【課題】複数のイオンビーム引出し孔が整列されたイオンガンにおいて、イオンビーム電流密度を均一にする。
【解決手段】カソード及びアノードからなるプラズマ生成手段並びにプラズマからイオンビームを引き出すグリッドを備えたイオンガンにおいて、グリッドが長手方向に複数又は一連のイオンビーム引出し孔を有し、複数又は一連のイオンビーム引出し孔の中心部を原点として、長手方向をｘ軸方向、イオンビーム出射方向をｚ軸正方向として、複数又は一連のイオンビーム引出し孔の周辺に配置され、複数又は一連のイオンビーム引出し孔にｚ軸正方向の磁場を与える第１の磁石、及び複数又は一連のイオンビーム引出し孔の端部に配置され、端部付近にｘ軸原点方向の磁場を与える第２の磁石をさらに備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】良好に任意の形状に加工することが可能なエッチング装置、エッチング方法及びエッチングプログラム、並びに成膜装置を提供する。
【解決手段】エッチング装置３０は、イオンガン１１とＸＹステージ１２と制御部１３とＰＣ１５とを備える。予め測定されたエッチングが施される基板３１の厚みの分布から、升目状に区分された基板３１の各領域の被エッチング量を算出し、この被エッチング量に達するようにＰＣ１５は各領域におけるエッチング時間を判別する。このエッチング時間に負となる領域がある場合、当該領域にシャッタ４０を覆うことにより、エッチング時間に負となる領域での過剰なエッチングを防ぎ、基板３１を任意の形状に加工することができる。 （もっと読む）

【課題】水晶モニタを基板ドームの中央部に配置しても高精度な膜厚測定ができる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空槽１、真空槽１内の蒸発源、蒸発源に対向配置され成膜対象基板が搭載される基板ドーム、基板ドームにイオンを照射するためのイオン生成手段、基板ドームの中央部に配置された水晶モニタ５、及び水晶モニタの発振周波数を測定する測定手段６を備えた成膜装置において、水晶モニタ５が真空槽１及び基板ドームから電気的に絶縁される構成とした。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、基板の裏面に対して高いシールド効果が得られるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】第１の成膜室３０内の基板ステージ３２上に基板トレー７０が載置されている。基板トレー７０は複数の基板８０を把持しており、基板８０の表面がターゲット４１に対向している。基板トレー７０の裏面側にはシールド板３４が当接している。シールド板３４には、シールド蓋３５との連結部３７が有するスプリングによって基板トレー７０の方向に所定の荷重が加わっている。シールド蓋３５は上端が閉塞した円筒状を有し、その円筒部は基板トレー７０を囲繞するとともに、下端が基板ステージ３２に当接する。シールド蓋３５及びこれに連結されたシールド板３４は、昇降機構３６により昇降可能である。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において、蒸着材料の供給及び回収動作を安定させる。
【解決手段】真空槽、蒸着材料を加熱蒸発させる蒸発源、蒸着材料を収容する容器、容器を複数積載して収納する収納器、および、容器を収納器と蒸発源の間を移動させる移載手段を備える真空装置であって、収納器を少なくとも棒材からなる枠組みで構成した。 （もっと読む）

【課題】オフされているグリッドからのビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザが良好な中和効果を有する荷電粒子照射装置、これを用いた周波数調整装置及び荷電粒子制御方法を提供する。
【解決手段】イオンガン１１は、ガス導入部１１４よりＡｒガスを本体１１１内に導入し、フィラメント１１３とアノード１１２との間で直流熱陰極放電をおこし、Ａｒのプラズマを生成する。次に、２つ分割された構成を有する、分割加速グリッド１１６ａ、１１６ｂに、イオンを射出する方向に電圧勾配を与えて、イオンを射出させる。イオンビームをオフする側の分割加速グリッドに正電圧を印加し、更に減速グリッド１１７に負電圧を印加する。これにより、停止している側のグリッドからのイオンビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザの中和効果を良好とすることができる。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において成膜再現性を改善する。
【解決手段】真空槽の底面側に配置される蒸着材料充填容器を有する蒸発源、蒸着材料充填容器に対向配置された基板保持部、及び基板保持部と蒸着材料充填容器の間に開閉可能に設置されたシャッタを備えた真空蒸着装置において、さらに、真空槽の底面側に配置され、蒸着材料充填容器を囲む遮蔽板を備え、遮蔽板について、遮蔽板の高さが蒸着材料充填容器よりも高くかつシャッタ閉時のシャッタ下面位置よりも低く、遮蔽板の内周によって画定される領域がシャッタ閉時のシャッタ外周によって画定される領域内に含まれ、遮蔽板が蒸着材料充填容器から離隔されて配置され、遮蔽板の平面断面図において、遮蔽板がその内周によって画定される領域の閉塞を開放する少なくとも１つの開放部を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において、基板の回転の中心位置であっても膜厚分布を容易に制御可能な装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料を蒸発させる蒸発源、第１の回転軸に対して回転され蒸発源に対して対向配置される回転基板、及び第２の回転軸に対して回転され回転基板を蒸発源から部分的に遮蔽する回転膜厚補正板を備えた真空蒸着装置において、第２の回転軸が、回転基板の周縁内に第１の回転軸と離隔してかつ平行に規定される構成とした。 （もっと読む）

【課題】成膜装置における回転体への電力の供給構成について、確実な給電を確保するとともにメンテナンス性を向上する。
【解決手段】電源および動力源を有する真空成膜室ならびに真空成膜室内の成膜位置にセットされる基板ホルダを備えた成膜装置において、電源が給電電極を有し、基板ホルダが、成膜位置に静止される静止系ユニットおよび静止系ユニットに搭載され動力源によって駆動される駆動系ユニットからなり、静止系ユニットが給電電極と電気的に接続される受電電極および受電電極からの電力を駆動系ユニットに供給するコンタクト機構を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】水晶振動子の共振周波数を簡単で正確に調整する。
【解決手段】周波数調整装置は、チャンバ内に配置された水晶振動子２１上の電極にイオンビームを照射してエッチングするイオンガンと、水晶振動子２１の電極に接触するプローブと、水晶振動子２１と共に発振回路を構成する共振回路３５と、プローブと共振回路３５とを接続する同軸ケーブル３４Ａ，３４Ｂと、共振回路３５の出力信号に基づいて、水晶振動子２１の共振周波数をモニタし、イオンガンを制御する制御部とを備える。同軸ケーブル３４Ａ，３４Ｂの内導体は、プローブと共振回路の入力端又は出力端とを接続し、同軸ケーブル３４の外導体には、所定の基準電圧が印加されている。同軸ケーブル３４Ａと３４Ｂの特性、特に、長さは、帰還回路１１３の入出力信号の位相差が１８０°となるように設定されている。 （もっと読む）