説明

広栄化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】 アリールボラン化合物の工業的に有利な製造方法を提供すること。
【解決手段】 触媒の存在下にアリール化合物をアルコキシボラン化合物と反応させてアリールボラン化合物を製造する際に、イリジウム化合物、アルコキシボラン化合物及び式(1)で示されるビピリジン化合物から形成される錯体を触媒として用いることを特徴とするアリールボラン化合物の製造方法。
【化1】


(式中、R及びRは互いに同一又は異なってそれぞれ水素原子、アルキル基、アラルキル基又はアルキル基で置換されていてもよいアリール基を表す。X及びYは互いに同一又は異なってそれぞれ水素原子又はアルカリ金属を表す。x及びyはそれぞれ0又は1であり、x+yは1又は2である。) (もっと読む)


【課題】 従来に比べて、樹脂組成物等の絶縁物に優れた帯電防止性を付与できる新規なアンモニウム塩、及びそれを有効成分として含有する帯電防止剤を提供すること。
【解決手段】 式(1):
【化1】


(式中、R、R及びRはそれぞれ同じであっても異なっていてもよく、炭素数1〜18のアルキル基を表し、Aは含フッ素イオンを表す。)で示されるアンモニウム塩及び該アンモニウム塩を有効成分として含有することを特徴とする帯電防止剤。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、従来に比べて、比較的高い温度(60℃以上)の下での加水分解によるフッ化水素の生成を抑制して安定化されたオニウム塩組成物、及びオニウム塩の安定化方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 少なくとも式(1):
・A (1)
(式中、Qはオニウムイオンを示し、AはPFを示す。)で表されるオニウム塩及び有機塩基を含有するオニウム塩組成物、並びに式(1)で表されるオニウム塩に有機塩基を含有させることを特徴とするオニウム塩の安定化方法。 (もっと読む)


【課題】より工業的に有利な式(3)


(式中、Rは単結合等を表わし、R、R、RおよびRは同一または相異なって、それぞれ水素原子等を表わす。)で示されるボラン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】ボランのジエチルアニリン錯体と式(2)


で示されるジオール化合物とを反応させることを特徴とする式(3)で示されるボラン化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】メチルイソブチルケトンの副生を抑制し、大スケール反応においても収率よく2−(イソプロピルアミノ)エタノールを製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】水素化触媒の存在下に、アセトンを2−アミノエタノール及び水素と反応させて2−(イソプロピルアミノ)エタノールを製造するにあたり、反応系内にアセトンを供給しながら反応させることを特徴とする2−(イソプロピルアミノ)エタノールの製造方法。 (もっと読む)


【課題】爆発性のある硝酸エチルを生成させることなく、4−クロロ−2−メチルピリジン中に不純物として含まれる2−クロロ−6−メチルピリジン、さらには2−クロロメチルピリジンを除去する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】不純物として少なくとも2−クロロ−6−メチルピリジン及び/又は2−クロロメチルピリジンを含有する4−クロロ−2−メチルピリジンから2−クロロ−6−メチルピリジン及び/又は2−クロロメチルピリジンを除去するにあたり、イソプロパノールとトルエンの混合溶媒中で当該4−クロロ−2−メチルピリジンを酸(但し、硝酸を除く。)と反応させて、生成する4−クロロ−2−メチルピリジン酸塩を析出させることを特徴とする2−クロロ−6−メチルピリジン及び/又は2−クロロメチルピリジンの除去方法。 (もっと読む)


【課題】樹脂との相溶性並びに有機溶剤及び他のモノマーへの溶解性がよく樹脂組成物の帯電防止剤として、また紫外線硬化型コート剤の帯電防止付与性モノマーとしての利用が期待できる、新規な第四級アンモニウム塩を提供すること。
【解決手段】式(1):
【化1】


(式中、R、R及びRは、それぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、炭素数1から6のアルキル基を表し、Rはメチル基又は水素原子を表す。Aは、ビス(フルオロスルホニル)アミドアニオン、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミドアニオン、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)アミドアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、トリフルオロメタンスルホネートアニオン又はテトラフルオロボレートアニオンを表す。)で示される第四級アンモニウム塩。 (もっと読む)


【課題】簡便な後処理によって、大量のエネルギーを消費することなく、4−ピペリジル酢酸の無機酸塩を反応終了後の反応混合物から取り出すことのできる、4−ピペリジル酢酸の無機酸塩の製造方法の提供。
【解決手段】式(1):


(式中、Pは、式(2): HX (2)(式中、Xはハロゲン原子を表す。)で示される無機酸によって脱保護される、アミノ基の保護基を表す。)で示される1−置換−4−ピペリジル酢酸を、式(2)で示される無機酸と反応させて、式(3):


(式中、Xは前記に同じ。)で示される4−ピペリジル酢酸の無機酸塩を製造するにあたり、反応溶媒としてケトン類を用いることを特徴とする4−ピペリジル酢酸の無機酸塩の製造方法。 (もっと読む)


【課題】毒性ガス、劇物等に指定されている塩素を使用しないバナジウムのモノシクロペンタジエニル錯体の製造方法を提供すること。
【解決手段】式(1):
CpVCl (1)
(式中、Cpはシクロペンタジエン骨格を有する炭化水素基を表す。)で示されるバナジウムのビスシクロペンタジエニル錯体をオキシ三塩化バナジウムと反応させることを特徴とする式(2):
CpVOCl (2)
(式中、Cpは前記に同じ。)で示されるバナジウムのモノシクロペンタジエニル錯体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れた帯電防止能を持つオニウム塩類を含有する帯電防止剤及びそれを含有してなる帯電防止性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 式(1): Q+ (1)[式中、Q+は、N、またはPを含有するオニウムカチオンを示し、Aは含フッ素アニオンを示す。]で表されるオニウム塩の少なくとも1種、及び式(2): Q+ (2)[式中、Q+は、N、またはPを含有するオニウムカチオンを示す。ただし、Q+は、同時にQ+と同一のオニウムカチオンになることはない。Bはアニオンを示す。]で表されるオニウム塩の少なくとも1種を有効成分として含有することを特徴とする帯電防止剤並びに該帯電防止剤を含有してなる帯電防止性樹脂組成物。 (もっと読む)


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