説明

株式会社昭和真空により出願された特許

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【課題】複数のイオンビーム引出し孔が整列されたイオンガンにおいて、イオンビーム電流密度を均一にする。
【解決手段】カソード(10)及びアノード(20)からなるプラズマ生成手段、並びにプラズマ生成手段によって生成されたプラズマからイオンビームを引き出すグリッド(30)を備えたイオンガンにおいて、カソードが、一対のフィラメント電極(13)間に架設されたフィラメント(12)からなり、グリッドが、フィラメントに平行に配列された複数のイオンビーム引出し孔(31)を有し、フィラメントの両端部(12a)を含む単位空間当たりの発熱量がフィラメントの中央部(12b)を含む単位空間当たりの発熱量のよりも大きくなるようにした。 (もっと読む)


【課題】良好に任意の形状に加工することが可能なエッチング装置、エッチング方法及びエッチングプログラム、並びに成膜装置を提供する。
【解決手段】エッチング装置30は、イオンガン11とXYステージ12と制御部13とPC15とを備える。予め測定されたエッチングが施される基板31の厚みの分布から、升目状に区分された基板31の各領域の被エッチング量を算出し、この被エッチング量に達するようにPC15は各領域におけるエッチング時間を判別する。このエッチング時間に負となる領域がある場合、当該領域にシャッタ40を覆うことにより、エッチング時間に負となる領域での過剰なエッチングを防ぎ、基板31を任意の形状に加工することができる。 (もっと読む)


【課題】水晶モニタを基板ドームの中央部に配置しても高精度な膜厚測定ができる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空槽1、真空槽1内の蒸発源、蒸発源に対向配置され成膜対象基板が搭載される基板ドーム、基板ドームにイオンを照射するためのイオン生成手段、基板ドームの中央部に配置された水晶モニタ5、及び水晶モニタの発振周波数を測定する測定手段6を備えた成膜装置において、水晶モニタ5が真空槽1及び基板ドームから電気的に絶縁される構成とした。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で、基板の裏面に対して高いシールド効果が得られるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】第1の成膜室30内の基板ステージ32上に基板トレー70が載置されている。基板トレー70は複数の基板80を把持しており、基板80の表面がターゲット41に対向している。基板トレー70の裏面側にはシールド板34が当接している。シールド板34には、シールド蓋35との連結部37が有するスプリングによって基板トレー70の方向に所定の荷重が加わっている。シールド蓋35は上端が閉塞した円筒状を有し、その円筒部は基板トレー70を囲繞するとともに、下端が基板ステージ32に当接する。シールド蓋35及びこれに連結されたシールド板34は、昇降機構36により昇降可能である。 (もっと読む)


【課題】真空蒸着装置において、蒸着材料の供給及び回収動作を安定させる。
【解決手段】真空槽、蒸着材料を加熱蒸発させる蒸発源、蒸着材料を収容する容器、容器を複数積載して収納する収納器、および、容器を収納器と蒸発源の間を移動させる移載手段を備える真空装置であって、収納器を少なくとも棒材からなる枠組みで構成した。 (もっと読む)


【課題】オフされているグリッドからのビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザが良好な中和効果を有する荷電粒子照射装置、これを用いた周波数調整装置及び荷電粒子制御方法を提供する。
【解決手段】イオンガン11は、ガス導入部114よりArガスを本体111内に導入し、フィラメント113とアノード112との間で直流熱陰極放電をおこし、Arのプラズマを生成する。次に、2つ分割された構成を有する、分割加速グリッド116a、116bに、イオンを射出する方向に電圧勾配を与えて、イオンを射出させる。イオンビームをオフする側の分割加速グリッドに正電圧を印加し、更に減速グリッド117に負電圧を印加する。これにより、停止している側のグリッドからのイオンビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザの中和効果を良好とすることができる。 (もっと読む)


【課題】真空蒸着装置において成膜再現性を改善する。
【解決手段】真空槽の底面側に配置される蒸着材料充填容器を有する蒸発源、蒸着材料充填容器に対向配置された基板保持部、及び基板保持部と蒸着材料充填容器の間に開閉可能に設置されたシャッタを備えた真空蒸着装置において、さらに、真空槽の底面側に配置され、蒸着材料充填容器を囲む遮蔽板を備え、遮蔽板について、遮蔽板の高さが蒸着材料充填容器よりも高くかつシャッタ閉時のシャッタ下面位置よりも低く、遮蔽板の内周によって画定される領域がシャッタ閉時のシャッタ外周によって画定される領域内に含まれ、遮蔽板が蒸着材料充填容器から離隔されて配置され、遮蔽板の平面断面図において、遮蔽板がその内周によって画定される領域の閉塞を開放する少なくとも1つの開放部を有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】真空蒸着装置において、基板の回転の中心位置であっても膜厚分布を容易に制御可能な装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料を蒸発させる蒸発源、第1の回転軸に対して回転され蒸発源に対して対向配置される回転基板、及び第2の回転軸に対して回転され回転基板を蒸発源から部分的に遮蔽する回転膜厚補正板を備えた真空蒸着装置において、第2の回転軸が、回転基板の周縁内に第1の回転軸と離隔してかつ平行に規定される構成とした。 (もっと読む)


【課題】成膜装置における回転体への電力の供給構成について、確実な給電を確保するとともにメンテナンス性を向上する。
【解決手段】電源および動力源を有する真空成膜室ならびに真空成膜室内の成膜位置にセットされる基板ホルダを備えた成膜装置において、電源が給電電極を有し、基板ホルダが、成膜位置に静止される静止系ユニットおよび静止系ユニットに搭載され動力源によって駆動される駆動系ユニットからなり、静止系ユニットが給電電極と電気的に接続される受電電極および受電電極からの電力を駆動系ユニットに供給するコンタクト機構を備える構成とした。 (もっと読む)


【課題】水晶振動子の共振周波数を簡単で正確に調整する。
【解決手段】周波数調整装置は、チャンバ内に配置された水晶振動子21上の電極にイオンビームを照射してエッチングするイオンガンと、水晶振動子21の電極に接触するプローブと、水晶振動子21と共に発振回路を構成する共振回路35と、プローブと共振回路35とを接続する同軸ケーブル34A,34Bと、共振回路35の出力信号に基づいて、水晶振動子21の共振周波数をモニタし、イオンガンを制御する制御部とを備える。同軸ケーブル34A,34Bの内導体は、プローブと共振回路の入力端又は出力端とを接続し、同軸ケーブル34の外導体には、所定の基準電圧が印加されている。同軸ケーブル34Aと34Bの特性、特に、長さは、帰還回路113の入出力信号の位相差が180°となるように設定されている。 (もっと読む)


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