【課題】加硫ゴムとステンレス鋼が強固に接着された積層体であって、加硫ゴムの環境依存性が小さく、軟質でかつ圧縮永久歪性が小さく、電子写真プロセス用の半導電性ゴムローラに適した積層体を得る。また接着に際して接着剤を使用しないことにより、低コスト化を図る。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有することを特徴とする半導電性加硫ゴム用組成物とステンレス鋼とが加硫接着されてなる積層体。
（Ａ）エピクロルヒドリン系ゴム１００重量部
（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される2,3-ジメルカプトキノキサリン誘導体 ０．１〜１０重量部
【化１】


（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基）
（Ｃ）ハイドロタルサイト類 ０．１〜２０重量部
（Ｄ）酸化マグネシウム ０．１〜２０重量部 （もっと読む）

【課題】不斉触媒反応に有用な新規スピロ構造化合物とその製造法を提供する。
【解決手段】下記式（１）


（式中、ｍ、ｎは０〜３の整数であり、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は同一または異なって水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、置換または無置換アラルキル基、置換または無置換アリール基から選ばれる。）で表されるスピロ環骨格を有するスピロイソオキサゾリン−イソオキサゾール誘導体およびその光学活性体、並びにそれらの製造法。 （もっと読む）

【課題】高分子ゲル電解質とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によれば、基材多孔質膜と、主鎖にポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ（エチレンオキシド／プロピレンオキシド）、ポリフォスファゼン、ポリビニルエーテル又はポリシロキサン構造を有し、側鎖に鎖状オリゴアルキレンオキシド構造を有するポリマーであって、上記基材多孔質膜に担持されていると共に、有機溶媒にて膨潤せしめられたポリマーと、電解質塩とからなることを特徴とする高分子ゲル電解質が提供される。 （もっと読む）

【課題】簡便に調製、または安価に入手でる酵素を利用することにより、高い光学純度を有するグリセロールアセトナイドのイソ酪酸エステル体を実際的に効率よく得る方法を提供する。
【解決手段】グリセロールアセトナイドイソ酪酸エステルのラセミ体に、ウサギの肝臓由来のエステル加水分解酵素、あるいはセラチア属、アルカリゲネス属、バルクホルデリア属、またはエンテロバクター属に属する微生物由来のエステル加水分解酵素を水溶媒中で作用させ、該化合物のラセミ体を立体選択的に加水分解し、残存する光学活性グリセロールアセトナイドイソ酪酸エステルを回収する。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン含有エラストマー加硫用組成物、および当該加硫用組成物を加硫してなる加硫ゴム材料の提供。
【解決手段】（A）ハロゲン含有エラストマー、(B)下記式（Ｉ）で表される4,4’-チオビスベンゼンチオール誘導体、並びに（C）水酸化カルシウムおよび／または炭酸ナトリウムを含むことを特徴とする加硫用ゴム組成物。
【化１】


[Ｒ¹〜Ｒ⁸ はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基である。] （もっと読む）

【課題】 銅箔部分とフレキシブル基材層とが接着剤層を介することなく直接張り合わされた所謂2層フレキシブル銅張積層板を形成する際に、めっき浴中の添加剤が分解しない比較的低い温度において高電流密度めっきを行っても応力がかからない銅のめっき方法を提供する。
【解決手段】 めっき浴温度を15〜25℃として銅を電解めっきすることにより、該フィルム上に銅箔を形成するフレキシブル銅張積層板を製造する方法において、第1の電流密度で銅箔の厚さの70〜90％を形成した後、次に第1の電流密度より低い第2の電流密度で銅箔の厚さの30〜10％を形成する。 （もっと読む）

【課題】 2層フレキシブル銅張積層板を形成する際に、高電流密度めっきを行っても応力がかからない、外観の優れた銅のめっき層を形成する。
【解決手段】 表面に導電性のシード層を有する有機高分子樹脂フィルムに銅を電解めっきすることにより、該フィルム上に銅箔を形成するフレキシブル銅張積層板を製造する方法において、導電性基体に白金族金属またはその酸化物を主成分とする電極活性物質を被覆した陽極を使用し、めっき用電解槽を陽イオン交換膜を用いて陽極室と陰極室に分離し、めっき浴温度が30 ℃以上および銅めっき電流密度が4〜12 A/dm^２でめっきを行う。 （もっと読む）

【課題】未加硫エピクロルヒドリン系ゴム層と有機過酸物が配合されたフッ素ゴム層とが強固に接着された加硫ゴム積層体を提供する。
【解決手段】加硫ゴム積層体は、未加硫エピクロルヒドリン系ゴム組成物層と未加硫フッ素ゴム組成物層とが加熱接着されてなる。未加硫エピクロルヒドリン系ゴム組成物はアリルグリシジルエーテル量３〜１５モル％のエピクロルヒドリン系ゴム１００重量部と、キノキサリン系加硫剤、メルカプトトリアジン系加硫剤、ビスフェノール系加硫剤から選ばれる加硫剤０．１〜１０重量部と、１,８-ジアザビシクロ（５,４,０）ウンデセン-７塩類、１,５-ジアザビシクロ（４,３,０）ノネン-５塩類、四級アンモニウム塩類、四級ホスホニウム塩類、塩基性ホワイトカーボン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩から選ばれる化合物とを含む。未加硫フッ素ゴム組成物はフッ素ゴムと有機過酸化物系加硫剤を含む。 （もっと読む）

【課題】 フッ素樹脂層とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが強固に加硫接着された加硫ゴム積層体、および積層ホースを提供する。
【解決手段】 大気圧プラズマ処理法により表面処理されたフッ素樹脂層の処理面とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが加硫接着されてなるエピクロルヒドリン系ゴム−フッ素樹脂積層体において、エピクロルヒドリン系ゴム組成物が、２，３−ジメルカプトキノキサリンまたは６−メチルキノキサリン−２，３−ジチオカーボネート等のその誘導体を加硫剤として含有する積層体。および前記積層体からなり、フッ素樹脂を内層とし、エピクロルヒドリン系ゴム組成物を外層とする積層ホース。 （もっと読む）

【課題】 フッ素樹脂層とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが強固に加硫接着された加硫ゴム積層体、および積層ホースを提供する。
【解決手段】 大気圧プラズマ処理法により表面処理されたフッ素樹脂層の処理面とエピクロルヒドリン系ゴム組成物層とが加硫接着されてなるエピクロルヒドリン系ゴム−フッ素樹脂積層体において、
エピクロルヒドリン系ゴム組成物が、アミン系加硫剤、チオウレア系加硫剤、チアジアゾール系加硫剤、トリアジン系加硫剤、及び硫黄からなる群より選ばれる加硫剤を含有し、
大気圧プラズマ処理法が水素ガス、アルゴン及びヘリウムを含む混合ガス雰囲気で行なわれる積層体、および前記積層体からなり、フッ素樹脂を内層とし、エピクロルヒドリン系ゴムを外層とする積層ホース。 （もっと読む）