説明

岩谷産業株式会社により出願された特許

51 - 60 / 137


【課題】大人にとって操作しやすく、子供にとっては解除し難い安全機構を備えた着火器を提供すること。
【解決手段】炎を噴出するノズル部2と、燃料を導入する燃料導入部3aと、導入された燃料を着火する着火部7と、を有し、着火部は、着火器の本体の一側に配置される着火操作部5が着火位置まで移動することによって着火する構成となっており、着火操作部の着火位置への移動を規制する規制部15b及び許可するための許可部15cを有する移動規制部15が前記着火操作部6に対して配置され、移動規制部は、移動することによって、規制部又は許可部を着火操作部の移動方向に対応して配置可能な構成となっており、移動規制部の移動を操作する移動規制部操作部は、着火器の本体の一側の反対方向の本体に配置されている着火器1。 (もっと読む)


【課題】加圧蒸発ラインに加圧蒸発器をバイパスするバイパスラインを設けて、加圧蒸発器及びバイパスラインを流通する液化水素のそれぞれの流量を制御することにより、液化水素収納槽内の上方のガス相の温度が設定温度となるようにした液化水素供給設備及び液化水素供給用のタンクローリーである。
【解決手段】液化水素収納槽2の下部と上部とを接続した加圧蒸発ライン4における加圧蒸発器4aの入口側に第一開閉弁4cを設け、第一開閉弁4cの入口側から分岐し加圧蒸発器4aの出口側に合流するバイパスライン4dを設け、バイパスライン4dに第二開閉弁4eを設け、液化水素収納槽2内の上方における液化水素のガス相の温度を検出する温度検出器5の検出温度が設定温度となるように、第一開閉弁4c及び第二開閉弁4eの弁開度を制御することにより、液化水素の充填時に液化水素収納槽2内の圧力の上昇が小さくなるようにした。 (もっと読む)


【課題】バブリング量の変化に追従してピックアップ量を制御することができるバブリング気化供給方法及び装置を提供する。
【解決手段】熱交換器11が内蔵された密閉原料槽10内に液体原料Lを貯えると共に導入管8を挿入し、熱交換器11に所定温度の熱媒Mを循環させつつ導入管8にキャリアガスCを所定流量で導入して液体原料Lをバブリングし、バブリングによる気化ガスGとキャリアガスCとの混合ガス(G+C)を原料槽10の気相部から抜出して供給する。好ましくは、導入管8上に熱交換器14を設け、所定温度の熱媒Mを原料槽10内の熱交換器11及び導入管8上の熱交換器14に循環させつつキャリアガスCを導入する。更に好ましくは、原料槽10に原料補充管15を接続すると共に補充管15上に熱交換器16を設け、その熱交換器16にも熱媒Mを循環させながら液体原料Lを補充する。 (もっと読む)


【課題】加熱した飲料を充填した際に、有害物質の溶出を抑えられる柔軟な容器を用いても、従来のウォーターサーバーを利用できる容器のウォーターサーバーへの取付け構造を提供すること。
【解決手段】柔軟性のある容器本体10に比べて硬質に作られ、ウォーターサーバー3の供給口6に差し込まれる首部12を有する容器2と、容器2を収容し、首部12を外部に露出させる貫通孔22を有する段ボール箱20とを備え、段ボール箱20に比べて大きな剛性を有すると共に、首部12を通した状態で係止する首保持用開口部32を有するようにして、段ボール箱の貫通孔22が設けられた面29に配置されるアダプター30が用意され、このアダプター30は、首部12が供給口6に差し込まれた状態において、首保持用開口部32に向かって下る窪み部34を有し、貫通孔22は容器本体10が窪み部34に接触するように形成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置の内部や、半導体製造装置のガス給排気系に配設されている排気バルブあるいは半導体製造装置やガス給排気系に配設されている圧力制御バルブなど複雑な構造部分に付着している付着物を安全に取り除く汚染表面清掃技術を提供する。
【解決手段】半導体製造装置1およびそれにつながるガス給排気系の内部壁面部分を、多関節型に形成したアーム12部分の先端部に清掃具14を装着してなる清掃ロボット2で清掃するようにした。 (もっと読む)


【課題】有害物質の溶出を抑えられる容器を用いて加熱した飲料を充填することが可能であり、かつ、その充填後、衛生的な使用を可能にする容器のウォーターサーバへの取付け構造、及びウォーターサーバ用カートリッジを提供すること。
【解決手段】飲料が収容された容器本体部4から突出して、飲料をウォーターサーバ100の供給口101に導く略筒状の首部3を有する容器のウォーターサーバへの取付け構造であって、容器本体部4は、変形自在な柔軟性を有する材質で作られ、首部3は、容器本体部4に比べて硬質に作られ、側面部に設けられた溝部及び/又は張出し部3Vを有しており、容器本体部4に比べて硬質に作られた板状の部材に開口部11が形成され、この開口部11の周縁が首部の溝部及び/又は張出し部3Vに係止するようにした首部保持手段10(21)を有する。 (もっと読む)


【課題】効率的な放熱効果を発揮することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体素子3が搭載される搭載面6を有する搭載部11と、上記半導体素子3の周囲で光を反射する反射面7を有する反射部12と、熱を放散するための第1の放熱面8を有する放熱部13とを有し、上記搭載部11、反射部12および放熱部13が金属により一体に形成されているため、半導体素子3で発生した熱は、搭載部11と一体となった放熱部13に速やかに熱伝導され、第1の放熱面8から効果的に放散される。また、反射面7に光が照射されることで反射部12に蓄積された熱も、反射部12と一体となった放熱部13に速やかに熱伝導され、第1の放熱面8から効果的に放散される。 (もっと読む)


【課題】温度分布の不均一を是正して、被焼物の焼きムラを有効に防止し、かつ、煙の発生を抑制するバーナーカバー及びそれを利用した加熱調理器を提供すること。
【解決手段】互いに対向する一対或いは複数の切妻屋根状部52,53を有し、この各切妻屋根状部52,53は対向方向の縦断面形状が逆V字状あるいは逆U字状となるように傾斜面を備えたバーナーカバーであって、各切妻屋根状部52,53の対向方向の中央側にある端部が、対向方向の中央に向かって延伸することで、拡張部56,57が設けられ、傾斜面には拡張部56,57に臨む開口部62が形成されており、開口部62の周縁には、拡張部56,57の表面に向けて熱ガスを噴出するガイドとなるように突出した庇部66が設けられている。 (もっと読む)


【課題】亜鉛を含むめっき鋼鈑の溶接において、ブローホールやピットなどの発生を効果的に抑制することのできるガスシールドアーク溶接方法を提供する。
【解決手段】本発明によって提供されるガスシールドアーク溶接方法は、亜鉛めっき鋼板である溶接母材P1,P2と溶接ワイヤWとの間にアークACを発生させるとともに、コンタクトチップ32を囲うように溶接母材P1,P2に対してシールドガスSGを噴出させるガスシールドアーク溶接方法であって、シールドガスSGには、主成分ガスにオゾンが添加された混合ガスが用いられる。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置の機器類にフッ素原子と塩素原子とを含む化合物ガスを作用させた際に、効果的に表面腐食を抑制する方法を提供する。
【解決手段】半導体製造装置の処理チャンバーとこの処理チャンバーに連通する配管路の内部をフッ素原子と塩素原子とを含む化合物ガスを導入してクリーニング処理あるいはプロセス処理した後、この処理チャンバー及び処理チャンバーに連通する配管路に露点温度が213K以下の不活性ガスからなるパージガスを導入する。 (もっと読む)


51 - 60 / 137