【課題】黒欠陥の発生を抑制できる転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜は、ドライエッチングが可能な材料からなり、前記薄膜上にレジスト膜が形成されたマスクブランクを準備する準備工程と、前記レジスト膜に転写パターンを露光処理する露光工程と、前記露光処理されたレジスト膜に対し、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂよりも高く、ｐＨが８以上である現像液を用いて現像処理を行う現像工程と、前記現像処理されたマスクブランクに対し、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂ以下であり、ｐＨが８以上である第１のリンス液を用いて処理を行う第１リンス工程と、前記第１リンス工程後、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂ以下であり、ｐＨが６より大きく８未満である第２のリンス液を用いて処理を行う第２リンス工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の研削工程において、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒を定盤に配置した両面研削装置を使用する場合に適した、基板の製造方法を提供する。
【解決手段】固定砥粒１１が研削面に配備された上定盤と下定盤１０を備える研削装置を用いてガラス基板の２つの主表面を両面研削する研削工程を有する基板の製造方法であって、修正部材５３、５５を備える修正キャリア５１を前記定盤上で自転させながら公転させ、修正キャリア５１の修正部材５３、５５と定盤の研削面とを互いに押圧させて摺動させて定盤の面修正を行う修正工程を有し、修正キャリア５１は、上定盤および下定盤１０にそれぞれ対向する２つの対向面を有する本体部と、２つの対向面にそれぞれ配置された修正部材５３、５５とからなり、修正部材５３、５５は、対向面の外周側に沿って配置され、かつ修正キャリアの自転軸と外周側の特定点とを結ぶ直線上の対向面にも配置されている。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理において溶融塩の寿命を長く保つことができ、安定した特性の強化ガラス製品が得られる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｌｉ含有組成のガラス物品を、当該ガラスに含まれるＬｉよりもイオン半径が大きいアルカリ金属元素を含む溶融塩融解液と接触させることにより、前記ガラス物品中のＬｉと前記溶融塩融解液中のアルカリ金属とをイオン交換するイオン交換工程を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法である。ここで、上記溶融塩融解液には、ＮａＦ、ＫＦ、Ｋ_３ＡｌＦ_６、Ｎａ_２ＣＯ_３、ＮａＨＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、ＫＨＣＯ_３、Ｎａ_２ＳＯ_４、Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＡｌ(ＳＯ_４)_２、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４からなる群より選ばれる少なくとも１種類の添加物を添加して、当該添加物が固体状態で上記イオン交換工程を行う。 （もっと読む）

【課題】スペーサを骨に固定する操作を容易かつ確実に行うことができるスペーサ固定用具、及び骨同士の間隙を確保する操作を容易に行い得るスペーサ固定用具付きスペーサを提供する。
【解決手段】骨同士の間隙にスペーサを挿入した状態で、前記スペーサを前記骨に固定するのに用いられるスペーサ固定用具であって、
複数の糸と、前記各複数の糸の少なくとも一方の端部に設けられた、前記糸より高い剛性を有する針状部材とからなり、
前記針状部材は、前記複数の糸を少なくとも一方の端部で結束し、かつ必要時に分離できるように、長手方向側部において連結されていることを特徴とするスペーサ固定用具。 （もっと読む）

【課題】急峻なプロファイルを持つレジストパターンを得ることができる多階調フォトマスク及びパターン転写方法を提供すること。
【解決手段】本発明の多階調フォトマスクは、透明基板１１上に設けられた、露光光を一部透過させる半透光膜を各々パターン加工することにより、透光部及び半透光部を持つ転写パターンを備えた多階調フォトマスクであって、前記半透光部は、前記透明基板に対して相対的に低い位相シフト量を持つ第１半透光膜１２と、前記第１半透光膜１２に対して相対的に高い位相シフト量を持つ第２半透光膜１３と、から構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】転写用マスクの黒欠陥の発生を抑制することのできるマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に転写パターンを形成するための薄膜を備えたマスクブランクの製造方法であって、前記薄膜は、ドライエッチングが可能な材料からなり、前記薄膜の表面に、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂよりも高く、ｐＨが８以上である第１の処理液を用いて表面処理を行う第１処理工程と、前記第１処理工程後、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂ以下であり、ｐＨが８以上である第２の処理液を用いて表面処理を行う第２処理工程と、前記第２処理工程後、エッチング阻害要因物質の濃度が０．３ｐｐｂ以下であり、ｐＨが６より大きく８未満である第３の処理液を用いて表面処理を行う第３処理工程と、を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】化学強化処理において溶融塩の寿命を長く保つことができ、安定した特性の強化ガラス製品が得られるイオン交換ガラス物品の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｌｉ含有組成のガラス物品を、当該ガラスに含まれるＬｉよりもイオン半径が大きいアルカリ金属元素を含む溶融塩融解液と接触させることにより、前記ガラス物品中のＬｉと前記溶融塩融解液中のアルカリ金属とをイオン交換するイオン交換工程を含むイオン交換ガラス物品の製造方法である。ここで、上記溶融塩融解液には、ＮａＦ、ＫＦ、Ｋ_３ＡｌＦ_６、Ｎａ_２ＣＯ_３、ＮａＨＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、ＫＨＣＯ_３、Ｎａ_２ＳＯ_４、Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＡｌ(ＳＯ_４)_２、Ｎａ_３ＰＯ_４、Ｋ_３ＰＯ_４からなる群より選ばれる少なくとも１種類の添加物を添加して、当該添加物が固体状態で上記イオン交換工程を行う。 （もっと読む）

【課題】薄膜の膜応力が時間の経過とともに圧縮応力の傾向が強くなるという問題を解決するための、マスクブランクおよび転写用マスクを提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面に薄膜が形成されてなるマスクブランクにおいて、前記薄膜が、タンタルを含有し、かつ水素を実質的に含有しない材料からなり、前記ガラス基板の主表面と前記薄膜との間に、前記ガラス基板から薄膜へ水素が侵入することを抑制する侵入抑制膜を備えることを特徴とするマスクブランクである。 （もっと読む）

【課題】ＥＭＦバイアスが低減された遮光膜であり、転写マスク作製に係る様々な負荷が
大きく軽減される。さらに、重ね露光による漏れ光によって、ウェハ上のレジスト膜が露
光することを抑制できるだけの光学濃度を遮光膜に確保するという条件も同時に満たすこ
とができる転写用マスクを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】
ＡｒＦエキシマレーザーを光源とする露光光が用いられる露光装置にバイナリ型の転写用マスクをセットし、半導体ウェハ上のレジスト膜に対して転写パターンの露光転写を行う工程を有する半導体デバイスの製造方法であって、
前記転写用マスクは、透光性基板上に、転写パターンを備えた遮光膜を有してなり、
前記遮光膜は、遮光層および表面反射防止層の積層構造からなり、前記露光光に対する光学濃度が２．８以上であり、
前記遮光膜は、前記露光光に対する表面反射率が５０％未満であり、
前記遮光膜を透過した前記露光光と前記遮光膜の膜厚と同じ距離だけ空気中を透過した前記露光光との間での位相差が３０度以下である
ことを特徴する半導体デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄型、軽量、大画面（大面積）であっても充分な強度を持つ、とくにタッチパネル式の携帯機器に好適にカバーガラスを提供する。
【解決手段】たとえばタッチパネルの携帯電話等の携帯機器に用いられるカバーガラス１は、その板厚が０．３ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲である。また、携帯機器の表側から見たときに文字または図形として認識しうる、或いは携帯機器の表側から触れたときに認識しうる凹部２が、カバーガラス１の対向する主表面１１、１２の少なくとも一方の表面に形成されている。この凹部２の表面２ａはエッチングで処理されたエッチング面である。 （もっと読む）