説明

タテホ化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】フィルムの両面にキートップと押し子を一体的に形成するキースイッチの製造方法を提供する。
【解決手段】キートップ2を成形するための第1成形凹部7を有する第1成形型5を準備し、上記第1成形凹部7に紫外線硬化樹脂10を充填したのち光透過性の基材フィルム1を載置し、上記基材フィルム1を通して光を照射することにより、基材フィルム1の片面にキートップ2を形成し、
上記キートップ2が形成された基材フィルム1の他面に光不透過性の印刷層3を形成し、
押し子4を成形するための第2成形凹部8を有する光透過性の第2成形型6を準備し、上記第2成形凹部8に紫外線硬化樹脂10を充填したのち、キートップ2が形成された基材フィルム1を載置し、上記第2成形型6を通して光を照射することにより、基材フィルム1の印刷層形成面に押し子4を形成する。 (もっと読む)


【課題】高い比表面積を有する球状の水酸化マグネシウム粒子及び酸化マグネシウム粒子、並びにそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】鱗片状の一次粒子が凝集した球形状であり、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積累積の50%粒子径(D50)が1.0〜5.0μmであり、比表面積が10m/g以上である、水酸化マグネシウム粒子、及び酸化マグネシウム粒子。 (もっと読む)


【課題】不純物である鉛の含有量が十分に低い酸化マグネシウム粉末を提供すること。
【解決手段】純度が99.9質量%以上であり、Pbの含量が0.1ppm未満である、酸化マグネシウム粉末であり、Cu−Kα線を用いた粉末X線回折法における(111)面、(200)面及び(220)面のピークの半価幅がそれぞれ0.20度以下であり、D50が0.1〜10μmである。 (もっと読む)


【課題】分散性に優れた球状の水酸化マグネシウム粒子及び酸化マグネシウム粒子、並びにそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】鱗片状の一次粒子が凝集した球形状であり、細孔分布における、モード容積が1.4ml/mg以上であり、モード径が0.4μm以上である、水酸化マグネシウム粒子、及び酸化マグネシウム粒子。 (もっと読む)


【課題】アルミニウムが均一に分散した酸化マグネシウム前駆体から作製することにより、十分に焼結密度が高い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造することが可能な製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造する方法において、まず、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製し、前記水酸化マグネシウムスラリーを水熱処理した後、濾過、水洗、及び乾燥させて、水酸化マグネシウム粒子を得、これを焼成して、酸化マグネシウム粒子を得る。次に、前記酸化マグネシウム粒子、カルシウム化合物粒子、及びバインダーを混合、造粒して得た造粒粉末を型内で成形して成形体を形成し、前記成形体を焼結することで、前記焼結体を製造する。 (もっと読む)


【課題】フッ素含量が100ppmより少ないにも関わらず、フッ素を100ppmより多く含む酸化マグネシウムと同程度以上の紫外光発光強度を持つフッ素含有酸化マグネシウム発光体を提供すること。
【解決手段】電子線又は紫外線による励起に基づいて紫外線領域200〜300nmに発光ピークを有する酸化マグネシウム発光体であって、マグネシウムに対するフッ素含量が100ppm未満で、かつ、励起光ランプの反射ピーク(波長980nm近傍)に対する、前記発光ピークの強度比が、20以上である。当該発光体は、酸化マグネシウム前駆体に、マグネシウムに対しフッ素が0.06〜1.25mol%となる量でフッ素化合物を添加して焼成し、一旦冷却した後、再度焼成することにより得ることができる。 (もっと読む)


【課題】結晶性及び透明性に優れた酸化マグネシウム薄膜を低温、非真空下で形成することが可能な、酸化マグネシウム薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム粒子の分散液を基材上に塗布し、50〜500℃で加熱することで乾燥させ、酸化マグネシウム粒子を基材上に堆積させる。別途準備したマグネシウム溶液を、酸化マグネシウム粒子が堆積した基材上に塗布し、100〜600℃で焼成することで、酸化マグネシウム薄膜を得る。 (もっと読む)


【課題】粒子径が小さく、かつ均一な高純度水酸化マグネシウム微粒子及び高純度酸化マグネシウム微粒子を提供する。
【解決手段】BET比表面積が5m/g以上、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積50%粒子径(D50)が0.1〜0.5μm、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積10%粒子径(D10)と体積基準の累積90%粒子径(D90)との比D90/D10が10以下である、純度99.5質量%以上の水酸化マグネシウム微粒子;並びにBET比表面積が5m/g以上、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積50%粒子径(D50)が0.1〜0.5μm、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積10%粒子径(D10)と体積の累積90%粒子径(D90)との比D90/D10が10以下である、純度99.5質量%以上の酸化マグネシウム微粒子である。 (もっと読む)


【課題】 焼結体表面の平滑性に優れ、スムーズな供給を可能とする、酸化マグネシウム焼結体からなる、プラズマディスプレイの保護膜用蒸着材を提供することである。
【解決手段】 酸化カルシウムを2〜50質量%含み、かつ相対密度が95%以上である酸化マグネシウム焼結体からなるプラズマディスプレイの保護膜用蒸着材であって、
酸化マグネシウム焼結体が、BET比表面積が5m/g以上、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積50%粒子径(D50)が0.1〜0.5μm、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積10%粒子径(D10)と体積基準の累積90%粒子径(D90)との比D90/D10が10以下である、純度99.5質量%以上の酸化マグネシウム微粒子を原料とする、プラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材。 (もっと読む)


【課題】成膜時にスプラッシュ発生の抑制が可能であり、成膜装置の供給口での詰まりが発生しにくい酸化マグネシウム焼結体、及び、これを用いたPDPの保護膜用蒸着材、並びに、前記焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウムと、マグネシウム以外の周期表第2A族元素の酸化物3〜50質量%と、必要によりアルミニウム、イットリウム、セリウム、ジルコニウム、スカンジウム、及びクロムからなる群より選ばれる一種類又は二種類以上の元素を1000ppm以下を含む酸化マグネシウム焼結体であって、その形状が、円板状、楕円板状、多角形板状若しくは半月板状であるか、又は、立方体若しくは直方体の頂点に丸みを持たせた形状である酸化マグネシウム焼結体。 (もっと読む)


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