説明

岩谷産業株式会社により出願された特許

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【課題】鉄道車両の台車などの大型の被清掃物であってもドライアイスブラスト式清掃によって清掃が可能且つ省スペース化が可能なドライアイスブラスト式清掃装置の提供。
【解決手段】液化炭酸ガスから粒子状のドライアイス(ショット材)を生成して噴射可能な噴射ノズル20を採用することで、ドライアイス状態ではなく液化炭酸ガスでの保管が可能である。また、ロボットアームの採用により、ドライアイスブラスト式清掃による被清掃物の清掃を自動化でき、更なる省スペース化、清掃員の安全性確保およびショット材消費量低減が可能となる。また、大型の被清掃物や複雑形状の被清掃物に対してドライアイスブラストをくまなく噴射できる。さらに、清掃に必要な粒子状のドライアイスの必要量に応じて可搬式の液化炭酸ガスボンベの数量を調節することで液化炭酸ガス貯蔵部30の液化炭酸ガス貯蔵量を調節でき、更なる省スペース化が可能となる。 (もっと読む)


【課題】液相反応技術を利用して、粒径の大きさと分布の適正化を図ることができるとともに、焼結温度を向上させたニッケルナノ粒子を製造する。
【解決手段】金属複合ニッケルナノ粒子の製造方法は、カルボン酸ニッケルおよび1級アミンを含有する混合物を加熱して錯化反応液を得る工程と、錯化反応液にマイクロ波を照射して200℃以上の温度で加熱することにより、ニッケル以上の融点を持つ高融点金属を含有する金属複合ニッケルナノ粒子を生成させる工程と、を備えている。遅くともマイクロ波を照射する前の、混合物を調製する段階、混合物の段階、又は錯化反応液の段階のいずれかにおいて、高融点金属の塩を配合した後、マイクロ波による加熱を行う。カルボン酸ニッケルは酢酸ニッケルであり、1級アミンはオレイルアミンであり、高融点金属塩はタングステン塩またはモリブデン塩である。 (もっと読む)


【課題】減圧下で処理を行う成膜装置又は結晶成長装置のクリーニング方法に係り、処理室から真空ポンプによりガスを吸気する吸気配管内のクリーニングを良好に行うようにしたクリーニング方法に関する技術である。
【解決手段】処理室1に接続された吸気配管6における真空ポンプ4との接続口6b近傍に開度調節可能な開閉弁9を設け、吸気配管6における処理室1との接続口6a近傍に設けられた装置仕切弁7を閉じ、前記開閉弁9の開度を調節し、吸気配管6に三フッ化塩素などからなる特定のクリーニングガスを供給するとともに、前記真空ポンプ4を稼動することにより、前記吸気配管6内を所定圧力に保持してクリーニングするようにして、成膜処理又は結晶成長処理時に吸気配管6内に付着した堆積膜を良好に除去し、装置の修理や分解をする際に、有害、危険な堆積膜による災害を防止するようにした。 (もっと読む)


【課題】レジスト以外の基板材料を酸化させること無く、溶剤を用いた従来のレジスト除去方法に比べてレジストを効果的に除去することができるレジスト除去装置を提供することにある。
【解決手段】レジストを成膜したウェハWからレジストを除去するレジスト除去装置に、有機系溶剤分子が複数集合してなるクラスターをウェハWに噴射するクラスター噴射手段3を備える。 (もっと読む)


【課題】マイクロラフネス、ウォーターマーク、基板材料損失、デバイス構造の破壊といったウェット洗浄が有する技術的課題を回避しつつ、極低温エアロゾル照射手法に比べてより多様な汚染物を基板から除去することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄物が付着したウェハWを洗浄する基板洗浄装置に、洗浄剤分子が複数集合してなるクラスターをウェハWに噴射するクラスター噴射手段と、前記洗浄剤分子のクラスターを噴射することによって除去された被洗浄物を吸引する吸引手段と、ウェハW及び前記クラスター噴射手段を、被洗浄物が付着したウェハWの面に沿って相対移動させる手段を備える。 (もっと読む)


【課題】自動車バンパーでのバリ取り方法に関し、特に、ランプ類装着用開口部が形成されている樹脂製バンパー成形時に生じるバリに対して、手軽にバリ取りがおこなえ、バリ取り後の切削面も美しいバリ取り方法を提供する。
【解決手段】バリ連出部分に対して冷却用液化ガスを噴射接触させてバリ及びバリ連出部分を樹脂製バンパー形成部材の低温脆化点より低温に冷却し、この冷却されたバリ連出部分に回転切削体4を作用させて、自動車用バンパー本体1部分からバリを機械的に除去する。 (もっと読む)


【課題】パターンの形状を保持した状態でパターンの底部まで洗浄可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】真空状態に保持された処理容器内にてウエハ上の膜に所定のパターンを形成するウエハの洗浄方法は、エッチング処理により所定のパターンが形成されたウエハ上の膜を所望のクリーニングガスにより洗浄する工程と(前工程)、前工程後、酸化性ガスによりパターン表面の残渣を酸化させる工程と(酸化工程)、前記酸化された残渣を還元性ガスにより還元させる工程と(還元工程)を含む。酸化工程と還元工程は連続して実行する(連続工程)。前工程及び連続工程に用いられるガスは、内部圧力が処理容器の内部圧力より高圧に保持されたガスノズルから処理容器内に放出されることによりクラスタ化される。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成された配線用パターンの底部までCu埋め込みが可能な基板の配線方法を提供する。
【解決手段】真空状態に保持された処理容器100内にて配線用パターンが形成された基板を配線する方法であって、ウエハ上の配線用パターンを所望のクリーニングガスにより洗浄する前工程と、前工程後、クラスタ化された金属ガス(金属ガスクラスタCg)を用いて配線用パターン内に金属ナノ粒子を埋め込む埋め込み工程と、を含むことを特徴とする基板の配線方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】バッグインボックスの口栓がウォーターサーバーの注入用突起管に対して斜めに嵌合された場合であっても、バッグインボックスの口栓がウォーターサーバーの注入用突起管の外周に密着することによって、この嵌合状態の気密性を保持することができ、内容物が漏洩しないようにしたバッグインボックス用口栓を提供する。
【解決手段】バッグインボックスのバッグに設けられた口栓の周縁にアダプタが取り付けられ、該アダプタが飲料水供給装置の貯水槽の上部に設けられた注入用突起管に嵌合するようにしたバッグインボックス用口栓において、アダプタの内周に弾性を有する管状のパッキンが嵌着され、該パッキンの内周に上下に離間して少なくとも2条の内側環状突起を形成してなり、これらの内側環状突起が飲料水供給装置の注入用突起管の外周に密着状態で嵌合される。 (もっと読む)


【課題】いつ車両が来ても所定温度以下の水素ガスを充填できるものでありながら、エネルギーロスを極力抑制することのできる水素ガス充填設備での水素ガス充填方法を提供する。
【解決手段】被充填タンク2よりも高圧に設定されている蓄圧容器1と被充填タンクとを水素ガス充填路3で連通接続し、蓄圧容器の内圧と被充填タンクの内圧との差圧で水素ガスを移送・充填するに当たり、水素ガス充填路に音速ノズル6を配置する。この音速ノズルに臨界圧力比以上の一次圧で水素ガスを供給し、この音速ノズルの一次側と二次側とをバイパス路8で接続し、バイパス路分岐部分よりも下流側の一次側水素ガス充填路に圧力調整弁5を配置するとともに、バイパス路に流量調整弁9を配置し、前記圧力調整弁と流量調整弁とをバイパス路合流部分より下流側での水素ガス充填路内の温度・圧力に基づき開閉制御するようにした。 (もっと読む)


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