【課題】溶融した蒸着材料をリザーバ等に溜めておくことなく下方蒸着を行う蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、真空槽１０、真空槽内部に配置され基板１を載置する基板ステージ２４、真空槽内部で前記基板ステージよりも上方に配置され下面３１ａに加熱面を有する抵抗加熱ボード３１、及び真空槽内部に配置され抵抗加熱ボードの下面加熱面に線蒸着材３の先端を接触させる線蒸着材供給部４０を備える。 （もっと読む）

【課題】連続的に多数の基板を成膜するのに適した基板搬送機構を真空槽内部に備えた下方蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置は、真空槽、真空槽内で基板を格納位置と成膜位置の間で移動させる搬送機構、及び真空槽内に配置され成膜位置の上方から蒸着材料を蒸発させる蒸発源を備え、搬送機構は、開口部を有し水平方向に延在する中空体からなる水平経路、水平経路内で、格納位置と開口部の直下である方向転換位置との間で基板を移動させる水平搬送手段、及び基板を方向転換位置と成膜位置の間で移動させる昇降可能な基板ステージを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着時の突沸を防止して膜上のパーティクルを低減すると同時に、蒸着材料の使用効率を向上させる装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム蒸着装置において、蒸着材料が充填される坩堝、前記蒸着材料に電子ビームを照射して該蒸着材料を蒸発させるための電子銃、及び前記坩堝に対向して配置され、蒸発した前記蒸着材料が成膜される基板を保持する基板保持部を備え、前記電子ビームの出力電力が１．２〜３．０ｋＷの範囲で、前記成膜の条件に基づいて加速電圧が数値２ｋＶ以上〜６ｋＶ未満の範囲で設定されるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】イオンビームを選択的に通過させるためのシャッタ装置に使用されるシャッタユニットにおいて、隣り合うシャッタ羽根間の隙間からイオンビームが漏れるのを防止し、かつ、シャッタ同士が干渉せずに動作できる構成を提供する。
【解決手段】本発明のシャッタユニットは、並置された複数のシャッタアームからなり、シャッタアーム各々の長手方向をｘ軸、並置方向をｙ軸、ｘ軸とｙ軸に垂直な方向をｚ軸として、シャッタアームの各々がｘ軸方向に摺動可能であり、ｘ軸方向先端にシャッタ羽根を有し、シャッタ羽根の各々について、隣り合うシャッタ羽根同士が、ｚ軸方向にオフセットした形状によってｚ軸方向の見通し線を遮断するエッジ部を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成・制御で高い品質の透明導電膜を生成する。
【解決手段】Ｉｎ−Ｓｎ合金膜１２０をガラス基板１２上に成膜し、成膜されたＩｎ−Ｓｎ合金膜１２０を、エッチングしてパターニングした後、水蒸気生成装置４２の処理室４００に格納する。水蒸気生成装置４２によって水蒸気を生成させて、その基板１２を格納する処理室４００に水蒸気を導入する。Ｉｎ−Ｓｎ合金膜１２０が水蒸気に曝された状態を所定の時間保持することで、ＩＴＯ膜１４０となるようにＩｎ−Ｓｎ合金膜１２０を酸化反応させる。 （もっと読む）

【課題】圧電振動デバイスの製造において圧電振動デバイスの気密検査にかかる時間を短縮させる。
【解決手段】水晶振動子１の製造装置７では、真空雰囲気下でベース３と蓋４とを加熱接合して真空状態の内部空間１２を形成し、内部空間１２に水晶振動片２を気密封止する気密封止室７３と、真空雰囲気下で水晶振動子１の内部空間１２の気密状態を検査する検査室７５と、が設けられ、水晶振動子１を気密封止室７３、検査室７５の順に搬送する。 （もっと読む）

【課題】複数の圧電素子を同時に強励振させることができる強励振回路及び強励振方法を提供する。
【解決手段】並列接続された複数の圧電素子を同時に強励振させる強励振回路において、複数の圧電素子の中心共振周波数付近の単一の周波数を第１の信号として出力する第１の信号発生器、複数の圧電素子間の共振周波数ばらつき量を含む周波数範囲のホワイトノイズを第２の信号として発生する第２の信号発生器、第１の信号と第２の信号を乗算する乗算器、及び乗算器の出力を増幅して複数の圧電素子に印加する増幅器を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】複数のフィラメントを有するイオンガンにおいて、イオンビームの電流密度を均一にする。
【解決手段】カソードが長手方向に延在する複数のフィラメントからなり、グリッドが長手方向に延在するイオンビーム引出し孔を有するイオンガンにおいて、イオンビーム引出し孔の周辺に配置された複数の主磁石であって、各々がＳ極をイオンビーム出射方向に、Ｎ極をその逆方向に向けて配置された主磁石、複数の主磁石の端部に長手方向及び幅方向に関して対称配置された少なくとも４個の第１の補助磁石であって、各々がＳ極を長手方向内向きに、Ｎ極をその逆方向に向けて配置された第１の補助磁石、及び複数のフィラメント間の離隔部分に対応する位置に幅方向に対称配置された第２の補助磁石であって、各々がＮ極をイオンビーム出射方向に、Ｓ極をその逆方向に向けて配置された第２の補助磁石を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板搬送を効率的に行うとともに、精度の高い基板の搬送処理に対応することができる基板処理装置、基板処理方法ならびに、プログラムを提供する。
【解決手段】複数のアーム１０３ａ、１０３ｂにより、同一水平線上で且つ水平位置と高さとが互いに異なる位置で把持した基板を処理室２００に搬送する。処理室２００に搬送された基板は、複数のアーム１０３ａ、１０３ｂの基板把持位置に対応する高さを有し、水平方向に並列に配置された複数の基板載置台２０６ａ、２０６ｂに載置される。また、排気処理は、第１室２０７の排気を第２室２０８の排気が開始する前に開始する。 （もっと読む）

【課題】コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構を付加することなく安定した動作を有する装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置において、導電体から成る筒状のコレクター電極及びコレクター電極に巻装された高周波誘導コイルを備え、コレクター電極は側面に開口部を有し、開口部が高周波誘導コイルの高圧側端部に対応して配置されるように構成した。 （もっと読む）