説明

シチズンセイミツ株式会社により出願された特許

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【課題】 強誘電性液晶パネルのリセット期間のちらつき現象を目立たなくして、表示品質が高く視認性に優れた強誘電性液晶装置を提供する。
【解決手段】 強誘電性液晶パネルを備えた液晶装置において、液晶パネルへの駆動電圧の印加は、1フレーム期間で行われ、1フレーム期間は、強誘電性液晶を2つの安定状態のうち、一方の安定状態にリセットするリセット期間Reと、強誘電性液晶を2つの安定状態のうち、どちらかの安定状態を選択する選択期間Seとを備え、リセット期間Reは、複数の双極性リセットパルスRpdによって構成され、双極性リセットパルスRpdのパルス幅Trは、選択期間Seに印加される選択パルスSpd1〜Spd4のパルス幅Tsと等しいか、それより短い構成とした。 (もっと読む)


【課題】研磨装置により円盤状基板の研磨を行う際に、両面の研磨量の差をより小さくすることができ、円盤状基板を配置する位置の違いによる研磨量の差をより小さくすることができる円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に測定溝103が形成された2つの測定基板100を研磨機の第1面を研磨する側と2面を研磨する側に測定溝103が対峙するようにそれぞれ配置し、2つの測定基板100を研磨機によって研磨し、2つの測定基板100の測定溝103の研磨後の深さを測定し、研磨機によるガラス基板の両面の研磨条件を調整することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】研磨液を供給するために研磨剤を流通させる樋を使用する場合でも、研磨液の流通に阻害が生じにくく、安定的に研磨を行なうことができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削する研削工程と、研削工程を経たガラス基板を研磨液を用いて研磨する研磨工程とを有する円盤状基板の製造方法であって、研磨工程に用いられる研磨機50は、研磨液槽101から樋104を介してガラス基板に対して研磨液を供給されるとともに樋104の内面が撥水性被材によって被覆されていることを特徴とする円盤状基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】研磨機により円盤状基板の研磨を行う際に、一方の面が優先的に研磨される現象を抑制し、両面の研磨量の差をより小さくすることができる円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に測定溝103,104が形成された測定基板100をガラス基板の両面を同時に研磨する研磨機に配置し、研磨機に配置された測定基板100の両面を同時に研磨し、研磨後の測定基板100に残された測定溝103,104の深さを測定し、研磨機によるガラス基板の両面の研磨条件を調整することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】一表面のみを情報の記録等に使用し、他表面を使用しない円盤状基板を製造する場合において、円盤状基板の生産能力をより向上させることができる円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】一表面に情報を記録するガラス基板10の製造方法であって、ガラス基板10の一表面、他表面、外周面、内周面を研削する研削工程と、ガラス基板10の内周面を研磨する内周研磨工程と、ガラス基板10の外周面を研磨する外周研磨工程と、一表面が研磨面となった2枚のガラス基板10を、ガラス基板10が合わせられた際の間隔を定める間隔規制部材を含む接着剤を用いて一表面とは反対側の他表面で接合する接合工程と、接合工程により接合された2枚のガラス基板10の各々の一表面を同時に研磨する研磨工程と、を有することを特徴とするガラス基板10の製造方法。 (もっと読む)


【課題】電気泳動表示パネルを用いた表示装置において、コントラストが良好で、ちらつきが目立たず、長寿命動作を可能とする表示装置を提供する。
【解決手段】帯電粒子の移動によって表示を行うメモリ性を有する表示パネル50と、表示データを入力して表示パネルの電極に駆動電圧を印加する駆動IC10とを備え、駆動IC10は制御部11と波形パラメータ部12と駆動パルス発生部20とを有し、駆動パルス発生部は、表示を書き換える表示反転パルスと表示が変化しない場合に上書きパルスを出力し、表示反転パルスを出力する前には極性が異なる前置表示反転パルスを出力し、上書きパルスを出力する前には極性の異なる前置上書きパルスを出力し、上書きパルスと前置上書きパルスは同じパルス幅で構成され、前置上書きパルスは前置表示反転パルスよりパルス幅が広い構成とした。 (もっと読む)


【課題】円盤状基板の研磨を行なう研磨装置の洗浄を行なう場合でも、研磨装置に温度変化が生じにくく、研磨に要求される精度を維持しやすい円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板を研削する研削工程と、研削工程を経たガラス基板の主表面を研磨機50により研磨剤を用いて研磨するとともに研磨に際して温度管理された処理水を用いる研磨工程と、研磨工程に用いられる処理水の温度管理と同様に温度管理された洗浄水を用いて研磨機50を洗浄する工程と、を有することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】研磨装置により円盤状基板の研磨を行う際に、研磨時間を抑制しつつ、特にエッジロールオフ(端ダレ)を抑え、円盤状基板をより均等に研磨することができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削する研削工程と、研削工程を経たガラス基板を研磨する研磨工程と、を有し、研磨工程は、ガラス基板の主表面に対する研磨の圧力を最大圧力まで単調増加させた後にこの最大圧力に留めることなく徐々に低下させると共に、研磨開始から研磨の圧力が最大圧力に達するまでの時間を研磨の圧力が最大圧力に達してから研磨終了までの時間より短くなるように設定することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 駆動電源の基準電圧値の変動に応じて駆動パルス信号を調整することで、ドライバ回路の製造ばらつきや経時変化を吸収し、安定した液晶駆動を実現する液晶駆動装置を提供する。
【解決手段】 マイコン10からの信号によって液晶パネル30を駆動するドライバIC20を有する液晶駆動装置であって、ドライバIC20は基準電圧Vkを作成する電圧発生回路23と、液晶パネル30に駆動パルス信号を供給するSEG駆動回路25とCOM駆動回路26と、駆動パルス信号の幅を可変する電圧LUT22とを有し、マイコン10は、ドライバIC20からの基準電圧Vkに基づいた調整信号P2を出力し、ドライバIC20の電圧LUT22は、調整信号P2に従って駆動パルス信号のパルス幅を可変する構成とした。 (もっと読む)


【課題】下部に配置したスイッチ操作のクリック感が良好になり、かつ耐久性を向上させた電気泳動型表示装置を提供する。
【解決手段】フレキシブル回路基板110の表面には、画素電極114が形成され、背面には、出力電極118と画素電極114とを接続する配線電極113が形成されている。出力電極118を除くフレキシブル回路基板110の背面には、コネクタ電極116、入力電極117及び出力電極118並びに画素電極114に対応する部位の周囲を除いて、配線電極113を保護するための保護層1(115)が被覆されている。即ち、画素電極114に対応する部位の周囲の保護層1(115)には、配線電極113を避けてスリット115aが形成されている。 (もっと読む)


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