【課題】 材料ガスの分圧が変動したとしても、混合ガスにおける材料ガスの濃度を一定に保つことができ、応答性の良い材料ガス濃度制御システムを提供する
【解決手段】 材料Ｌを収容するタンク１３と、収容された材料Ｌを気化させるキャリアガスを前記タンク１３に導入する導入管１１と、前記タンク１３から気化した材料ガス及び前記キャリアガスの混合ガスを導出する導出管１２とを具備した材料気化システム１に用いられるものであって、前記導出管１２上に設けられた第１バルブ２３と、前記混合ガスにおける材料ガスの濃度を測定する濃度測定部ＣＳと、前記濃度測定部ＣＳで測定された材料ガスの測定濃度が、予め定めた設定濃度となるように前記第１バルブ２３の開度を制御する濃度制御部ＣＣとを具備した。 （もっと読む）

【課題】 材液量計などの検出器を用いることなく、タンク内の材料が減少していることを推定し、新しく設定された設定濃度に安定するまでにかかる時間が長くなるという不具合を防ぐことができる材料ガス濃度制御システムを提供する。
【解決手段】 導出管１２上に設けられた第１バルブ２３と、前記混合ガスにおける材料ガスの濃度を測定する濃度測定部２１と、前記タンク内の圧力を測定する圧力測定部２２と、前記濃度測定部２２で測定された材料ガスの測定濃度が、予め定めた設定濃度となるように前記第１バルブ２３の開度を制御する濃度制御部ＣＣと、前記材料液の貯留量を推定する材料液量推定部２４５とを具備し、前記濃度制御部ＣＣが、予め定めた設定圧力を、前記測定濃度と設定濃度との偏差が小さくなる向きに変更する設定圧力設定部２４３と、前記圧力測定部２２で測定された測定圧力が前記設定圧力となるように前記第１バルブ２３の開度を制御する第１バルブ制御部２４２とを具備した。 （もっと読む）

【課題】 タンク内の材料液が減少した場合や濃度測定部の応答速度が遅い場合などにおいて、設定濃度を変更したとしても、短時間で測定濃度を設定濃度に安定させることができる材料ガス濃度制御システムを提供する。
【解決手段】
濃度制御部ＣＣが、前記温度測定部Ｔで測定された測定温度に基づいて、材料ガスが前記設定濃度となるためのタンク内圧力を算出する全圧算出部２４４と、前記設定濃度が変更された後の一定期間においては、設定圧力を前記全圧算出部２４４で算出されたタンク内圧力とする一方、その他の期間においては、設定圧力を前記測定濃度と設定濃度との偏差が小さくなる向きに変更する設定圧力設定部２４３と、前記圧力測定部２２で測定された測定圧力が前記設定圧力となるように第１バルブ２３の開度を制御する第１バルブ制御部２４２とを具備した。 （もっと読む）

【課題】 材料ガスの分圧が変動したとしても、混合ガスにおける材料ガスの濃度を一定に保つことができ、応答性が良く、バブリングシステムに容易に取り付けて濃度制御を行うことができる材料ガス濃度制御装置を提供する
【解決手段】 材料Ｌを収容するタンク１３と、収容された材料を気化させるキャリアガスを前記タンクに導入する導入管１１と、材料が気化した材料ガス及び前記キャリアガスの混合ガスを前記タンク１３から導出する導出管１２とを具備した材料気化システム１に用いられるものであって、前記導出管１２に接続され、前記混合ガスを流すための内部流路Ｂ１を有した基体Ｂと、前記内部流路Ｂ１を流れる混合ガスにおける材料ガスの濃度を測定する濃度測定部ＣＳと、前記内部流路Ｂ１において前記濃度測定部ＣＳよりも下流に設けられ、前記濃度測定部ＣＳによって測定された測定濃度を調節する第１バルブ２３とを具備しており、前記濃度測定部ＣＳと前記第１バルブ２３は前記基体Ｂに取り付けた。 （もっと読む）

【課題】質量流量計の測定精度を向上させる。
【解決手段】試料ガスＧが流れる流路に設けられた感熱抵抗体４１ａ、４１ｂを有するセンサ部４１１、４１２からの出力信号を取得し、前記試料ガスＧの流量Ｑ_ｒａｗを算出する流量算出部４２と、前記流路２における一次側圧力Ｐ_ｉｎを測定する圧力測定部４３と、前記圧力測定部４３により得られた一次側圧力Ｐ_ｉｎ、及び前記試料ガスＧの定圧比熱Ｃ_Ｐにより決まるガス係数αを用いて、前記流量算出部４２により得られた測定流量Ｑ_ｒａｗを補正する流量補正部４４と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】マスフローコントローラにおけるＰＩ性能を向上させる。
【解決手段】マスフローコントローラにおいて、安定状態におけるＰＩＤ演算に用いる比例係数、積分係数及び微分係数を、一次側圧力、当該一次側圧力の時間変化量、及び流量設定値の少なくとも２つに基づいて変更させる。 （もっと読む）

【課題】ガス供給システム１００を構成する部品点数を削減し、小型化及び低コスト化が実現可能なガス供給システム１００を提供する。
【解決手段】複数種のガスを選択的にチャンバ２００内に供給するガス供給システム１００であって、流量を測定する流量測定部２、及び流量測定部２からの流量測定信号に基づいて制御される流量制御弁３が設けられるメイン流路４と、チャンバ２００内に同時に供給しない複数のガス種毎に対応して設けられ、メイン流路４に並列接続される複数のサブ流路５と、サブ流路５毎に設けられ、メイン流路４を流れるガスを切り替える切替機構６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】一次側の圧力が急激に変動しても、二次側の流量に影響が及びにくいマスフローコントローラを提供する。
【解決手段】流路内を流れる流体の流量を測定し、その測定値を示す流量測定信号を出力する流量センサ部と、その流量センサ部の上流側又は下流側に設けた流量制御バルブと、前記流量制御バルブへの制御値を算出する算出部と、を備えたものであって、マスフローコントローラの上流側における前記流体の圧力の測定値である一次側圧力測定値が所定量以上変化した期間である変化期間と、それ以外の期間である安定期間と、において、前記算出部は、前記安定期間では、前記流量測定信号の示す流量測定値と目標値である流量設定値との偏差に所定の演算処理を施して安定時制御値を算出し、前記変化期間では、前記一次側圧力測定値と前記一次側圧力測定値の変化量とに所定の演算処理を施して変化時制御値を算出するようにした。 （もっと読む）

【課題】低真空領域における分流比の圧力依存性を考慮した質量流量計１及びこの質量流量計１を用いたマスフローコントローラＺを提供する。
【解決手段】試料ガスＧが流れるメイン流路２と、前記メイン流路２から分岐して前記試料ガスＧを分流させるものであり、前記試料ガスＧの流量を検出する流量検出機構４が設けられる測定路３Ａを有するセンサ流路３と、前記メイン流路２における前記センサ流路３の分岐点ＢＰと合流点ＭＰの間に設けられ、複数の内部流路５１を有する層流素子５と、を具備し、前記測定路３Ａの流路形状及び前記内部流路５１の流路形状が略同一である。 （もっと読む）

【課題】支持構造体４とダイアフラム３との溶接時における熱応力による歪みを可及的に小さくするとともに、支持構造体４とダイアフラム３間の剛性を大きくして、固定電極２及びダイアフラム３間の距離の変化を可及的に小さくして、圧力センサ１の出力を安定させる。
【解決手段】圧力により変位するダイアフラム３と固定電極２との間の静電容量の変化を検出して圧力を測定する静電容量型圧力センサ１であって、前記固定電極２と前記ダイアフラム３との対向面の距離を規定する凹部４１を有し、前記固定電極２の電極面が、前記凹部４１の底面４１１と略同一平面上に設けられ、前記ダイアフラム３が、前記凹部４１を覆うように前記凹部４１の開口周縁部４０１に設けられる一体成型された支持構造体４を具備する。 （もっと読む）