【課題】接着剤を利用して前後のレンズを確実に固定可能でありながら、前後のレンズ間への微小ゴミの進入を効果的に抑制でき、しかも前後のレンズ間でのガスの滞留を防止できるレンズ支持枠を提供する。
【解決手段】環状の本体部１４の軸線方向の一方の端面が開放した大径レンズ保持溝１５と、一方側の端部が開放した大径レンズ保持溝より小径の小径レンズ保持溝１６と、大径レンズ保持溝の内周面に凹設した、大径レンズＬ１の外周面に塗布する接着剤を注入可能な大径溝側接着用凹部１９と、小径レンズ保持溝の内周面に凹設した、小径レンズＬ２の外周面に塗布する接着剤を注入可能な小径溝側接着用凹部２０と、を備え、上記軸線方向に見たときの大径溝側接着用凹部と小径溝側接着用凹部の周方向位置を互いにずらした。 （もっと読む）

【課題】外部デバイスの影響により撮像素子に発生する縦ライン状の固定パターンノイズを高速に検出、除去する。
【解決手段】パターンデータ記録用メモリ１６に外部回路に起因する撮像素子１１の縦ライン状の固定パターンノイズの全パターンを記録する。撮像素子１１の映像信号から、水平ライン毎に、水平オプティカルブラック領域における固定パターンノイズの１周期分以上の画像データを抽出し抽出データ保存用メモリ１５に保存する。抽出された画像データの全水平ラインに対する相加平均を算出する。算出された平均値を、ＦＰＮ比較回路１７においてパターンデータ記録用メモリ１６に記録された全パターンと比較し、最も近いパターンを固定パターンノイズとして特定する。ＦＰＮ補正演算回路１４において、映像信号から、特定された固定パターンノイズを除去して映像信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】極めて平坦度が高く、かつ、微小欠陥（凹状欠陥、凸状欠陥）を低減したマスクブランク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨パッド２１，１１が貼り付けられ上下に対向して設けられた上定盤２０と下定盤１０との間に、複数のガラス基板を挟持し、ガラス基板に上定盤側２０より研磨液を供給しながら、ガラス基板の両主表面を両面研磨する。ガラス基板の形状は四角形で、そのコーナー部においてノッチマークを少なとも１以上有する。ガラス基板の上記両面研磨は、ノッチマークが形成されていない一方の主表面を上定盤２０側にセットして行う。 （もっと読む）

【課題】タンタル系材料の吸収体膜と、クロム系材料のエッチングマスク膜とが積層した反射型マスクブランクを用いて、高精度の転写パターンを有し、光学特性が良好な吸収体膜を有する反射型マスクを作製することを可能とする反射型マスクブランクを提供する。
【解決手段】反射型マスクを作製するために用いられる反射型マスクブランク１００であり、基板１上に多層反射膜５と吸収体膜２とエッチングマスク膜３が順に積層した構造を有する反射型マスクブランクであって、エッチングマスク膜は、クロムを含有する材料からなり、吸収体膜は、タンタルを含有する材料からなり、吸収体膜の基板側とは反対側の表層に高酸化層２２が形成されており、高酸化層は、Ｘ線電子分光分析を行ったときのＴａ４ｆのナロースペクトルが２３ｅＶよりも大きい束縛エネルギーで最大ピークを有することを特徴とする反射型マスクブランクである。 （もっと読む）

【課題】接続されるビデオスコープに適した画像信号処理回路を、煩雑な作業を伴わずに自動構築する。
【解決手段】ビデオスコープ１０内にコンフィギュレーションデータを格納したメモリ１７Ａ、１７Ｂを設け、プロセッサ２０には、ＦＰＧＡによってプログラミング構築される画像信号処理回路２２を設ける。そして、ビデオスコープ１０がプロセッサ２０に接続されると、ＰＡＬ方式、もしくはＮＴＳＣ方式に対応したコンフィギュレーションデータをプロセッサ２０に送信し、画像信号処理回路２２を構成する。 （もっと読む）

【課題】酸化ジルコニウムを研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨するときに、ナノピット、ナノスクラッチが生じ難くするようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】モノクリニック結晶構造（Ｍ）とテトラゴナル結晶構造（Ｔ）を有する酸化ジルコニウム砥粒を研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】造影チューブ等のような単純なチューブのみで形成されて先端部分に曲がり癖がついた処置具であっても、処置具起上台の処置具誘導溝内に確実に誘導して、ふらつきなく安定した状態で使用することができる側方視型内視鏡の先端部を提供すること。
【解決手段】処置具誘導溝９の最先端位置をＡ、回動軸線位置を通る直線が土手状部１０の外縁と接する位置をＢ、回動軸線位置をＣとして、処置具起上台７が最も倒立側に回動された状態のとき、挿入部の先端２の軸線方向の座標軸においてＡＢ≧ＢＣとなるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】高精度の転写パターンを有し、光学特性が良好な遮光膜を有する転写用マスクを作製することを可能とする、マスクブランクを提供する。
【解決手段】転写用マスクを作製するために用いられるマスクブランクであり、透光性基板上に遮光膜とエッチングマスク膜とが順に積層した構造を有するマスクブランクであって、前記エッチングマスク膜は、クロムを含有する材料からなり、前記遮光膜は、タンタルを含有する材料からなり、前記遮光膜の透光性基板側とは反対側の表層に高酸化層が形成されており、前記高酸化層は、Ｘ線電子分光分析を行ったときのＴａ４ｆのナロースペクトルが２３ｅＶよりも大きい束縛エネルギーで最大ピークを有することを特徴とするマスクブランクである。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板に形成した貫通孔の孔内を囲む側壁と貫通孔の孔内に充填した金属材
との気密性を高め、気体のリークを防止する。
【解決手段】ケイ素酸化物を含むガラスを用いて形成されるガラス基板２の表裏面に連通する貫通孔３の孔内に金属材が充填されている基板であって、金属材を充填する前に、貫通孔３の孔内を囲む側壁のケイ素酸化物を選択的にエッチングすることでアンカー部を形成し、アンカー部形成後、貫通孔３の孔内に金属材を充填することで実現する。 （もっと読む）

【課題】気泡に由来する球状をなす球状気孔が均一であるセラミックス多孔体、およびこの球状気孔が均一であるセラミックス多孔体を製造することができるセラミックス多孔体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のセラミックス多孔体の製造方法は、リン酸カルシウム系化合物で構成され、球状気孔を有するセラミックス多孔体を製造するものであり、リン酸カルシウム系化合物で構成される粉体と、水溶性高分子化合物と、アルキルベンゼンスルフォン酸界面活性剤とを含有するスラリーを調製する第１の工程と、前記スラリーを撹拌することにより起泡させた後に、前記スラリーを高周波加熱により加熱することでゲル化させる第２の工程と、ゲル化した前記スラリーを乾燥させ、さらに焼結する第３の工程とを有する。 （もっと読む）