【課題】カルバゾール化合物に誘導可能な新規な化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｘ^１はハロゲン原子を表わし、Ｒ^１は炭素数４〜２０のアルキル基を表わす。）
で示されるカルバゾール化合物および式（２）


（式中、Ｘ^１およびＲ^１は上記と同一の意味を表わす。）
で示されるテトラヒドロカルバゾール化合物。 （もっと読む）

【課題】 従来に比べて、樹脂組成物の表面抵抗値をより低下させ得る、新規なホスホニウム塩、それを有効成分として含む帯電防止剤及び該帯電防止剤を含む帯電防止性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 式（１）：
［（Ｒ^１）_３Ｒ^２Ｐ］^＋・ＣＦ_３ＳＯ_３⁻ （１）
（式中、Ｒ^１は炭素数４〜８のアルキル基を示し、Ｒ^２は炭素数８〜２０のアルキル基を示す。但し、Ｒ^１がヘキシル基であって、かつＲ^２がテトラデシル基である場合を除く。）で表されるホスホニウム塩、式（２）：
［（Ｒ^３）_３Ｒ^４Ｐ］^＋・ＣＦ_３ＳＯ_３⁻ （２）
（式中、Ｒ^３は炭素数４〜８のアルキル基を示し、Ｒ^４は炭素数８〜２０のアルキル基を示す。）で表されるホスホニウム塩を有効成分として含有することを特徴とする帯電防止剤並びに該帯電防止剤を含有することを特徴とする帯電防止性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 従来に比べて、樹脂組成物の表面抵抗値をより低下させ得る、新規なホスホニウム塩、それを有効成分として含む帯電防止剤及び該帯電防止剤を含む帯電防止性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 式（１）：
［（Ｒ^１）_３Ｒ^２Ｐ］^＋・（Ｒ_ｆ^１ＳＯ_２）（Ｒ_ｆ^２ＳＯ_２）Ｎ⁻ （１）
［式中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ^２は炭素数８〜２０のアルキル基（但し、炭素数１４の直鎖状アルキル基を除く。）を示し、Ｒ_ｆ^１及びＲ_ｆ^２は同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を示す。］で表されるホスホニウム塩、該ホスホニウム塩を有効成分として含有することを特徴とする帯電防止剤並びに該帯電防止剤を含有してなる帯電防止性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 従来製法に比べて、温和な条件で製造できる工業的に優位なβ−アラニン化合物の製造法、そうして得られたβ−アラニン化合物を原料とするピペリドン化合物の製造法並びにシアン化水素の発生しない工業的に安全な還元剤を用いたアミノピペリジン化合物の製造法を提供すること。
【解決手段】 アルキルアミン化合物をアクリル酸エステルと反応させてβ−アラニン化合物を製造するにあたり、カルボン酸の存在下で反応することを特徴とするβ−アラニン化合物の製造法、こうして得られたβ−アラニン化合物を塩基の存在下で環化縮合させた後、次いで環化縮合生成物を酸性条件下で加水分解脱炭酸反応せしめることを特徴とするピペリドン化合物の製造法、並びに水素化触媒の存在下で、ピペリドン化合物をアンモニア及び水素と還元アミノ化反応せしめることを特徴とするアミノピペリジン化合物の製造法。 （もっと読む）

【課題】 従来製法に比べて、工業的に簡便にシス−ジハロゲノ−ビス（４，４’−ジカルボキシ−２，２’−ビピリジン）ルテニウム（ＩＩ）を製造できる方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）：
［ＲｕＸ_２（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）］_２ （１）
（式中、Ｒｕはルテニウム原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｐ−ｃｙｍｅｎｅはｐ−シメンを示す。）で表されるルテニウム化合物を４，４’−ジカルボキシ−２，２’−ビピリジンと反応させることを特徴とするシス−ジハロゲノ−ビス（４，４’−ジカルボキシ−２，２’−ビピリジン）ルテニウム（ＩＩ）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 新規な反応を利用したアミノケトン類又はその塩の製造方法を提供すること。
【解決手段】 バナジウム化合物（例えば、メタバナジン酸アンモニウム等）の存在下に、総炭素数３以上の第二級アミン類（例えばジプロピルアミン、ブチルエチルアミン、ピペリジン等）の塩又は総炭素数４以上の第三級アミン類（例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、キヌクリジン等）の塩を過酸化物（例えば、過酸化水素水溶液等）と反応させることを特徴とするアミノケトン類又はその塩の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ピリジンメタンアミン類の含有量の少ない高純度のＮ−アルキル−ピリジンメタンアミン類を簡便に製造できる、Ｎ−アルキル−ピリジンメタンアミン類の精製方法を提供すること。
【解決手段】 粗Ｎ−アルキル−ピリジンメタンアミン類を精製するにあたり、粗Ｎ−アルキル−ピリジンメタンアミン類を式（１）：
Ｒ^１−ＣＨＯ （１）
（式中、Ｒ^１は、アリール基、ヘテロアリール基又はアラルキル基を示し、ヘテロアリール基であって、ヘテロ原子が窒素原子又は硫黄原子である場合には、窒素原子又は硫黄原子がアルキル基又はアラルキル基と結合して形成されたカチオンとその対イオンであるアニオンからなる第４級アンモニウム塩残基又はスルホニウム塩残基であってもよい。）で表されるアルデヒド類又は分子内に少なくとも1個のアルデヒド基を有するポリマーで処理することを特徴とするＮ−アルキル−ピリジンメタンアミン類の精製方法。 （もっと読む）

【課題】取り扱いに注意を要する試剤を用いず、簡便に３−アミノピロリジン、３−アミノピペリジンで代表される、光学活性含窒素環状化合物を製造する方法の提供。
【解決手段】３−アミドピロリジン、３−アミドピペリジンで代表されるアミド基を有する化合物を原料として、アースロバクター、ブレビバクテリウム属等から選ばれる、３−アミド部位を不斉的に加水分解する能力を持つ微生物の菌体、その培養物または処理物を接触させる事により、対応するアミノ基を有し、式（２）で示される光学活性化合物を製造する。


（Ｒ^１はアミノ基の保護基等、ｎは１から３の整数、＊は光学活性な炭素原子を表す。） （もっと読む）

【課題】 アルキルホルムアミド類の含有量の少ないアルキルイミダゾール類を簡便に製造できる、高純度アルキルイミダゾール類の精製方法を提供すること。
【解決手段】 不純物として式（１）：
【化１】


（式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す。）で表されるアルキルホルムアミド類を含む式（２）：
【化２】


（式中、Ｒは前記と同じ。）で表されるアルキルイミダゾール類を精製するにあたり、当該アルキルイミダゾール類を、金属化剤と混合して、式（１）で表されるアルキルホルムアミド類と金属化剤を反応せしめた後、蒸留することを特徴とするアルキルイミダゾール類の精製方法。 （もっと読む）

【課題】 従来のジルコニア系触媒を用いた方法に比べて、高収率でアニリン類を製造できるアニリン類の製造方法を提供すること。
【解決手段】 好ましくは気相反応条件下であって、触媒の存在下に、フェノール類とアミノ化剤を反応させてアニリン類を製造するにあたり、触媒として、例えばリン酸化物とジルコニアの複酸化物、或いはＰＯ_４で示されるリン酸根又はリン酸化物を含有するジルコニア等の、リン化合物を有するジルコニアを用いることを特徴とするアニリン類の製造方法。 （もっと読む）