説明

トーカロ株式会社により出願された特許

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【課題】連続焼鈍炉用ハースロール周面の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、ロール周面に対する異物の付着を抑制する。
【解決手段】本発明の連続焼鈍炉用ハースロール10は、ロール周面の周方向の表面粗度が、Rskで0未満であることを特徴とする。これにより、ハースロール10のロール周面の表面粗度の評価指標としてRskを用い、ロール周面の表面粗度をRskで0未満として、適切な粗度に調整できるので、ロール周面に対する異物の付着を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】過大なクラックの発生を防止しつつ、十分な効果が得られる緻密化層を形成し、それ共にコストアップを招かない溶射皮膜における緻密化層の形成方法、及び溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】Al溶射皮膜5の表層6の皮膜組成物を再溶融、再凝固させる高エネルギービームを、Al溶射皮膜5の表面5aへ走査する際に、走査方向へ向けて先行して走査させる先行レーザービーム20と、この先行レーザービーム20と同一軌跡上で追従して走査させる追従レーザービーム21とで構成し、先行レーザービーム20をAl溶射皮膜5の表面5aへ走査させながら照射すると共に、追従レーザービーム21を当該先行レーザービーム20で走査した被照射領域22へ走査させながら重ねて照射し、当該被照射領域22の表層6を緻密化する。 (もっと読む)


【課題】成分汚染が生じ難く、それと共に半導体製造装置におけるパーティクルの発生を十分に減少させることのできる半導体製造装置用部材を提供する。
【解決手段】搬送アーム1の載置部材16にセラミックを溶射して溶射皮膜を形成し、この溶射皮膜にレーザービームを照射して、セラミック組成物を再溶融、再凝固させて変成させたセラミック再結晶物からなる高強度セラミック層5を形成し、半導体製造装置50における外的要因により、載置部材16から脱落する粒子を、半導体製造プロセスに影響を与えない程度に低減させる。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性や靭性に優れる他、皮膜の長寿命化に優れる製鉄設備用ロールを提供する。
【解決手段】ロール表面に、4〜10質量%のCoと残部WCからなるWC−Coサーメット溶射材料を溶射して製鉄設備用ロールを製造する際に、η相の含有率が10質量%以下であるWC−Co溶射材料を、フレーム温度を3000℃以下としかつ、粒子速度を300m/s以上とする高速フレーム溶射法によってWC−Co溶射皮膜を被覆成形するロールの製造方法。 (もっと読む)


【課題】緻密な皮膜を長期にわたって形成することができる耐久性の高い加速ノズル付きプラズマ装置を提供する。
【解決手段】溶射材料をプラズマジェットとともに噴射する噴射通路に、プラズマの熱により溶融されて飛行する溶射材料粒子を加速し、噴射させる加速ノズルが接続されている加速ノズル付きプラズマ溶射装置において、上記加速ノズルは、その先端側に向けて内径が連続的または段階的に拡大するノズル孔Hを有し、上記ノズル孔の内壁に、上記先端側に向けてシールドガスを筒状に噴射するためのスリットT〜Tが上記ノズル孔の長さ方向に沿って複数段形成され、各段の上記シールドガス噴射口に、上記シールドガスの流れを上記加速ノズルの中心軸と略平行に向けるガス流偏向部3c,4kが設けられ、そのガス流偏向部の先端が鈍頭エッジに形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】塩酸,クロム酸,リン酸等の酸薬液飛散下での溶射皮膜の寿命を延長できる耐食性ロールおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】第1の方法は耐食性ロールであり、ロール1の表面に形成された第1層として硬化肉盛の溶接被覆層2と、第2層としてNi系の超合金系による溶射被覆層3と、第3層としてWC―NiCr溶射被覆層4と、セラミック系流体を被覆表面に流し込んで焼成した封孔処理層とを備える。第2の方法は耐食性ロールの製造方法であり、ロール1の表面に第1層として硬化肉盛溶接加工を行い、次いで、機械加工、研磨加工をおこない、次いで、第2層としてNi系の超合金系による溶射加工を行い、次いで、第3層としてWC―NiCr溶射加工を行い、次いで、研磨加工をおこない、次いで、セラミック系流体を被覆表面に流し込んで焼成する封孔処理を行う。 (もっと読む)


【課題】比重の異なる酸化物系セラミックと重金属の粉末を物理的に混合した状態でサーメット溶射皮膜を形成すると、セラミックと重金属の両粉末は、不均等な状態で皮膜中に分布するため、サーメット溶射皮膜としての機能を十分発揮することができない。
【解決手段】酸化物系セラミック粒子の表面に、無電解めっき法によってNiまたはNi−P、Ni−B合金膜を0.3〜5μmの厚さで被覆形成した非混合形サーメット溶射用粉末材料を用いて溶射することによって、セラミックと金属とが分離することの溶射皮膜を形成するとともに、その溶射皮膜の表面を高エネルギーを照射して、皮膜表面を再溶融・再結晶化させることにより、一段と高度な緻密性、平滑性、耐食性、耐摩耗性、耐プラズマエロージョン性を有するサーメット溶射皮膜を得る。 (もっと読む)


【課題】比重の異なる酸化物系セラミックと重金属の粉末を物理的に混合してなるサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成すると、セラミックと金属とが不均等な状態で溶射皮膜中に分布するため、サーメット溶射皮膜としての機能を十分発揮することができない。
【解決手段】酸化物系セラミック粒子の表面に、無電解めっき法によってNiまたはNi−P、Ni−B合金のめっき膜を0.3〜5μmの厚さで被覆した非混合形サーメット粉末をつくり、このサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成することによって、該溶射皮膜を被成してなる部材の緻密性、密着性、耐摩耗性、耐プラズマ・エロージョン性などを向上させる。 (もっと読む)


【課題】位置検出感度を損なうことなく耐摩耗性及び環境遮断特性を高めた実用的な位置検出器用センサーロッドを提供する。
【解決手段】強磁性材料の母材上に導電層をリング状に形成したセンサーロッドである。導電層は、粒子積層構造を有し、ビッカース硬さHVが60以上、固有電気抵抗が15μΩcm以下、膜厚が0.1mm以上である導電性皮膜である。さらに、この導電性皮膜を含む母材の表面を導電層よりも高硬度の少なくとも一層以上からなる硬質皮膜で被覆すると共に、前記硬質皮膜の膜厚が0.3mm以下に調整されている。このような構成によれば、測定誤差が小さく耐久性の大きい位置検出器用センサーロッドが得られる。 (もっと読む)


【課題】CIS系太陽電池の光吸収層形成のためのセレン化又は硫化処理を行う基板処理装置において、石英製のチャンバーと比較して、加工が容易な炉体を有する基板処理装置また、取り扱いが容易なチャンバーを提供する。
【解決手段】銅−インジウム、銅−ガリウム、又は、銅−インジウム−ガリウムのいずれか一つからなる積層膜が形成された複数の基板を収納する処理室と、処理室を構成するように形成される反応管と、処理室にセレン元素含有ガス又は硫黄元素含有ガスを導入するガス供給管と、処理室内の雰囲気を排気する排気管と、反応管を囲うように設けられた加熱部と、を具備し、反応管の基材は、ステンレス等の金属材料で形成され、反応管の表面は、酸化クロム及びシリカの混合物を主成分とする5%から15%の空間率を有するポーラス状のコーティング膜が形成される基板処理装置。 (もっと読む)


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