説明

TOTO株式会社により出願された特許

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【課題】 吐水口が手洗鉢開口部より突出した給水部材にとりつけられ、ロータンクの上部に蓋装される手洗鉢において、前記手洗鉢に突出させる給水部材の位置決めを行なうために凹または凸形状を開口部にもうけたことを特徴とするロータンクの手洗鉢を提供する。
【解決手段】 吐水口10を手洗鉢開口部より突出した給水部材8に取付けたロータンクの手洗鉢6において、手洗鉢開口部に位置決めを行なうために凹または凸形状7dを設け、給水部材挿入部分に凸または凹形状を設けた。開口部に設けられた凸または凹形状7dに給水部材を位置決めすることによって、手洗鉢6の鉢面裏の位置決め用の突起を設ける必要がないので、手洗鉢背面の立ち壁を別部材にすることなく、開口部を設けることなく、容易に給水部材を手洗鉢に組み立てることができる。 (もっと読む)


【課題】 逆流防止弁と定流量弁とを一体化し、構造が簡単でコンパクトなスペース内に配設することが可能となる逆流防止弁付定流量弁を提供する。
【解決手段】 流体流入口と流体流出口とを備え流路を構成する本体ケースと、前記本体ケース内に配設した逆流防止弁と、前記本体ケース内で前記逆流防止弁の2次側に配設した定流量弁とを一体的に構成したことを特徴とする逆流防止弁付定流量弁。 (もっと読む)


【課題】 抗菌処理部全体に亘り充分な抗菌効果を発揮可能とする施釉製品及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材表面に着色性釉薬原料を適用する工程と、抗菌性金属が光還元担持された光触媒粒子が配合された透明性釉薬原料を前記着色釉薬層上に適用する工程とを含むことを特徴とする施釉製品の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 ラップ式タイル及びその製造用型装置
【解決手段】 面板部の上面にリブを背部側に屈曲形成すると共に下端の裏面に尾部を備えるラップ式のタイルにおいて、リブの上端縁部分と前記尾部の下端縁部分の圧縮比が同じとなる形状肉厚として成形する。また、面板部の全体をその側縁部と同じ一様な肉厚とすることによって、タイルの幅方向に肉厚を均等化することにより、プレス後及び焼成後の変形を抑制する。また、型装置には、係合部のアリ状の傾斜面を形成するための弾性変形可能な膨出層を設けることによって、プレス成形によっても鋭角状の傾斜面を持つ係合部を形成可能とする。 (もっと読む)


【課題】 簡易的に殺菌性金属イオン水を生成する小型の携帯用殺菌水生成器を提供する。
【解決手段】 携帯用殺菌水生成器において、殺菌性の金属イオンを電解溶出する金属からなる電極を少なくとも一つ含む一対以上の電極と、殺菌水を貯留し電極を内部に有する小型の容器内と、殺菌水を外部に吐出させる吐出部と前記電解溶出を制御する制御部を設けるようにするとともに、電極に容器内の殺菌水を攪拌する攪拌手段を持たせた。 (もっと読む)


【課題】 消耗製品等を廃棄処分する前に、製品に貼着された貼着シートを、容易に剥離することのできる貼着シートを提供することを目的とする。
【解決手段】 消耗製品の説明用等として製品に貼着する貼着シートにおいて、該貼着シートの端縁の少なくとも一部に容易剥離部を形成したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 局部洗浄装置10は、洗浄水への空気混入により節水の実効性を高めると共に、空気の混入の際に空気混入率の急激な変動に伴う不快感を生じさせない。
【解決手段】 局部洗浄装置10は、ノズル装置26のお尻噴出口49などから気泡水を人体局部に向けて噴出し、該人体局部を洗浄する。お尻洗浄ボタン71aを押した後に、時点tc4にて、吐水量設定ボタンにより噴出量設定値Qawsを高めると、まず、空気ポンプ32及び流量調整弁34への流量制御により空気流量Qaを増大させ、遅延時間Tb後に、流量調整弁30への制御により流量を調節している。また、時点tc5にて噴出量設定値Qawsを低めた場合には、空気流量Qaを減少させた後に、遅延時間Tb後に洗浄水流量Qwを減少させている。このように、噴出量設定値Qawsを変更した場合に、洗浄水流量Qwより空気流量Qaを早く制御して、空気の応答遅れを回避している。 (もっと読む)



【課題】 本発明の目的は、肛門部洗浄用と女性器洗浄用の温度調節を独立で実施できるようにすることにより、肛門部洗浄時と女性器洗浄時で共に体感が劣ることがない、衛生洗浄装置を提供する。
【解決手段】 肛門部と女性器部分を洗浄するための吐出温度を独立に調節可能とした調節手段を有する。 (もっと読む)


【目的】 釉薬層の外観を損わず、且つ十分な抗菌性を発揮する抗菌性部材を提供する。
【構成】 抗菌性部材は基材1の表面に釉薬層2が形成され、この釉薬層2にはセラミック粉体3…が含有せしめられ、このセラミック粉体3の表面には銀4…が担持されている。そして、セラミック粉体3と銀4の合計重量に対する銀の割合は10重量%以上とされ、また釉薬層2…に対する銀の割合は対しては1重量%未満とされている。 (もっと読む)


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