説明

株式会社オハラにより出願された特許

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【課題】光線透過性の高いチタン酸ストロンチウム系単結晶を製造する方法を提供する。
【解決手段】原料中のSrとTiのモル比が1<[Sr/Ti]<1.3となるようにSrを添加したSrTiO−LaAlO系固溶体組成物を原料とし、アルミン酸ストロンチウムを溶媒として用いることで、Tiによる着色を低減させた透明な単結晶を育成することができ、この方法で育成した単結晶は光線を透過するため光通信用フィルタ、光集積回路基板、光学素子などの各種光学用途部材として利用可能である。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にあり、且つ、高価な材料の使用が低減されても耐失透性が高い光学ガラスと、それを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を5.0〜30.0%、La成分を15.0〜50.0%を含有し、酸化物換算組成の質量比La/(La+Gd)が0.690以下である。また、プリフォーム材及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にあり、且つ低いガラス転移点(Tg)を有しながらも、耐失透性が高く安価に製造することができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を5.0〜30.0%、及びLa成分を15.0〜50.0%を含有し、Ta成分の含有量が20.0%以下である。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を1.0〜31.0%及びLn成分を40.0〜65.0%を含有し、TiO成分の含有量が30.0%以下、Nb成分の含有量が30.0%以下である。レンズプリフォームは、この光学ガラスを母材とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス塊の損傷を抑制しつつ表面処理された被洗浄ガラス体を効率的に製造できる方法、及びその方法で製造される被洗浄ガラス体から製造される光学素子、及びこの光学素子を用いた光学機器を提供すること。
【解決手段】ガラス塊の表面を洗浄して被洗浄ガラス体を製造する方法において、洗浄は、ガラス塊を表面処理液に浸漬し、この表面処理液に100kHz以上200kHz以下の超音波を5秒以上100秒以下に亘って照射することで行う。超音波は、100W以上600W以下の出力で発生させることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Biを含有し、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であるガラス組成物。Bi−B−ZnO系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示で、5〜50%のB、5〜90%のBi、5〜70%のZnOの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示でZnO/Bの比の値が0.2以上かつZnO/Biの比の値が0.2以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、「JOGIS09−1975光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、250以上のヌープ硬さ(Hk)を有し、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜5であり、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをt1、加工時の前記アモルファスガラスの厚さt2とするとき、t2/t1≦1.2の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が0.1〜5μmのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


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