【課題】比較的低温で液晶性を発現させることが可能な液晶性ポリイミド、及びこれを含有する液晶性樹脂組成物、さらにはこれを含有する半導体素子用樹脂膜を提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）によって示される繰り返し単位を少なくとも一部に含み、かつ液晶性を示すことを特徴とする液晶性ポリイミド。


（前記式（Ｉ）中、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立に、テトラカルボン酸単位の４価残基であり、Ｂ^１は下記式（II）で示されるビス（アミノ）ポリシロキサン単位の残基であり


Ｃ^１は有機ジアミンの残基である。） （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂基材上に表面保護層を形成した積層体において、透明性を損なうことなく表面保護層の密着性を改善する。
【解決手段】熱可塑性樹脂基材上に、１層以上の表面保護層を形成してなる積層体において、該熱可塑性樹脂基材の表面保護層形成面の表面粗さＲａが０．０３５以上２．０以下である積層体。熱可塑性樹脂基材の表面保護層形成面の表面粗さＲｚは好ましくは０．２５以上８以下であり、積層体のＨａｚｅは好ましくは１０以下である。 （もっと読む）

【課題】 偏光膜などの異方性膜に有用な、主に短波長領域で二色性が高く、耐久性に優れた異方性膜用化合物を提供する。
【解決手段】 遊離酸の形が、下記式（Ｉ）で表される異方性膜用化合物。


（上記式（Ｉ）において、Ａｒ^１及びＡｒ^２はフェニレン基、ナフチレン基又は複素環基。ｊ及びｋは０〜２の整数。Ｌ^１及びＬ^２は−（ＣＨ＝ＣＨ）ｒ−基又は−（Ｃ≡Ｃ）ｓ−基、ｒ及びｓは１〜５の整数。Ｘ^１及びＸ^２は水素原子又は有機基。Ｙはアゾ基又はアゾキシ基。ｍ、ｎ、ｐ及びｑは０又は１。） （もっと読む）

【課題】特に有機酸の存在下で適用可能な、有機物を含む気体または液体の混合物の分離・濃縮することができ、また高いエネルギーコストを要することなく経済的で、かつ適用範囲が限定されない、実用上十分な処理量と分離性能を両立するゼオライト膜複合体、その製造方法、およびその膜複合体を用いた分離、濃縮方法を提供することを課題とする。
【解決手段】無機多孔質支持体−ゼオライト膜複合体であって、無機多孔質支持体がセラミックス焼結体を含み、かつゼオライト膜として無機多孔質支持体表面にＣＨＡ型ゼオライト結晶層を有することを特徴とする無機多孔質支持体−ゼオライト膜複合体による。 （もっと読む）

【課題】ビニルピリジン類とチオ尿素とを反応させてイソチオロニウム塩を得、得られたイソチオロニウム塩を加水分解してピリジルエタンチオール化合物を製造する方法において、ピリジルエタンチオール化合物を高収率で製造すると共に、製造設備における固着物の生成、配管閉塞等の問題を防止して、運転効率、生産効率の向上を図る。
【解決手段】ビニルピリジン類とチオ尿素とを、水及び炭化水素系溶媒の存在下に反応させる。反応系に水と共に炭化水素系溶媒を存在させることにより、ピリジルエタンチオール化合物を高収率で得ると共に、製造設備における固形分の析出、生成が防止され、この固形分が装置内壁に付着したり、隅部や狭幅部に滞留したりすることによる、送液障害や配管閉塞の問題も防止される。 （もっと読む）

【課題】高シリカのＣＨＡ構造をもつアルミノシリケートの安価で効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】１−アダマンタンアミンから誘導されるカチオン、Ｓｉ元素源、アルカリ金属源、Ａｌ元素源および水を含む混合物の水熱合成により、ＣＨＡ構造を有し、Ａｌ₂Ｏ₃に対するＳｉＯ₂のモル比が５以上のアルミノシリケートを製造する方法において、該反応混合物におけるＳｉ元素に対する１−アダマンタンアミンから誘導されるカチオンのモル比が０．００１以上０．０５以下、かつＳｉ元素に対するアルカリ金属のモル比が０．３以上の条件で水熱合成を行う。 （もっと読む）

【課題】導電性支持体内面に付着した感光層塗布液があっても、短時間で、パレットを汚損することのない導電性支持体とすることができる電子写真感光体の製造方法を提供する。
【解決手段】中空である導電性支持体（１）に感光層塗布液を塗布、乾燥させて電子写真感光体を製造する方法であって、導電性支持体に感光層塗布液を塗布した後、導電性支持体の中空である内側に気流を発生させる工程（Ｓ２）を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＩＩ族窒化物結晶半導体基板の裏面を簡単にかつ均一に粗化することができるＩＩＩ族窒化物結晶半導体基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ＩＩＩ族窒化物結晶半導体基板の製造方法において、１）ＩＩＩ族窒化物結晶のＮ面を研削及び／又は研磨する工程と、２）該Ｎ面に不揮発性有機物を付着させた後にエッチングを行う裏面処理工程とを含む。これにより、ＩＩＩ族窒化物結晶半導体基板はＮ面に多角錐が均一に形成され、その高さもおおよそ揃っており、マクロ的に見るとＮ面が均一に粗化されるので、ＩＩＩ族窒化物結晶半導体基板上にエピタキシャル層を成長させる際の基板とサセプタと密着度が良好で、温度分布が均一になりやすく、エピタキシャル層を均一に成長させることができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、熱的、化学的に極めて安定で、効率的な研磨処理が極めて困難な炭化珪素を、非常に高速に平坦化できる研磨処理技術を提供する。
【解決手段】本発明は、ｐＨ６．５以上で、二酸化マンガンの粒子が懸濁された懸濁液からなる炭化珪素の研磨液である。また、その炭化珪素の研磨液は、二酸化マンガンとして存在できる範囲の酸化還元電位とした水溶液中に二酸化マンガンの粒子が懸濁された物が好ましい。そして、その酸化還元電位Ｖは、ｐＨを変数としたＶ、ｐＨの関係式；１．０１４−０．０５９１ｐＨ≦Ｖ≦１．６２０−０．０７４３ｐＨの範囲であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】２０％以上の高含水率の含水有機化合物への耐久性があり、高透過流束、高選択率、好ましくは耐酸性を持つ耐熱性、耐薬品性に優れたゼオライト膜を用いた膜分離手段を含む分離方法および分離装置を提供する。
【解決手段】含水率２０質量％以上の含水有機化合物を、ゼオライト膜を有する膜分離手段へ導入し、含水有機化合物から水を分離する方法であって、ゼオライト膜が、ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３モル比が５以上であり、骨格構造として酸素６〜１０員環構造を有し、フレームワーク密度が１０以上１７以下であるゼオライトを含むことを特徴とする分離方法および該分離方法などを行うための装置。 （もっと読む）