【課題】 多層膜の成膜において、膜の密着性を高め、クラックの発生を抑制し、成膜後の波長シフトの小さい光学素子の製造を可能とする。
【解決手段】 多層膜の成膜方法であって、通常蒸着により圧縮応力を示す蒸着膜を形成するステップ、及びプラズマを用いた蒸着により引張応力を示す蒸着膜を形成するステップからなる多層膜の成膜方法において、圧縮応力を示す蒸着膜と引張応力を示す蒸着膜とを交互に積層するようにした。 （もっと読む）

【課題】様々な装置に対して最適な所要電力量、排気性能で運転される油拡散ポンプを提供する。
【解決手段】ヒータにより加熱した作動油の蒸気流をジェットから噴射して吸入気体を排気する油拡散ポンプに使用する消費電力量削減装置において、予め入力された制御信号に基づいて、ヒータに供給する電力を断続的に遮断する構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板角度を自動調整し、かつ同時蒸着を行う基板毎に成膜条件出し可能な真空蒸着装置および方法を提供する。
【解決手段】排気手段を有する真空槽内に、蒸着源、蒸着される基板を保持する基板保持機構、及び各基板に対して蒸着粒子の入射状態を調整するスリット開口を有する少なくとも１つのスリット機構を備え、基板面に液晶配向膜を形成する液晶配向膜用真空蒸着装置において、各基板保持機構について、スリット機構に取り付けられ、スリットに対する基板の相対位置を調整するために基板保持機構を移動させる可動機構を設けた。 （もっと読む）

【課題】蒸着対象が大型基板であっても単純な構成で無機配向膜を効率よく形成する液晶配向膜用真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】排気手段を有する真空槽及び真空槽内部の蒸着源を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において、蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、およびスリットを介して蒸着源に対向する位置に配置され鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段であって基板上の任意の点と蒸着源とを結ぶ直線と基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板保持手段を備え、鉛直線を中心に基板およびスリットが相対的に回転可能であり、スリットを通過した蒸着材料によって基板が斜方蒸着されて配向膜が形成されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】オゾン導入手段により基板洗浄と酸化物薄膜の形成を連続的に行うことを可能とする連続式成膜装置及び方法を提供する。
【解決手段】排気手段を備える真空槽、基板表面に成膜材料を堆積させる成膜手段、成膜手段に対面する成膜位置に順次基板を供給する搬送手段、および、基板表面にオゾンを吹き付けるオゾン導入手段を備える連続式成膜装置において、オゾン導入手段を用いて成膜位置に供給される直前の基板にオゾンを吹き付ける構成とした。 （もっと読む）

【課題】複数の異なる構造および膜組成をもつタンデム積層型有機薄膜機能素子を同一真空槽内で効率的に簡便に形成することが可能な有機薄膜形成装置を実現する。
【解決手段】薄膜形成装置において、真空槽、真空槽内部に形成され各々独立の成膜雰囲気を維持可能な複数の小成膜室、各小成膜室に配置される少なくとも１つの蒸着源、蒸着源に対面する所定の成膜位置に基板を配置させる基板保持手段、および、基板保持手段を駆動する移送機構を備え、移送機構を用いて任意の小成膜室内に任意の基板を配置させ、各小成膜室において基板それぞれが独立してかつ所望の時間に成膜される構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板搬送機構に非接触の駆動伝達機構を採用し、成膜ゾーンに間隙無く基板トレーを搬送することにより無駄な成膜を低減する新方式の基板搬送機構を提供する。
【解決手段】成膜室に配した成膜ゾーンに、成膜される基板を連続的に搬送する連続式成膜装置において、基板を保持する基板保持手段、および基板保持手段に非接触で動力を伝達する駆動伝達機構からなる構成とした。 （もっと読む）

【課題】 基板上に堆積する物質の膜厚又は成膜速度の測定において、安定した測定手段によって成膜中リアルタイムで膜厚又は成膜速度を監視する。
【解決手段】 発振回路を有する水晶振動子上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量をモニタする測定装置であって、水晶振動子の振動周波数を送信する送信手段、水晶振動子および送信手段を連動して移動させる移動手段、並びに水晶振動子の振動周波数を受信する受信手段を有し、水晶振動子上への物質堆積時に送信手段の送信部が移動する移動経路内の任意の一点と受信手段の受信部とが常に略一定距離を保つように構成した。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着に用いられる蒸発源に蒸着材料を自動供給する場合に、蒸着材料を大容量搭載し、定量供給する蒸着材料供給機構を提案する。
【解決手段】真空室内部に配置した蒸着材料を基板面に堆積させる真空蒸着装置用の蒸着材料供給装置であって、定量形成された蒸着材料を複数個積重する収容器、収容器の底面を開放して落下させた少なくとも１つの蒸着材料を受容する受容手段、受容手段の底面を開放して受容されている蒸着材料を投下する投下手段、および収容手段と受容器との相対位置、及び受容手段と投下手段との相対位置を水平面内において変化させる移動手段からなり、収容手段に対する収容器の相対位置が所定の位置にある場合に収容器の底面の開放が行われ、受容手段に対する投下手段の相対位置が所定の位置にある場合に受容手段の底面の開放が行われるように構成した。 （もっと読む）

【課題】 薄膜形成装置において、ターゲット材料の利用率向上、タクトタイムの向上、メンテナンス性の向上、および成膜精度の向上を図る。
【解決手段】 真空室、ターゲット材料を保持するスパッタカソード、スパッタされたターゲット材料を堆積する基板を搭載する搭載手段、および搭載手段の搬送機構を備えた薄膜形成装置において、搬送機構において基板がターゲット材料の前面を通過するよう搬送経路が設けられ、搭載手段が、複数の基板を連接させて保持できる基板トレーからなる構成とした。 （もっと読む）