【課題】複数の基板を一括して容易に乾燥することができる乾燥ユニットおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】乾燥部７０は、複数の基板Ｗを一括して乾燥させる乾燥ユニットである。乾燥部７０は、主として、乾燥チャンバ７１と、貯留槽７２と、排出管７１ａ、７２ａと、バルブ７１ｂ、７２ｂと、吐出ノズル８７（８７ａ、８７ｂ）と、を備えている。ＩＰＡによる純水の置換処理において、貯留槽７２に複数の基板Ｗが浸漬されると、吐出ノズル８７から乾燥チャンバ７１内にＩＰＡの蒸気が供給され、純水８０ａの液面８０ｂにＩＰＡの液膜８０ｃが形成される。続いて、貯留槽７２から純水８０ａが排出され、ＩＰＡの液膜８０ｃが、下降させられる。そして、各基板Ｗの基板面とＩＰＡの液膜８０ｃとが接触することによって、各基板Ｗに付着した純水が、ＩＰＡに置換される。 （もっと読む）

【課題】複数の処理槽のそれぞれに複数の基板を良好に一括搬送することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、搬送ロボット１０と、処理部４０とを有している。処理部４０は、複数の処理槽４１、４２を有しており、処理槽４１には処理液として洗浄液が、処理槽４２には処理液として薬液が貯留される。搬送ロボット１０は、単一の搬送ユニットとして構成されている。搬送ロボット１０は、本体部１２と、本体部１２から離隔して配置された各処理槽４１、４２に向かって伸びるアーム部１３とを有している。ここで、各処理槽４１、４２は、搬送ロボット１０の可動範囲内となるように、複数の基板の搬送空間８に配置されている。これにより、搬送ロボット１０は、複数の基板を、各処理槽４１、４２の配置によらず、任意の順番で、各処理槽４１、４２に対応して貯留された処理液に、浸漬することができる。 （もっと読む）

【課題】フロートの流路内壁面への接触によるパーティクルの発生を防止することができる流量計およびマスフローコントローラを提供する。
【解決手段】ケーシング１１の内側には下方から上方に向けて流体を流す鉛直方向に沿った流路１２が形成される。流路１２の一部はテーパ管１５によってテーパ面１６とされている。流路１２内には棒磁石２１を内蔵するフロート２０が収容される。ケーシング１１の外周面にはリング形状の永久磁石である下部リング磁石３０および上部リング磁石３５が周設される。下部リング磁石３０および上部リング磁石３５の双方からフロート２０の棒磁石２１の下端および上端のそれぞれに同じ磁極の反発力による斥力が及ぼされる。これにより、流体の有無に関わらず、フロート２０が流路内壁面に接触することが常に防止され、その結果パーティクルの発生をも防止することができる。 （もっと読む）

【課題】隣接する基板同士の付着を防止しつつ、複数の基板を一括して処理する基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】可撓性を有する複数の基板Ｗが所定間隔にて起立姿勢でバスケット５に保持されて気相処理槽１０内に収容されている。気相処理槽１０の底部を構成する貯留部２１にはフッ化水素酸が貯留される。常温のフッ化水素酸からは、処理ガスとしてのフッ酸蒸気が蒸発して生成される。また、ファン２３が作動して貯留部２１内のフッ化水素酸の液面からバスケット５の内部を通過して循環経路２４を流れて再び貯留部２１に還流する気流が形成される。このような気流によってフッ酸蒸気がバスケット５内部の複数の基板Ｗに供給され、エッチング処理が進行する。気相エッチング処理であれば隣接する基板Ｗ間に液相の表面張力が作用することは無く、それらが付着することが防止される。 （もっと読む）

【課題】 基板と金型の搬入と搬出とを自動的に実行することができ、効率的に基板の表面にパターンを形成することが可能なパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 パターン形成装置は、搬入搬出部１と、パターン形成部３と、これらの搬入搬出部１とパターン形成部３との間に配置された搬送部２と、第２搬送部５とを備える。パターン形成部３は、基板と金型とを位置決めして重ね合わせる位置決めユニット３１と、位置決めユニット３１において位置決め後の基板に対し位置決め後の金型を押し付けるパターン形成ユニット３３と、パターン形成ユニット３３においてパターンが形成された基板からパターン形成に使用された金型を剥離する剥離ユニット３２とを有する。 （もっと読む）

【課題】 簡便なハードウェア構成の起立補助装置を提供する。
【解決手段】 起立補助装置１は、着座プレート２を着座位置から乗降位置まで上昇させることにより、着座プレート２に着座した使用者の起立動作を補助する。起立補助装置１の昇降機構５は、ベース部３に対して着座プレート２を昇降させるリンク機構であり、背面側スタンド１０、着座面側スタンド２０、補助スタンド３０、上部リンク４０、および下部リンク５０を有する。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも２次元的（平面的）な広がりを有する被処理体に対して、良好にアークプラズマを照射することができるアークプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】 複数の放電電極３１は、各先端部３１ａが射出口２０ａを挟んで対向するよう、射出口２０ａの長手方向両側に射出口２０ａに沿って並設されている。多相交流変換部５２は、複数の単相変圧器によって構成されており、商用の３相交流を変換して多相交流を出力する。各放電電極３１に対応する出力端子からの出力電圧が付与されると、隣接する放電電極３１との間で良好に放電が生じ、チャンバ３内にアークプラズマが発生する。そして、発生したアークプラズマは、作動ガス供給ノズル４１からの不活性ガスによって、射出口２０ａからチャンバ３外に押し出される。これにより、射出口２０ａの形状に倣って長手方向に伸びる線状アークプラズマをチャンバ３から射出することができる。 （もっと読む）

【課題】 使用者の起立動作を良好に補助することができる起立補助装置および入浴装置を提供する。
【解決手段】 入浴補助装置（起立補助装置）５は、主として、昇降部１０と、支持部２０とを備えている。昇降部１０は、支持部２０によって支持された使用者７を昇降させる。支持部２０は、昇降部１０に設けられており、使用者７の脇部７ａおよび胸部７ｂを支持可能とされている。これにより、支持部２０が昇降させられると、使用者７の姿勢は、後ろから介助者の腕で支えられるのと同様な姿勢で、着座姿勢から略起立姿勢に、または、略起立姿勢から着座姿勢に移行される。 （もっと読む）

【課題】噴霧供給された処理液によって、基板上に良好な塗布膜を形成することができる基板処理装置、基板処理システム、および基板処理方法を提供する。
【解決手段】塗布部１０は、主として、いわゆる二流体ノズルによって構成されるスプレーノズル１２、１５と、ノズル移動部１１と、吸着ステージ２０と、ヒータ２１と、を備える。処理液の噴霧処理では、まず、ヒータ２１によって基板９を加熱しつつ、吸着ステージ２０を回転させた状態で基板９に塗布液を噴霧供給し、基板９に塗布膜を形成する。次に、塗布膜の上に消失液を供給する。これにより、塗布膜上に球形パーティクルが顕在化した場合であっても、この球形パーティクル、および球形パーティクルの発生原因となる球形パーティクル前駆体を消失液によって消失させることができる。そのため、後工程での基板の処理不良を防止できる。 （もっと読む）