説明

アルプス電気株式会社により出願された特許

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【課題】キャピラリを樹脂成型品で構成してもファイバ孔の拡径を最低限に抑えることのできる光ファイバコネクタを提供する。
【解決手段】接続される一対の光ファイバ10の各端部を挿通し突き合わせ保持するファイバ孔2を樹脂成型品からなるキャピラリ1に有してなり、キャピラリ1は光ファイバ10の挿入方向に沿ってファイバ孔2と連通するスリット部3を有し、スリット部3はファイバ孔2と連続し深さ方向に厚みを有する第1スリット部20と、第1スリット部20より外周側の第2スリット部21とからなり、第2スリット部21は第1スリット部20よりも幅広に形成される。 (もっと読む)


【課題】 特に、従来に比べて簡単な構成で検知精度を向上させることが可能な物理量センサ及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 高さ方向に移動可能に支持された可動部と、前記可動部の変位を静電容量変化に基づき検知するための第1検知部及び第2検知部と、を有しており、前記第1検知部及び第2検知部は共に平面的に交互に並設された可動電極と固定電極とで構成され、前記可動電極は前記可動部に一体に形成され、前記固定電極は前記可動電極とは分離して形成されており、例えば、前記第1検知部を構成する第1可動電極47aが、前記第1検知部を構成する第1固定電極51aに対して、及び、前記第2検知部を構成する第2固定電極53aが、前記第2検知部を構成する第2可動電極47bに対して、共に、上方向に反らされている。 (もっと読む)


【課題】 簡単な構成で、変位量および駆動力の大きな高分子アクチュエータを提供すること。
【解決手段】 第1の高分子シート20と第2の高分子シート30とが拘束部材15a,15bに並設されている。一方の第1の高分子シートを仮想中心線Oa−Oaに対して左右対称となる形状で形成し、他方の第2の高分子シート30を仮想中心線Ob−Obに対して左右非対称となる形状で形成する。両高分子シート20,30に所定の電界を与えると、一方の左右対称の第1の高分子シート20の自由端22はZ1方向に曲げ変形する。他方の左右非対称の第2の高分子シート30の自由端32は、Z1方向への曲げ変形と捩れ変形とが同時に発生し、自由端32が第1の高分子シート20の湾曲面の外側に回り込んで第1の高分子シート20の外面をZ1方向に支持する。これにより、高分子アクチュエータ1の変位量および駆動力を大きくすることができる。 (もっと読む)


【課題】インダクタのサイズを変更することなく、希望波チャネル信号の減衰量を抑えた状態で隣接チャネル信号を減衰させることができるトラップ回路を提供すること。
【解決手段】インダクタ23と、インダクタ23に直列に接続された第1の容量24と、インダクタ23および第1の容量24に対し並列に接続された第2の容量25とを含む共振回路を備え、共振回路は、インダクタに対し並列に接続された第3の容量26を含むよう構成した。 (もっと読む)


【課題】 特に、スティッキング防止構造を従来に比べて簡単且つ高精度に形成できるMEMSセンサを提供することを目的としている。
【解決手段】 図1(a)に示したように、第1の基板1と第2の基板2とを別々に単体で用意し、第1の基板1の下面1aに、予め、凸状のスティッキング防止部4を形成する。続いて、図1(b)の工程で酸化絶縁層3の形成、図1(c)工程で、第1の基板1と第2の基板2の接合を行う。その後は、従来の工程と同様である。本実施形態では、第1の基板1と第2の基板2を夫々、別々に用意し、これらを接合する前に、単体の前記第1の基板1に対してスティッキング防止部4を形成するから、従来に比べて簡単且つ高精度にスティッキング防止部4を形成することが可能になっている。また、本実施形態では、MEMSセンサの小型化に寄与することが出来る製造方法となっている。 (もっと読む)


【課題】圧電振動子の圧電板にクラックが生じ難く、圧電振動子の液密性を下げることなく圧電振動子の変形を十分に確保でき、圧電振動子に対する配線構造がポンプ室の液密性に悪影響を与えることのない圧電ポンプを得ること。
【解決手段】圧電振動子10のシム12は、空気室Aの側に面し、ロアハウジング30に、圧電振動子10を収納する収納凹部60と、収納凹部60の周縁に位置しOリング31を嵌める環状溝60aとを形成し、アッパハウジング20に、ロアハウジング30の収納凹部60に嵌めた圧電振動子10に対し、環状溝60aに嵌めたOリング31の反対側から接触する環状突起21を形成し、圧電振動子10の圧電板11のシム12と反対側の面に、Oリング31とその全周に沿って少なくとも一部が重なる環状電極50を設け、この環状電極50とシム12との間に交番電流を印加することにより圧電振動子10を振動させる。 (もっと読む)


【課題】膜材に流れる電流量に応じて成膜レートを正確に制御することができるイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ3と、真空チャンバ3内にプラズマビームPを発生するプラズマガン4と、タブレット21を収容する貫通孔5aが形成され、真空チャンバ3内においてプラズマビームPが照射されるハース5と、貫通孔5aにおいて、タブレット21を真空チャンバ3内に露出するように支持するタブレット支持棒25と、タブレット21に流れる電流量を測定する電流計19とを備え、タブレット支持棒25は、タブレット21を支持する支持面が形成された導電性の支持棒本体31と、支持部本体31に対するプラズマビームPの照射を遮断すると共に、支持面に支持されたタブレット21を保持する絶縁性の保持具32とを有し、電流計19を支持部本体31に電気的に接続して構成した。 (もっと読む)


【課題】 質量部を支持する弾性変形部を、正規の変形方向へ曲がりやすく、正規の変形方向以外の方向へ変形しにくい構造にして、質量部を安定して駆動できる角速度センサを提供する。
【解決手段】 検出回動部26の内部に第2の弾性変形部30a,30b,30c,30dを介して駆動質量部29aがX方向へ移動自在に支持されており、第2の弾性変形部30a,30b,30c,30dに設けられた圧電素子によって駆動質量部29aがX方向へ振動させられる。角速度センサ1が、垂直軸Z回りの角速度を持つと、駆動質量部29aにY方向のコリオリ力が作用し、検出回動部26が動作して角速度が検出される。第2の弾性変形部30a,30b,30c,30dはY方向に平行に延びる梁33,34を有しているため、Y方向の力で変形しにくい。よって、駆動質量部29aがX方向へ安定して支持される。 (もっと読む)


【課題】安定した成膜レートを得ることができ、電気的パスを形成するための事前作業をすることなく安定した放電を得ることができるイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ3と、真空チャンバ3の内部にプラズマビームPを発生するプラズマガン4と、真空チャンバ3の内部においてプラズマビームPが照射されるハース5と、成膜用のタブレット21をハース5から真空チャンバ3の内部に露出するように支持するタブレット支持棒25とを備え、タブレット支持棒25は、導電性であり、ハース5は、真空チャンバの内部においてタブレット21と絶縁され、真空チャンバ3の外部においてハース抵抗17を介してタブレット支持棒25と電気的に接続されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 特に、センサ部と第2の基板(支持基板)間の空間構造を改良したMEMSセンサを提供することを目的としている。
【解決手段】 第1の基板1と、第2の基板2と、第1の基板1と第2の基板2の間に介在する絶縁層3と、を有する。前記第1の基板1には、可動電極部及び固定電極部を備えて成るセンサ部4と、前記可動電極部及び前記固定電極部の夫々のアンカ部12,14,17,19が形成されている。前記アンカ部は、第2の基板2の表面に前記絶縁層3を介して固定支持されている。前記センサ部4と対面する前記第2の基板2の表面には凹部5が形成され、前記センサ部4と前記第2の基板2との間に空間が形成されている。 (もっと読む)


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