【課題】 半導体製造工場あるいは液晶製造工場などに多用されるＣＤＡプロセスのバックアップ用として利用される、効率性および信頼性の高い人工空気製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 液化酸素の貯留手段１１とその気化手段１２、液化窒素の貯留手段１３とその気化手段１４、気化した酸素および窒素を混合する混合手段１５を有する人工空気製造装置Ａであって、空気を圧縮する圧縮手段１と該空気を水分除去する乾燥手段とを有する圧縮乾燥空気製造プロセスＳと、該プロセスの緊急時に作動する制御弁Ｖｎを介して接続することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 圧力緩衝効果を最大限に引出し、緩衝容器をコンパクトに抑えるための手段、および簡単な構成によって機能性の高い圧力緩衝方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 高圧流路に供する圧力緩衝方法であって、その緩衝流体が単成分あるいは少なくとも２種類の成分の適切な組合せの適切な組成からなる混合物で、超臨界圧以上の状態において、その温度を次式１で表される無次元化等温圧縮率Ｋ_Ｔが１．５を超えるように調整し、操作することを特徴とする圧力緩衝方法。ここで、Ｐは圧力、κ_Ｔは等温圧縮率である。
Ｋ_Ｔ ＝ Ｐ＊κ_Ｔ （式１） （もっと読む）

【課題】 高圧流路への汚染などの悪影響がない、簡単な構成によってコストを低く抑え、コンパクトで機能性の高いアキュムレータを提供する。
【解決手段】 高圧流路３に供するアキュムレータであって、複数の容器を有し、前記高圧流体３と接続する容器Ａ１を介して接続される容器Ｂ２を設けて前記容器Ｂ２の温度の制御を行うとともに、該容器Ａ１の内容積を、緩衝のため出入する高圧流体３の最大量以上とすることを特徴とする。（１）前記容器Ａ１内に摺動自在なピストンを内蔵し、被緩衝高圧流体３と緩衝流体５の混合を抑制するとともに、（２）容器Ｂ２側の空間を容器Ｂ２とほぼ同じ温度に制御すると同時に、（３）前記被緩衝高圧流体３あるいは緩衝流体５よりも熱伝導度の低いピストン材によって熱伝導を抑え、加熱緩衝流体５の熱的影響を無視できる程度に抑えることを特徴とする。 （もっと読む）