【課題】 低消費電力で、電磁ノイズ、不要輻射の小さい半導体表示装置を提供する。
【解決手段】 周辺駆動回路において、レベルシフタ回路によって電圧レベルが上げられたクロック信号を、シフトレジスタ回路に入力する。そしてシフトレジスタ回路からのタイミング信号をレベルシフタ回路に入力し、２段階で電圧レベルを上げてやる。これによって、駆動回路の消費電力を小さくし、電磁ノイズを抑え、不要輻射を小さくすることを実現した。 （もっと読む）

【課題】 書類等の複製を防止するに当たり、書類等にバーコード処理を施した場合であっても、バーコードそのものが改ざんされやすく、複製防止、偽造防止の機能を果たさなくなるおそれがある。また、複数枚数の書類の場合には、一枚一枚バーコードを読み取って複製可能性の有無を判断する必要があるため、処理能力が遅くなるという問題があった。
【解決手段】 本発明は、原稿を複写、再製、スキャン、又は伝送等するための機構を備えた機器であって、前記原稿に搭載された半導体装置と通信可能なリーダと、前記リーダから得られた情報に基づいて、前記原稿の複写、再製、スキャン又は伝送等の可否を制御する制御部とを備えていることを特徴とする。これにより、原稿の複製の可否を素早く判断・制御することにより、不正コピー等の不正行為を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 装置を煩雑にせず、半導体膜の結晶ラテラル成長位置を制御することを課題とする。
【解決手段】 絶縁基板上に半導体膜を形成し、前記半導体膜の一部の上に絶縁膜でなる反射膜を形成し、前記反射膜をマスクとしてレーザー光を照射することにより、露出された前記半導体膜を結晶化することを特徴とする。また、上記発明の構成において、前記反射膜は、屈折率の高い絶縁膜と屈折率の低い絶縁膜とが交互に積層された構造であることを特徴とする。具体的には、酸化珪素膜と、前記酸化珪素膜上に接して形成された窒化珪素膜と、からなることを特徴とする。より好ましくは、酸化珪素膜と、窒化珪素膜と、を何層か積層して反射膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、ＥＬ材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置を備えた製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、所望の蒸着領域に対して小さい開口を有するマスクを用い、該マスクを精密に移動させることによって、所望の蒸着領域全体に蒸着を行うことを特徴の一つとしている。また、マスクを移動させることに限定されず、マスクと基板とが相対的に移動すればよく、例えば、マスクを固定して基板をμｍレベルで移動させてもよい。 （もっと読む）

【課題】 動作性能および信頼性の高いＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】 画素電極（陽極）４６、ＥＬ層４７及び陰極４８でなるＥＬ素子２０３の下には第３パッシベーション膜４５が設けられ、インクジェット方式で形成されたＥＬ素子２０３中のアルカリ金属がＴＦＴ側へ拡散するのを防ぐ。さらに第３パッシベーション膜４５はＴＦＴ側からの水分や酸素の侵入を防ぎ、ＥＬ素子２０３で発生した熱を分散させてＥＬ素子２０３の劣化を抑制する。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、工程、装置を複雑化することなく、要求される特性を有する薄膜トランジスタを作製することを目的とする。また、薄膜トランジスタの特性を精密に自由に制御することで、高い信頼性や優れた電気特性を有する半導体装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、薄膜トランジスタにおいて、ゲート電極層で覆われている半導体層のソース領域側かドレイン領域側の一方に、低濃度不純物領域を作製する。低濃度不純物領域は、ゲート電極層をマスクとして、半導体層表面に対し、斜めにドーピングすることによって形成される。よって、薄膜トランジスタの微細な特性の制御を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 光学調整に困難を伴うことなく、３以上のレーザビームを照射面にて合成し、高出力で生産性を向上させることができるレーザを照射する技術の提供。
【解決手段】 その技術は、波長の互いに異なるレーザ発振器とダイクロイックミラー、又はそれに加えて偏光子を用いてレーザビームを合成し、高出力で生産性を向上させレーザを照射するものであり、例えばレーザ発振器から射出されたレーザ光１をダイクロイックミラー１を通過させ、レーザ光１とは波長の異なるレーザ発振器から射出されたレーザ光２をダイクロイックミラー１で反射させてレーザ光を合成し、合成されたレーザ光を照射レーザ光とし、照射レーザ光を照射面上に投影するものである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、湿式法を用いた作製がし易い発光素子について提供することを課
題とする。
【解決手段】 本発明の一は、トランジスタと、発光素子とを含む発光装置である。発光
素子は、 第１の電極の上に、有機層と、発光層と、第２の電極とが順に形成されたもの
であり、配線を介してトランジスタと発光素子とは電気的に接続している。ここで、配線
は、アルミニウムと、炭素と、チタンとを含む。また、有機層は、湿式法によって形成さ
れた層である。そして、有機層と接する第１の電極は、酸化チタンを含むインジウム錫酸
化物から成る。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置の作製に利用されるレーザープロセスにおいて、大面積に渡り均一なアニールを施すことができる技術を提供する。
【解決手段】
基板上に形成した非晶質珪素膜を結晶化して結晶性珪素膜を形成し、前記結晶性珪素膜に線状レーザー光を照射して結晶性を向上させる。前記線状レーザー光はレーザー発振器１０１からレーザー光を発振し、前記レーザー光の所定方向におけるエネルギー密度分布を制御する第１のホモジナイザー１０２および第２のホモジナイザー１０３を通り、前記第１のホモジナイザー１０２および前記第２のホモジナイザー１０３を通ったレーザー光を線状に成形することにより形成され、前記所定の方向は、前記線状レーザー光の長手方向である。このようにすることで、長手方向における照射エネルギー密度の均一性を向上させた線状レーザー光により、活性層となる珪素膜をアニールすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 大量生産上、大型の基板に適している液滴吐出法を用いたパターン形成装置を備えた半導体装置の製造装置を提供する。
【解決手段】本発明では、液滴吐出法を用いたパターン形成装置と、加熱処理室をそれぞれ複数設置し、それぞれを一つの搬送室と連結させたマルチチャンバー方式とし、吐出と焼成とを効率よく行って生産性を向上させる。パターン形成装置にブロー手段を設け、着弾直後にガスの吹きつけを基板の走査方向（或いは吐出ヘッドの走査方向）と同じ方向に行い、ガス流路中に加熱ヒータを設けて局所的に焼成を行う。 （もっと読む）