン発生装置14は、ケーシング34と、ケーシング34の一方端に設けられ、他方端に向けて送風を行うファン36と、ケーシング34の内部に設けられ、第1放電針42を有する第1放電部40と、ケーシング34の内部に設けられ、ファン36による送風方向に対して第1放電部40の下流側に配置され、第2放電針52を有する第2放電部50と、第1放電針42が接続される高圧電源48と、第1放電針42と第2放電針52との間に接続されるコンデンサ58と、を備える。 (もっと読む)






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