【課題】 製膜性及び透明性に優れた刺激応答性材料を提供すること。
【解決手段】少なくとも1種の式（１）：
【化１】


で表される脂環式ビニルエーテルと、少なくとも１種の式（２）：
【化２】


で表されるオキシエチレン鎖含有ビニルエーテル、又は少なくとも１種の式（３）：
【化３】


で表される長鎖アルキル基含有ビニルエーテルを主鎖に有する脂環式ビニルエーテル共重合体。 （もっと読む）

【目的】比較的低い硬化温度で耐熱性に優れた樹脂を形成させることができ、熱可塑性樹脂の改質剤として用いることができる、水系樹脂エマルションを提供する。
【構成】メチルエチルケトン１５０ｇにビス［４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド ）フェニル］メタン７２．５ｇと、ビス（３−エチル−５−メチル−４−マレイミドフェニル）メタン７２．５ｇとを溶解した樹脂溶液を用意する。容量１l のホモミキサーに３７５ｃｃの水を入れ、撹拌しながらポリビニルアルコール１５ｇ及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５ｇを順次加えて溶解し、さらに撹拌しながら上記樹脂溶液を加え、均一に撹拌した後、加圧式ホモジナイザーに移して乳化を行なう。その後、加温下で減圧してメチルエチルケトンを留去させ、水系樹脂エマルションを得る。 （もっと読む）

【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜形成用組成物等の塗膜形成用組成物に好適に用いられる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明は、少なくとも、酸によって分解してアルカリ現像液に可溶性になる構造を有する繰り返し単位（Ａ）と、半導体基板に対する密着性を高めるための極性基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを有する半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法であり、該繰り返し単位を与えるエチレン性二重結合を有する２種類以上のモノマーを含む溶液を、加熱した溶媒中に滴下することによりラジカル重合させて半導体リソグラフィー用共重合体を製造するに際し、滴下する前のモノマーを含む溶液中に重合抑制成分として、重合禁止剤又は酸素を共存させ、この溶液を加熱した溶媒中に滴下してラジカル重合させる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法に関する。
【選択図面】なし （もっと読む）

本発明は、水蒸気の存在下、酸化物触媒を用いて、気相でアルケンから対応するアルコール及び／又はケトンを製造する方法に関する。本発明によれば、水蒸気の存在下、気相でアルケンを含有する原料を酸化物触媒と接触させて反応を行うことによって、アルコール及び／又はケトンを製造する方法であって、酸化物触媒が、（ａ）モリブデン及び／又はスズの酸化物を含有すること、及び（ｂ）反応中において、酸化物触媒上の炭素質物質の蓄積量が０．１〜１０質量％の範囲に制御されていることの要件を満たす、上記方法が提供される。
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【課題】 従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりもレジスト感度を高めることができると共に、現像後の異物の低減等の効果が期待されるポジ型感光性樹脂、及び、このポジ型感光性樹脂の製造に極めて好適に用いることができる新規ジチオール化合物を提供する。
【解決手段】 本発明のポジ型感光性樹脂は、一般式（１）
【化１】


で表される構造を高分子主鎖に有することを特徴とし、本発明のジチオール化合物は、一般式（２）
【化２】


で表されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜として好適な、保存中のパーティクルの析出が僅かであるために現像欠陥が極めて少ない半導体レジスト用共重合体を得ることのできる半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法を提供する。
【解決手段】本発明は、極性基を有する繰り返し単位と脂環構造を有する繰り返し単位とを有する半導体レジスト用共重合体を含み、且つ、イオン性添加剤を含まない半導体レジスト用共重合体溶液を、アミノ基及び/又はアミド結合を有する樹脂を含むフィルターに通過させることを特徴とする半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法である。 （もっと読む）

【課題】 高解像性を有するとともに、レジストパターンの矩形性、ＬＥＲ、ＤＯＦ、およびＥＬマージンの少なくとも１つを改善できるようにする。
【解決手段】フェノール性水酸基を有する構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環又は多環式基を有する構成単位（ａ２）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ３）とを有する共重合体。 （もっと読む）

【課題】 効率的に、かつ、高純度のトリエチレングリコールジビニルエーテルを製造する方法の提供。
【解決手段】 トリエチレングリコールとアセチレンとの反応で得られるトリエチレングリコール５〜２０質量％、トリエチレングリコールモノビニルエーテル６０〜９０質量％及びトリエチレングリコールジビニルエーテル５〜２０質量％を含有する生成混合物を、連続反応蒸留し、次いで抽出蒸留することを特徴とするトリエチレングリコールジビニルエーテルの製造方法。 （もっと読む）

本発明は、水蒸気の存在下、少なくとも１種のアルケンを含有する原料を気相で酸化物触媒と接触させて反応を行うことによって、該アルケンに対応するアルコール及び／又はケトンを製造する方法であって、（ａ）前記酸化物触媒がモリブデン及び／又はスズの酸化物を含有すること；（ｂ）前記反応を、分子状酸素を供給しない条件下で流動床反応器と再生器間で該触媒を循環させる方式で行うこと；及び（ｃ）前記再生器から前記反応器までの間に、ストリッパー部を設けることの諸要件を満たす方法を提供する。 （もっと読む）

【構成】 エポキシ樹脂、アルキレン・フェニレン構造を有する新規物質である特定構造のビスアルケニル置換ナジイミド、および１）異節環状アミンまたは第三級アミン、２）異節環状アミンまたは第三級アミンのルイス酸錯体、３）オニウム塩、または４）オニウム塩および弱い還元剤または安息香酸銅からなる触媒を必須成分として含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
【効果】 両樹脂の優れた耐熱性、接着性、密着性、難燃性および力学的性質を兼ね備え、特に極めて高い機械的強度を有する硬化物を与える。 （もっと読む）