説明

株式会社巴川製紙所により出願された特許

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【課題】 反射減衰量、温度変化に対する安定性に優れる光終端器およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂チューブ11の空孔Hに屈折率整合粘着剤12が充填されている光終端器であって、該屈折率整合粘着剤12は、アクリル酸ブチルを含有することを特徴とする光終端器。アクリル酸ブチルを含有する屈折率整合粘着剤12と溶剤とを混合して粘着剤溶液を作製する工程と、熱収縮性樹脂チューブ11′の一端より該粘着剤溶液を注入する工程と、前記熱収縮性樹脂チューブ11′を加熱収縮させるとともに該粘着剤溶液の溶剤を揮発させる工程と、を有することを特徴とする光終端器の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 高湿度条件下でも高いガスバリア性を発現する粘土膜複合体を提供することを目的とする。
【解決手段】 粘土のみ、又は粘土と添加物から構成される粘土膜の少なくとも片面に水蒸気透過度が1.0g/m・day以下の水蒸気バリア層を設けることを特徴とする粘土膜複合体。粘土膜の粘土粒子層間距離が1.3nm以下であることが好ましい。粘土膜の水分量が3.0%以下であることが好ましい。水蒸気バリア層と粘土膜とを溶融接着させることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 研磨を必要とせず、構造の簡略化を実現できる反射防止フィルムおよびその製造方法、並びに光伝送媒体端末構造を提供する。
【解決手段】 傾斜シート11、12の一面に屈折率整合剤15を有する反射防止フィルムであって、前記傾斜シート11、12は、厚みの変化による傾斜面31を有することを特徴とする反射防止フィルム。光機能部品と光伝送媒体とを、レンズ50および反射防止フィルム10、10aを介して接続する光伝送媒体端末構造であって、前記反射防止フィルム10、10aは、傾斜シート11、12の一面に屈折率整合剤15を有し、前記傾斜シート11、12は、厚みの変化による傾斜面31を有することを特徴とする光伝送媒体端末構造。 (もっと読む)


【課題】 シンジオタクチックポリスチレン系シートと接着性改質層との層間の密着性が高く、該層上にラミネートまたは粘接着のための接着剤層、表面硬度向上のためのハードコート層を積層した場合の密着性に優れたシンジオタクチックポリスチレン系シート状積層体を提供する。
【解決手段】 シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むスチレン樹脂からなるシートの少なくとも片面に、JIS K7215(1979年制定、1986年改正)に準じたデュロメータD硬さが5〜30またはデュロメータA硬さが60〜85の少なくとも一方を満たす熱可塑性エラストマーを80質量%以上含有する樹脂組成物からなる接着性改質層を設けたことを特徴とするシンジオタクチックポリスチレン系シート状積層体およびその製造方法、さらに、該シート上にハードコート層を設けたハードコート積層体。 (もっと読む)


【課題】 シンジオタクチックポリスチレン系シートと接着性改質層との層間の密着性が高く、該層上にラミネートまたは粘接着のための接着剤層、表面硬度向上のためのハードコート層を積層した場合の密着性に優れたシンジオタクチックポリスチレン系シート状積層体を提供する。
【解決手段】 シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むスチレン樹脂からなるシートの少なくとも片面に、アミノ樹脂組成物を含有する接着性改質層を0.1〜10μmの層厚で有し、該シート/接着性改質層間の剥離強度が、JIS−K5600−5−6(1999年制定)に準じた密着性残存率で90%以上であることを特徴とするシンジオタクチックポリスチレン系シート状積層体およびその製造方法、さらに、該シート上にハードコート層を設けたハードコート積層体。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、薄膜である上に、耐熱性、耐アルカリ性、機械的強度、寸法安定性を有するポリフェニレンサルファイド製の不織布およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 結晶化度が25%以上の延伸ポリフェニレンサルファイド繊維と結晶化度が25%未満の未延伸ポリフェニレンサルファイド繊維を含む湿式不織布であり、前記湿式不織布に熱処理を施し、未延伸ポリフェニレンサルファイド繊維の結晶化度を25%以上にせしめた湿式不織布。また、結晶化度が25%以上の延伸ポリフェニレンサルファイド繊維と結晶化度が25%未満の未延伸ポリフェニレンサルファイド繊維を含む繊維の分散体を湿式抄紙して湿体シートを得た後、前記湿体シートに熱処理を施し、未延伸ポリフェニレンサルファイド繊維の結晶化度を25%以上にせしめる湿式不織布の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 透光性基体上に光学機能層を積層した構成であっても、帯電防止性、防汚性、防眩性、高コントラスト、高精細性の特徴を持つ光学積層体、およびそれを用いた偏光板ならびに表示装置の提供。
【解決手段】 透光性基体上に、直接あるいは他の層を介して、少なくとも透光性微粒子と導電材料を含有する光学機能層を設けた光学積層体であって、該光学積層体の全ヘイズが0〜10の範囲であり、かつ、光学積層体の画像鮮明性が50〜80%の範囲であり、光学機能層表面の算術平均粗さRaが0.05〜0.20μmの範囲であり、光学機能層表面の凹凸平均間隔Smが50〜150μmであり、光学機能層の表面における水の接触角が100°以上であり、光学機能層表面の飽和帯電圧が0.5kV以下であることを特徴とする光学積層体。 (もっと読む)


【課題】 防眩性と高コントラストを両立することができる光学積層体およびその製造方法と、当該光学積層体を具備してなる偏光板、および当該光学積層体または当該偏光板を具備してなる表示装置を提供する。
【解決手段】 透光性基体と、上記透光性基体上に設けられた、少なくとも1層の光学機能層とを備え、上記光学機能層はドメイン構造を有し、上記光学機能層の膜厚Dと上記光学機能層に含有されてなる透光性微粒子の平均粒子径rが、3×r<D≦10×rの関係式で示される範囲にあることを特徴とする光学積層体。 (もっと読む)


【課題】 透光性基体上に光学機能層を一層積層した構成(一層構成)であっても、帯電防止性および防汚性を発現しケン化処理を行った場合でも帯電防止性および防汚性が低下する恐れの少ない光学積層体、およびそれを用いた、偏光板ならびに表示装置の提供。
【解決手段】 透光性基体と、少なくとも電離放射線硬化型フッ化アクリレートと導電性金属酸化物とを含有する組成物を硬化して得られる光学機能層と、を有する光学積層体であり、前記電離放射線硬化型フッ化アクリレートの分子量が1000以上で、且つ、アクリロイル基を3個以上含有することを特徴とする光学積層体。 (もっと読む)


【課題】 一層構成で、優れた帯電防止性能を有し、かつ耐光性、耐ケン化性および耐スクラッチ性に優れた光学積層体、偏光板およびそれを用いた表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 透光性基体上に、直接あるいは他の層を介して、少なくとも導電材料を含有する光学機能層を少なくとも設けた光学積層体であって、該光学積層体表面のカーボンアーク式耐光性試験後の表面抵抗率が1.0×1012Ω/□以下であり、かつカーボンアーク式耐光性試験前後の表面抵抗率の比(R2/R1;R1=カーボンアーク式耐光性試験前の表面抵抗率、R2=カーボンアーク式耐光性試験後の表面抵抗率)が10以下であることを特徴とする光学積層体。 (もっと読む)


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