上村工業株式会社により出願された特許

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【課題】めっき液中の銀の分解を防止して安定性を維持するとともに、下地金属等が過度に荒らされることを防止して、良好な皮膜特性を有し、外観も良好なめっき皮膜を形成することができる還元型無電解銀めっき液及びこの銀めっき液を用いた還元型無電解銀めっき方法を提供する。
【解決手段】水溶性銀塩と、還元剤とを含有する還元型無電解銀めっき液であって、0.006×10−3mol/L〜12.5×10−3mol/Lのシアン化物イオンを含有する。 (もっと読む)


【課題】 樹脂基板に形成された非貫通穴内のスミアを確実に除去するとともに、その樹脂基板表面を大きく荒らすことなく、密着性に優れためっき皮膜を形成することができるデスミア液及びそのデスミア液を用いたデスミア処理方法を提供する。
【解決手段】 0.2〜0.4mol/Lの過マンガン酸塩と、アルカリ金属水酸化物とを含み、過マンガン酸塩とアルカリ金属水酸化物のモル濃度比が1:5〜1:20であるデスミア液を用いる。 (もっと読む)


【課題】小型化が可能で、しかも浴量を少なくすることができる電解再生処理装置を提供する。
【解決手段】再生処理部19は、アノードとして機能する内周面を有する筒状部23と、筒状部23内に配設され、内周面31と離隔した状態で筒状部23の延設方向に沿って延びるカソード25とを含む。デスミア処理に用いられた処理液は、筒状部23の内周面31とカソード25との隙間を通じて送液される。送り側導管15は、下流側端部15bが筒状部23に接続され、デスミア処理槽13から排出される前記処理液を再生処理部19に導く。戻し側導管17は、上流側端部17aが筒状部23に接続され、再生処理部19から排出される前記処理液をデスミア処理槽13に導く。 (もっと読む)


【課題】めっき槽内における板状ワークの揺動を防止して、めっき品質の向上を図るとともに、搬送時における基板の脱落や損傷を防止する。
【解決手段】めっき槽2aが、その上方に設けられた、搬送用ハンガー15aを移動方向に搬送する上部ガイドレール11と、処理槽2a内に設けられた、搬送用ハンガー15aの下部クランプ49との間で引力を生じさせる下部ガイドレール14と、を備え、めっき処理を行っているときに引力を生じさせ、搬送用ハンガー15aの下部クランプ49を下方向に引っ張ることで、板状ワークWに張力を与える。 (もっと読む)


【課題】ワークを確実に乾燥でき、また、作業中にワークが飛散するのを防止できる、乾燥機を、提供すること。
【解決手段】回収容器45が載せられる受板52と、受板52に載せられた回収容器45を上下から密閉するフード53と、フード53内に空気を供給して排出する空気給排手段54と、を備えている。受板52は、載せられた回収容器45の底451が面する部分に、貫通孔521を、有している。空気給排手段54は、空気好ましくは熱風を送出するブロワ(図示せず)と、ブロワからの空気を上フード部531内に供給するための供給管542と、下フード部532内から空気を排出するための排出管543と、を備えている。 (もっと読む)


【解決手段】ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンフェニルエーテルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンナフチルエーテルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル及びそれらの塩から選ばれる1種又は2種以上の陰イオン界面活性剤と、リン酸、縮合リン酸、亜リン酸、次亜リン酸及びそれらの水溶性塩から選ばれる1種又は2種以上のリン酸化合物とを含有する錫又は錫合金めっき皮膜用後処理剤。
【効果】錫又は錫合金めっき皮膜の高湿度条件下及び高温条件下における変色、はんだ濡れ性の劣化を抑制することができ、また、リフロー酸化による変色を抑制することができることから、電子部品のはんだ接合の信頼性を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】スルーホールに充填した金属における欠陥を無くすこと。
【解決手段】プリント基板Wに向けてめっき液を噴射する、または気泡を噴射しながら、めっき液から金属qを析出させてスルーホールhを充填する途中の時点において、めっき液の噴射角度を変更する、またはプリント基板Wの姿勢を変更する。 (もっと読む)


【課題】小型化が可能で、しかも浴量を少なくすることができる電解再生処理ユニット及び電解再生処理装置を提供する。
【解決手段】アノード配管29は主管部30と副管部34とを含む。アノード配管29はアノードとして機能する内周面29aを有している。主管部30は、第1接続端部41及び第2接続端部42を有している。主管部30は、第1接続端部41から第2接続端部42までつづく処理液Lの流路を形成している。副管部34は、主管部30の途中から筒状に延出している。副管部34の内部は主管部30内の流路と連通している。カソード25は、アノード配管29の内周面29aと離隔している。カソード25は、副管部34内においてカソード取付端部44から主管部30に向かって延びている。 (もっと読む)


【課題】周辺が表面処理液で汚染されるのを防止できる表面処理機を、提供すること。
【解決手段】陽極360を表面処理に使用できるように支持する陽極支持機構を、備えており、陽極支持機構が、陽極を支持する陽極支持部材36Aと、陽極受け皿361を支持する受け皿支持部材36Bと、陽極を陽極支持部材を介して上下に移動させる昇降機構36Cと、陽極を陽極支持部材を介して水平に移動させる陽極移動機構36Dと、陽極受け皿を受け皿支持部材を介して水平に移動させる受け皿移動機構36Eと、陽極支持部材と受け皿支持部材とを連結させる連結機構36Fと、を備えており、連結機構は、陽極が陽極移動機構によって陽極保管槽36Gの上方から又は処理容器8の上方から移動を開始する時に、且つ、陽極受け皿が受け皿移動機構によって陽極の下方に位置した時に、両支持部材を連結するように、構成されている。 (もっと読む)


【課題】処理容器内のワークを自動で回収容器に回収できるワーク回収機を、提供すること。
【解決手段】処理容器8が載せられる受板41と、受板41上の処理容器8を覆うホッパ42と、受板41上の処理容器8とホッパ42とを共に上下反転させる反転機構43と、反転された処理容器8内に洗浄水を吹きかける洗浄水供給手段44と、洗浄水によって処理容器8から流し出されたワークを、フィルター部材で濾取することによって捕集する、回収容器45と、反転されたホッパ42の排出口423を下方から塞ぐように、回収容器45を上昇させる、昇降機構46と、使用された洗浄水を受ける回収槽47と、を備えている。ホッパ42が、排出口を内側から塞ぐ蓋部材42Cを有しており、蓋部材が、回収容器によって押し上げられることによって排出口を開くように、構成されている。 (もっと読む)


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