説明

株式会社昭和真空により出願された特許

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【課題】成膜効率の高い成膜装置を実現する。
【解決手段】板状の反転治具57に基板Wを複数保持し、基板を保持する4枚の反転治具57を保持する基板ホルダ50を、真空チャンバー内に基板Wと蒸着源とが対向するように配置し、真空蒸着を開始する。蒸着源と対向する基板Wが成膜された場合、基板ホルダ50を90度回転させる。1面が成膜された反転治具57を、反転治具57と一体になったゼネバ581を回転させることで反転させる。全ての反転治具57の両面が成膜されるまで、真空蒸着を継続する。 (もっと読む)


【課題】ターゲットの使用効率の高いマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を実現する。
【解決手段】カソード電極が設けられた真空チャンバー内において、カソード電極の表面にターゲットを、カソード電極に対向する位置に基板を配置する。そして、カソード電極の裏面に中央部を囲むように環状に第1環状磁石305を配置し、第1環状磁石305を囲むように環状に第2環状磁石307を配置し、第2環状磁石307を囲むように環状に第3環状磁石309を配置する。第1環状磁石305は、ターゲットに対して垂直に磁界を発生させる。第2環状磁石307はターゲットに対して第1環状磁石305と同一方向に、第3環状磁石309は第2環状磁石307と逆方向に磁界を発生させる。そして、ターゲットと基板との間に高電圧を印加すると、ターゲットの外縁部が最も深いエロージョンが形成される。 (もっと読む)


【課題】真空蒸着装置において、蒸着材料の溶かし込み工程で付着した膜に起因する成膜への影響を除去する。
【解決手段】ガス吸排気手段を有する真空槽、真空槽内部に配置された基板保持手段、基板保持手段に対向配置された蒸着源、蒸着源に電子ビームを照射する電子銃、蒸着源を開閉するシャッタ、プラズマ発生手段、並びにガス吸排気手段、電子銃、プラズマ発生手段及びシャッタを制御する制御手段からなる真空蒸着装置の制御方法であって、(A)蒸着源に蒸着材料を充填し、基板保持手段に基板を設置する工程、(B)ガス吸排気手段によって真空槽内を所定のガス雰囲気に設定及び維持する工程、(C)プラズマ発生手段によって真空槽内にプラズマ雰囲気を生成する工程、(D)プラズマ雰囲気において電子銃を照射して蒸着材料を融解する溶かし込み工程、及び(E)シャッタを開いて成膜を開始する工程からなる制御方法である。 (もっと読む)


【課題】蒸発により飛散した物質がポールピース上に堆積していくのを防止するとともに、真空チャンバ内、特にポールピースの周囲に余分な残骸物を残しておくような状況をつくり出さないことの可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】ポールピース51を蒸発により飛散した物質から遮蔽するポールピースカバー15と、該ポールピースカバー15を所定の支点を中心として回転駆動し及び並進駆動する駆動手段を備える。そして、前記ポールピースカバー15を被打撃体20の被打撃面に所定回数衝突させて、当該ポールピースカバー15に付着した物質を該ポールピースカバー15から剥落させるように、前記駆動手段を駆動制御する制御手段を備える。 (もっと読む)


【課題】小型でかつ真空槽内部でも使用可能なソレノイドと、シャッタ枚数が増加しても他のシャッタ板の動作環境に影響を及ぼさない構造を備えた、独立して駆動する複数枚のシャッタを有する生産性の高い圧電素子の周波数調整装置を提供する。
【解決手段】ベース板の窓より露出する素子と同数枚のシャッタ板を各素子に対応して配列し、各々独立に駆動させる。起動時と保持時の電圧を可変とする手段と、自身の冷却手段とを備えたソレノイドを対向して配置し、内部に一対の可動鉄芯を挿入し、一対の可動鉄芯のフランジ部に1枚のシャッタ板を挟持して連結し、シャッタ板のシャッタ開閉動作の支点となる開口部に、円盤状のワッシャーと、シャッタ板の板厚より若干厚めのカラーを勘合して、各ソレノイドに連結された複数枚のシャッタ板を積層し、ソレノイドを駆動することにより1つの支点で複数枚のシャッタ板を個別に駆動させ、シャッタの開閉を行う構成とした。 (もっと読む)


【課題】基板ドームへの給電機構を搭載する真空装置において、基板ドームの回転電極を双方向に回転させても給電機構のコンタクトにかかる力を適切に制御できる機構を提供する。
【解決手段】回転電極に接触して電力を供給する給電機構を備える真空装置において、回転電極が第1及び第2の回転方向に水平回転するように構成され、給電機構が回転電極との接触部を構成する少なくとも1つのコンタクトを備え、接触部の法線方向であって回転電極の中心方向と、接触部の接線方向であって第1の回転方向が向く方向との狭角方向及びその反対方向を第1の方向と定義し、接触部の法線方向であって回転電極の中心方向と、接触部の接線方向であって第2の回転方向が向く方向との狭角方向及びその反対方向を第2の方向と定義した場合、コンタクトが、給電機構上の第1の支点を中心に第1の方向に可動であり、かつ、第2の支点を中心に第2の方向に可動となるように構成した。 (もっと読む)


【課題】膜厚を光学的に測定する有機EL用の光学式膜厚測定装置において、簡素な構成で正確に膜厚を測定する。
【解決手段】構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置において、少なくとも成膜中に構造体に所定の波長の照射光を投光する手段、照射光に対する構造体からの反射光強度又は透過光強度を検出する手段、及び反射光強度又は透過光強度に基づいて有機薄膜の膜厚を特定する手段からなり、所定の波長が、有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下、好ましくは10%以下、の吸光度を与える波長範囲に含まれるようにした。 (もっと読む)


【課題】簡易な構造でガスの供給量を良好に調節し、良好な成膜が可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置10は、成膜室21と、ターゲット23と、スパッタカソード24と、スパッタリングガス供給部31,32と、を備える。スパッタリングガス供給部31,32は、複数の噴出孔が形成された筐体と、噴出孔に嵌入し筐体に螺合されるボルトと、筐体にガスを導入する導入口と、を備える。噴出孔のボルトに対向する面は、テーパ状に形成されており、ボルトの平板部もテーパ状に形成されることにより、噴出孔とボルトとの間には間隙が生じる。ボルトのねじり込み具合を調節することによって、噴出孔とボルトとの間隙を調節し、ガスの噴出する量を連続的に変化させることができる。 (もっと読む)


【課題】成膜の良好なモニタリングが可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、真空槽30と、基板が設置された基板ドーム22と、蒸着材料が設置された坩堝と、基板ドーム22に設置されたモニター部21と、を備える。モニター部21は、モニターガラス41と、モニター窓42と、投光部43と、ミラー44と、受光部47等から構成されており、モニター窓42を介してモニターガラス41に形成された膜の厚さを投光部43から光を照射し、各波長における吸収率光の強度の変化量を測定することにより計測する。モニター窓42は、断面形状が台形状に形成されているため、開口42a内にイオン、蒸着材料が導かれやすい。従って、モニターガラス41は良好に成膜される。モニターガラス41へ良好に成膜が生じることにより、基板ドームに設置された基板の成膜の良好なモニタリングが可能となる。 (もっと読む)


【課題】樹脂基板上に高い密着性と緻密性を有する光学薄膜を成膜する。
【解決手段】成膜基板23を基板ドーム22に配置する。SiOからなる蒸着材料34に電子銃36から電子ビームを照射してこれを加熱し蒸発させると共に負極性の矩形直流電圧を基板ドームに印加した状態で300nm以上の膜厚のSiO膜を形成する。続いて、ZrO等の蒸着材料を電子ビームで加熱すると共にイオンソース40からイオンを供給することによりイオンアシスト効果を付与しZrO膜を形成する。以後、同様の工程で、必要な膜を形成する。 (もっと読む)


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