【課題】体積容量密度が大きく、安全性が高く、かつ充放電サイクル耐久性に優れた、リチウムコバルト複合酸化物を含むリチウム二次電池用正極活物質及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式Ｌi_pＣｏ_xＭ_yＯ_zＦ_a（但し、ＭはＡｌ、Ｃｏ以外の遷移金属元素またはアルカリ土類金属元素である。０．９８≦ｐ≦１．０４、０．９７０≦ｘ≦１．０００、０≦ｙ≦０．０３、１．９≦ｚ≦２．２、ｘ＋ｙ＝１、０≦ａ≦０．０２）で表されるリチウムコバルト複合酸化物の製造方法であって、コバルト源である平均粒径が０．１〜２．５μｍのオキシ水酸化コバルト粉末と、リチウム源である炭酸リチウム粉末と、必要に応じて含まれるＭ元素源粉末とを、リチウム／（Ｃｏ＋Ｍ元素）のモル比が０．９９〜１．０４になるように混合し、得られる混合物を酸素含有雰囲気中で焼成温度９００〜１１００℃で焼成することを特徴とする、大粒径のリチウムコバルト複合酸化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】体積容量密度、安全性、充放電サイクル耐久性、及び低温特性に優れたリチウム二次電池正極用のリチウム含有複合酸化物の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式Ｌi_pＮ_xＭ_yＯ_zＦ_a（但し、Ｎは、Ｃｏ、Ｍｎ及びＮｉから選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｍは、Ｎ元素以外の遷移金属元素、Ａｌ及びアルカリ土類金属元素から選ばれる少なくとも１種の元素である。０．９≦ｐ≦１．２、０．９７≦ｘ≦１．００、０≦ｙ≦０．０３、１．９≦ｚ≦２．２、ｘ＋ｙ＝１、０≦ａ≦０．０２）で表され、リチウム源、Ｎ元素源、Ｍ元素源及びフッ素源の混合物粉末を酸素含有雰囲気中で７００〜１１００℃で焼成するリチウム含有複合酸化物の製造方法であって、Ｎ元素源が、Ｎ元素を含有しかつ分子内にカルボン酸基又はカルボン酸基及び水酸基を合計で２つ以上含有するカルボン酸塩の水溶液を、Ｎ元素源粉末に含浸させた含浸物の乾燥粉末である。 （もっと読む）

【課題】 半導体集積回路装置の製造において二酸化ケイ素系材料層の被研磨面を研磨する際に研磨速度のパターン依存性が極めて小さく、高平坦化を実現することのできる研磨技術を提供する。
【解決手段】 本研磨剤は、化学的機械的研磨用研磨剤であって、酸化セリウム粒子、水および、水溶性有機高分子化合物およびアニオン界面活性剤からなる群から選ばれる１種以上からなる添加剤を含んでなる。２５℃における研磨剤のｐＨは３．５〜６の範囲にある。研磨剤中の添加剤の合計の濃度は０．０１〜０．５質量％の範囲にあり、研磨剤はその作製中に１回以上水で希釈される。 （もっと読む）

体積容量密度が大きく、安全性が高く、かつ充放電サイクル耐久性に優れた、リチウム二次電池正極用のリチウムニッケルコバルトマンガン複合酸化物粉末を提供する。 一般式Ｌｉ_ｐＮｉ_ｘＣｏ_ｙＭｎ_ｚＭ_ｑＯ_２−ａＦ_ａ（但し、Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎ以外の遷移金属元素、アルミニウムまたはアルカリ土類金属元素である。０．９≦ｐ≦１．１、０．２≦ｘ≦０．８、０≦ｙ≦０．４、０≦ｚ≦０．５、ｙ＋ｚ＞０、０≦ｑ≦０．０５、１．９≦２−ａ≦２．１、ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｑ＝１、０≦ａ≦０．０２）で表されるリチウム複合酸化物の微粒子が多数凝集して形成された平均粒子径Ｄ５０が３〜１５μｍであって、圧縮破壊強度が５０ＭＰａ以上の第１の粒状粉末と、圧縮破壊強度が４０ＭＰａ未満の第２の粒状粉末とを、第１の粒状粉末／第２の粒状粉末が重量比で５０／５０〜９０／１０で含むことを特徴とするリチウム二次電池用の正極活物質粉末。 （もっと読む）

【課題】従来の金属用防錆剤などの各種処理剤よりさらに防錆効果が高く、金属部品で要求される撥水撥油剤、樹脂付着防止剤、オイルバリア剤、防汚剤など各種処理剤の性能も有する防錆剤の提供。
【解決手段】式（１）で表されるポリフルオロアルキル基含有メルカプト化合物と、含フッ素ポリマーとを含有する組成物である防錆剤、
Ｒ^ｆ１−（ＣＨ_２）ｎ−Ｘ−（ＣＨ_２）ｍ−ＳＨ・・・（１）
ここで、Ｒ^ｆ１はポリフルオロアルキル基、Ｘは連結基である。 （もっと読む）

【課題】 半導体集積回路装置の製造において、二酸化ケイ素系材料層の被研磨面を研磨する場合の研磨速度のパターン依存性が少なく、凹部の研磨を抑制しながら凸部を優先的に研磨でき、極めて少ない研磨量で被研磨面を高平坦化することが可能な技術を提供する。
【解決手段】 半導体集積回路装置の製造において、被研磨面が二酸化ケイ素系材料層の被研磨面である場合に、被研磨面を研磨するための化学的機械的研磨用研磨剤として、酸化セリウム粒子と水溶性ポリアミンと水とを含有する研磨剤を使用する。 （もっと読む）

【課題】高収率で、容易に高純度の含フッ素アクリル酸エステル誘導体を得られる製造方法の提供。
【解決手段】式（１）で表わされる含フッ素スズ化合物と、式（２）で表わされるハロゲノぎ酸エステル誘導体と、を遷移金属触媒および１価の銅化合物存在下で反応させることを特徴とする式（３）で表わされる含フッ素アクリル酸エステル誘導体の製造方法。
【化１】


【化２】


【化３】


式中Ｒ¹は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ²は炭素数１〜８の直鎖若しくは分岐のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表わし、Ｘはハロゲン元素を表わす。 （もっと読む）

【課題】低粘性かつ化学的に安定であり、液晶組成物とした場合に他の化合物との相溶性に優れ、屈折率異方性値が大である液晶電気光学素子を与える化合物の提供。
【解決手段】下記化合物、これを含有する液晶組成物、および該液晶組成物を用いた液晶電気光学素子。Ｒ¹はＨまたは炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基等、ｎは０または１、Ａはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、または単結合。
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【課題】新規の含フッ素化合物およびその製造方法の提供。
【解決手段】下記（１）で表わされる含フッ素化合物。
【化１】


式中Ｒ¹は炭素数１〜８の直鎖もしくは分岐のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、または水素を表わす。Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜８の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数１〜８の直鎖もしくは分岐のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基またはトリアルキルシリルオキシ基を表わす。フェニル基およびシクロヘキシル基は置換基を有していても良い。Ｒ²とＲ³、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ⁴とＲ⁵、Ｒ²とＲ⁵はそれぞれ共同して環を形成していてもよく、該環は酸素原子を介在していても良い。Ｒ⁶はフッ素原子、または水素原子を表す。 （もっと読む）

ニッケル−コバルトマンガン塩水溶液と、アルカリ金属水酸化物水溶液と、アンモニウムイオン供給体とを特定条件下で反応させて一次粒子が凝集して二次粒子を形成したニッケル−コバルト−マンガン複合水酸化物凝集粒子を合成し、これに酸化剤を作用させてなるニッケル−コバルト−マンガン複合オキシ水酸化物凝集粒子とリチウム塩とを乾式混合し酸素含有雰囲気で焼成してなる、一般式Ｌｉ_ｐＮｉ_ｘＭｎ_{１−ｘ−ｙ}Ｃｏ_ｙＯ_２−ｑＦ_ｑ（ただし、０．９８≦ｐ≦１．０７，０．３≦ｘ≦０．５，０．１≦ｙ≦０．３８，０≦ｑ≦０．０５である。）で表されるリチウム−ニッケル−コバルト−マンガン含有複合酸化物で、使用可能な電圧範囲が広く、充放電サイクル耐久性が高く、容量が高くかつ安全性の高いリチウム二次電池用正極活物質を得る。
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