説明

岩谷産業株式会社により出願された特許

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【課題】強風が吹いても、火炎の横倒しを防止できる携帯式ガスコンロを提供すること。
【解決手段】上面側に火炎口を有するガスバーナー12が配設された本体部2を備える携帯式ガスコンロであって、本体部2は外風の吹き込みを抑えるために、外部空間Sとガスバーナー12とを隔てるようにした風防手段30を有している。そして、風防手段30は、ガスバーナー12の周囲に配置された内側風防手段32と、この内側風防手段32より外側に配置された外側風防手段31とを有している。そして、外側風防手段31は、外部空間Sと内側風防手段32とを隔てるようにした複数の衝立部42と、二次空気を取り込むための複数の空気導入部50とが交互に配置され、かつ、複数の空気導入部50の夫々に対向して、外風の侵入を阻む遮蔽部46が配置されており、遮蔽部46と衝立部42との間には空気導入部50と連通した空間51が設けられている。 (もっと読む)


【課題】マグネシウムの切削について、既存の加工装置の大掛かりな改造を必要とせず、かつ、発火防止のために作業時間を長く割くこともしないで、水素爆発の危険を回避できる切削加工装置を提供すること。
【解決手段】マグネシウムからなるワークWが配置される内部空間Sと、この内部空間Sにおいて、ワークWを加工するための切削工具20とを備えたマグネシウム等の切削加工装置であって、内部空間S内には、ワークWを加工する際の切削工具20の下側に凹状部40が設けられており、凹状部40内に窒素ガスNの吹出し口52を配置するようにして、凹状部40内に窒素ガスNを供給するため窒素ガス供給手段50を有し、吹出し口52は、凹状部40内に集められた切削屑DTの表層部SFに向って窒素ガスNを吹きかけるようにしたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡単な操作手順で、付着した酸化亜鉛膜を確実に除去できる酸化亜鉛膜のクリーニング方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜として酸化亜鉛膜を生成する透明導電膜生成装置のチャンバー内面に付着した酸化亜鉛膜クリーニングするに当たり、チャンバー内を塩化メチルガスと水素ガスとで水素リッチの塩化メチルー水素混合ガス雰囲気に形成し、この塩化メチルー水素混合ガス雰囲気にあるチャンバー内にプラズマを発生させてチャンバー内面に付着した透明電極膜を除去する。 (もっと読む)


【課題】発生させたオゾンガスを精製して所定濃度範囲の濃縮オゾンガスとして供給する方法及びその装置を提供する。
【解決手段】内部に非冷却の状態で吸着剤1を充填した少なくとも2基の吸着筒2を並列に配置し、吸着剤にオゾン・酸素混合ガス中のオゾンガスを選択吸着させるとともに、オゾンガス脱離操作時に各吸着筒を減圧処理し、吸着剤からオゾンガスを脱離させることでオゾンガスを濃縮精製し、少なくとも2基の吸着筒をそれぞれ吸着工程と脱離工程とを交互に繰返す制御をしたオゾンガス濃縮方法である。オゾンガスの吸着工程から脱離工程に切換わる際に、吸着工程にあった吸着筒と、脱離完了段階にある吸着筒とを連通させて、吸着筒内圧力の均一化を行った後、吸着段階にあった吸着筒を減圧発生手段11に連通させて、吸着剤からオゾンガスを脱離させる。 (もっと読む)


【課題】反応性クラスタによる基板の加工方法に係り、基板の損傷が少なく、高速加工ができるようにした。
【解決手段】反応性ガスと、前記反応性ガスと不活性であって前記反応性ガスより低沸点のガスとからなる混合ガス14を、ノズル出口21に至る混合ガス供給路1で冷却源3により冷却して前記ノズル出口21から断熱膨張させながら真空処理室4内に噴出させて、反応性クラスタ45を生成し、この反応性クラスタ45を真空処理室4内の基板5に噴射して基板表面51を加工するようにしたから、反応性クラスタ45の加工性能を高めることができ、基板5の損傷が少なく、かつ高速で基板5の加工を行うことができるようにした。 (もっと読む)


【課題】生体親和性を有する生体親和性粒子と基材とを化学結合して、水浄化処理における有機物除去する生物ろ過材を提供する。
【解決手段】有機性あるいは無機性基材上に、酸、アルカリ、オゾン、オゾン水、オゾンバブリング、ブラズマ、コロナ放電、紫外線照射から選ばれる少なくとも一つの方式からなる表面処理を行って、ヒドロキシ基、カルボキシル基等の反応性官能基を生成し、生成した反応性官能基に生体親和性粒子である燐酸カルシウム焼結体(ハイドロキシアパタイト)を化学結合させる。 (もっと読む)


【課題】ニッケルナノ粒子を大量に合成できる実用性に優れた連続製造装置及び連続製造方法を提供する。
【解決手段】連続製造装置100では、原料導入部1Bを介して原料である錯化反応液と金属塩をそれぞれ別々に、あるいは混合状態で反応容器1内に連続的又は間欠的に供給する。そして、マイクロ波発生部10で発生したマイクロ波を、マイクロ波導入部1Aから反応容器1内に導入し、酢酸ニッケルと金属塩を含む反応混合液に照射する。これにより、金属塩が加熱還元されてAgなどの微粒子が生成するとともに、酢酸ニッケルが還元され、この微粒子を核として金属ニッケルが成長することによりニッケルナノ粒子が生成する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板に薄膜を形成する成膜装置に付着した堆積物をクリーニングする方法を提供する。
【解決手段】基板ステージの温度を非加熱状態〜400℃、好ましくは200℃〜400℃に維持した成膜チャンバー内に水素あるいは水素−アルゴン混合ガスからなる水素系クリーニングガスを供給し、前記成膜チャンバー内に配置した電極にパルス電源装置から電力を印加することで発生したパルスプラズマを成膜チャンバー内の壁面部分に作用させて、成膜装置に付着した堆積物をクリーニングする。 (もっと読む)


【課題】軸受け部を簡単にし、オイルレスメタルの冷却性を向上し、振動発生や騒音の発生を抑制し、耐久性を向上させる。
【解決手段】容器蓋12の底部となる耐熱性樹脂で形成したメタル受け台26と、このメタル受け台26にインサートされた金属製の軸受けケース30と、軸受けケース30に下方から圧入されカッタ回転軸20を回転自在に保持すると共にその下部がこの軸受けケース30から下方に突出しているオイルレスメタル34と、容器蓋12の下面に密着固定されオイルレスメタル34の下部突出部外周を囲んで接触する放熱板36と、を備える。 (もっと読む)


【課題】結露や着霜を抑制するために、継ぎ手の外管部分にブリーザ通路を形成した。
【解決手段】内外二重管で構成した極低温流体供給管を接続・分離可能する接続継手である。雄型接続継手の先端部に閉弁側に弾性付勢した自己封止型遮断弁を位置させる。雌型接続継手の外管9での接続端部に開閉機構18を配置する。雌型接続継手に装着されている開閉機構18の開放側に位置する雌型接続継手の外管9部分にブリーザ通路26を形成し、このブリーザ通路26を開閉機構18の開閉操作具27の作動に連動して作動するプラグ28で開閉可能に構成した。 (もっと読む)


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