説明

東レ・ファインケミカル株式会社により出願された特許

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【課題】 簡便で環境にやさしい、光学活性4−[4−[(4−クロロフェニル)(2−ピリジル)メトキシ]ピペリジノ]ブタン酸のベンゼンスルホン酸塩の製造方法を提供する。
【解決手段】 光学活性4−[4−[(4−クロロフェニル)(2−ピリジル)メトキシ]ピペリジノ]ブタン酸メチルを無触媒下に含水有機溶媒中で加水分解して光学活性4−[4−[(4−クロロフェニル)(2−ピリジル)メトキシ]ピペリジノ]ブタン酸を製造し、次いでベンゼンスルホン酸と反応させる光学活性4−[4−[(4−クロロフェニル)(2−ピリジル)メトキシ]ピペリジノ]ブタン酸のベンゼンスルホン酸塩の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 光学活性3−アミノピペリジンを、工業的に有利で安価な原料から、簡便かつ高収率で製造する方法を提供する。
【解決手段】 ラセミ体の3−アミノピペリジンと光学活性N−p−トルイルグルタミン酸を反応させ、生成する光学活性3−アミノピペリジンの光学活性N−p−トルイルグルタミン酸塩を分離する光学活性3−アミノピペリジンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】工業的に有用な高純度ジグリシジルアミン系エポキシ化合物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の高純度ジグリシジルアミン系エポキシ化合物は、化学純度96%以上である、下記一般式(1)で示されるエポキシ化合物であることを特徴とする。
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【課題】 本発明は、簡易な方法で粗ビス(アミノヒドロキシフェニル)類中の金属含有量を低減させる精製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 粗ビス(アミノヒドロキシフェニル)類を有機溶媒に溶解後、酸水溶液を用いて精製するビス(アミノヒドロキシフェニル)類の精製方法。 (もっと読む)


【課題】比較的単純な構造を用いて圧力損失の低減および湿分放出機能の向上を実現することにより、患者の負担が少なく、生産性に優れ、低コストで製造可能な人工鼻およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】呼気に含まれる湿分を捕捉し吸気を加湿する多孔質フィルターと、多孔質フィルターを収容するハウジングからなり、多孔質フィルターの内部に、患者側流路と人工呼吸器側流路とを直行的に連通する直行連通孔が設けられていることを特徴とする人工鼻。 (もっと読む)


【課題】塗料、粘着剤、接着剤などに使用する被覆用組成物の、種々基材への付着性が良好で、擦り傷や衝撃などによる塗膜の傷付き、皮脂、化粧品、指紋などによる塗膜汚染に対する抵抗性(自己修復性)を向上することを提供する。
【解決手段】1つの分子鎖中に、分子鎖中に窒素含有複素環を有する化学構造を含むAセグメント0.5〜75重量%と下記構造式で示されるアクリル酸エステルを有する化学構造を含むBセグメント25〜99.5重量%からなる被覆用組成物である。
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【課題】500℃以上の温度で製膜ができ、高透明性で、耐クラック性の特性を有する膜を形成できる新規シリコーン重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式


(Aは一価の炭化水素基)で示される構成単位を有するシリコーン重合体。 (もっと読む)


【課題】塩素イオンを含まない高純度のジアシル誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】一般式(1)


(式中、Aは単結合、CH、SO、酸素原子、硫黄原子、C(CH、C(CFまたはフルオレン構造の残基を表し、R、Rは炭素数1〜3の1価の有機基を表し、m、nおよびpは0〜2の整数を表す。)で表されるジカルボン酸と、1,1’−カルボニルジイミダゾールなどの尿素誘導体を反応させてジアシル誘導体を製造するジアシル誘導体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 塩素イオンの含有量が1ppm以下である高純度ジアシル誘導体を提供する。
【解決手段】
一般式(1)で表されるジアシル誘導体を主成分とし塩素イオンの含有量が1ppm以下である高純度ジアシル誘導体。


(式中、Aは、単結合、CH2、SO2、酸素原子、硫黄原子、C(CH32、C(CF32またはフルオレン構造の残基を表し、R1、R2は炭素数1〜3の1価の有機基を、R3は水素原子またはメチル基を表し、ZはCHまたは窒素原子を表し、m、nおよびpは0〜2の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】 医薬や農薬の原料として有用であるシス−4−ヒドロキシプロリンを工業的に適した方法で製造する。
【解決手段】 一般式(1)
【化1】


(式中、Rは、炭素数1〜6のアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基を示す。)で表されるヒドロキシプロリン誘導体を、塩酸触媒下で加水分解し、さらに有機塩基で中和した後、アルコールで希釈することによりシス−4−ヒドロキシプロリンを製造するシス−4−ヒドロキシプロリンの製造法。 (もっと読む)


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