【課題】 ベースの締付け固定時に発生する応力を吸収緩和することでセンサに歪などの悪影響が及ばないようにして、本来の性能を安定よく確保でき、しかも、複数のセンサ等が設置される場合も低コストで十分な応力緩和機能を発揮できるようにする。
【解決手段】 内部に流体流路を有する本体ブロック１の外面１Ａに、圧力センサ７を設置する中央取付部６ａを有するセンサ取付用ベース（マスフローコントローラ用ベース）６をその長手方向の両端においてボルト１１，１１を介して金属ガスケット１３を押圧変形させるように締付け固定してなるマスフローコントローラの取付構造であって、ベース６の長手方向両端の固定部位６ｂ，６ｂより中央取付部６ａ側寄りの二箇所に、流体導入流路９と干渉しないように切り込み溝１４，１４を設けている。
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【課題】 シールリング締付面の研磨作業性の向上を図るとともに、感圧部の損傷や汚損、さらにはシールリング締付面の研磨不良をなくして圧力計測性能、品質および製品歩留まりの著しい向上を達成することができるようにする。
【解決手段】 ケース本体３から外方へ突出する環状フランジ部５のうち、シールリング締付面５ａを有する外周側フランジ部分５Ａをケース本体３に一体形成された内周側フランジ部分５Ｂと別体とし、この別体外周側フランジ部分５Ａのシールリング締付面５ａを研磨により鏡面化した上、この外周側フランジ部分５Ａを内周側フランジ部分５Ｂに一体接合することにより、所定の突出幅の環状フランジ部５を有する静電容量型圧力計１を組立構成している。
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【課題】 空気の吸い込み舞い上がり循環現象に伴うウェハ表面の汚損を防止してウェハ表面に対する所定の処理性能及び製品品質の著しい向上を達成できるようにする。
【解決手段】 テーブル３及び該テーブル３上に固定保持されたウェハ４を縦軸芯ａ周りで駆動回転させながら、ウェハ４表面の中心から少し変位した箇所に処理液を滴下させることで、その液を遠心力により径方向外方へ拡散流動させてウェハ表面に対する所定の処理を行う回転式ウェハ処理装置において、テーブル３上部にウェハ４の上方及び外周を覆うカバー１０が一体回転可能に設けられ、このカバー１０の回転中心部にはウェハ４とカバー１０間の微小隙間９に回転遠心力に応じた量の気体を導入する気体導入口１３が形成され、かつ、テーブル３外周辺とカバー１０外周辺部分との間には、微小隙間９内を流動した後の気体をウェハ４外方の斜め下向きに排出する排気口１４が形成されている。
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【課題】 簡単な構成でありながらボルト穴からのボルトの脱落を防止できるボルト脱落防止機構を提供する。
【解決手段】 ボルト穴４にボルト５を挿入した状態でボルト５のねじ先５ａが挿入される貫通穴８ａを備え、この貫通穴８ａがねじ部５ｂに接するように構成された抜け止め部材８と、この抜け止め部材８が収容可能な直径で前記ボルト穴４のねじ先側に形成された可動穴６とからなる。 （もっと読む）

【課題】 ボルト穴からのボルトの脱落を防止できる製造容易なボルト脱落防止治具、流量制御用機器およびボルト脱落防止治具の製造方法を提供すること。
【解決手段】 可撓性材料からなりボルト穴２３に形成された座ぐり部２４に嵌入保持されることによりボルト５の脱落を防止する治具であって、ボルト穴２３に挿入されるボルト５を抜け止め保持する貫通穴２を備え、この貫通穴２の一端側２ａおよび他端側２ｂの内径Ｄｈａ，Ｄｈｂが前記ボルト５のねじ部５ａの外径Ｄｂよりも大径であると共に、貫通穴２の中間部２ａにその内径Ｄｈｃがねじ部５ａの外径Ｄｂよりも小径となる突出部６が形成されている。
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【課題】 圧力差が大きい環境であっても設定した流量となるようにガスの流れを的確に制御することができ、とりわけ、薄膜堆積のプロセスにおいてプロセス精度を飛躍的に向上できる流量制御装置、薄膜堆積装置および流量制御方法を提供すること。
【解決手段】 ガスの流れを断続する開閉弁１４と、この開閉弁１４より上流側に配置されてガスの流量を調節する流量調節部１２と、前記開閉弁１２を閉じた状態で前記開閉弁１４の上流側における内部圧力Ｐ₃ が前記開閉弁１４より下流側の圧力Ｐｃと等しくなるように内部圧力Ｐ₃ を調節する内部圧力調節部１３とを備えてなる。
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少なくとも１つの導入部、少なくとも１つの導出部、及び流路を有する第１のディスクと、流路を有さない第２のディスクとを備えるフローリストリクタであって、第１のディスク及び第２のディスクは互いに積み重ねられる。また、マスフローコントローラは、入力部、出力部、流路、圧力トランスデューサ及び上記フローリストリクタを備えている。
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【課題】 半導体製造装置から排出される流体を安定してかつ応答性よく制御することのできる半導体製造装置における排気流体の制御装置を提供すること。
【解決手段】 半導体製造装置１から排出される流体３が流れる排気流路４を主流路４Ａとバイパス流路４Ｂとに分岐し、主流路４Ａには流量または圧力制御弁７を設け、バイパス流路４Ｂにはパイロット弁８を設けた。 （もっと読む）