説明

日揮触媒化成株式会社により出願された特許

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【課題】水熱安定性に優れ、長期にわたって高活性を維持することのでき、特に低温活性に優れたリン酸アルミニウム修飾金属担持結晶性シリカアルミノフォスフェート触媒およびその製造方法を提供する。
【解決手段】金属担持結晶性シリカアルミノフォスフェート粒子の表面がリン酸アルミニウムで修飾されてなり、触媒中のリン酸アルミニウムの含有量が金属担持結晶性シリカアルミノフォスフェート粒子に対してリン酸アルミニウムをAl23+P25として0.1〜40重量%の範囲にあることを特徴とするリン酸アルミニウム修飾金属担持結晶性シリカアルミノフォスフェート触媒。 (もっと読む)


【課題】重質油留分の分解効率を上げ、なおかつコーク収率の増加を抑制することができる流動接触分解触媒用添加剤を提供する。
【解決手段】バインダー及びアルミナ−シリカを含む混合スラリーを噴霧乾燥することで得られる流動接触分解触媒用添加剤であって、比表面積が100〜400m/gであり、かつ、全固体酸量が0.10mmol/g以上、0.50mmol/g未満である。また、前記全固体酸量に対する強酸量の割合が20%以下であるのが好ましい。更に、前記混合スラリー中のアルミナ−シリカの割合が20質量%以上、80質量%未満であるのが好ましい。また、前記アルミナ−シリカ中のシリカの含有量が0質量%を超えて10質量%未満であるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】樹脂への分散性に優れ、得られる透明被膜は表面の平坦性に優れるとともに白化することがなくヘーズ、透明性、耐擦傷性、強度、耐アルカリ性等に優れた透明被膜を形成することのできる疎水性金属酸化物粒子と疎水性マトリックス形成成分とからなる透明被膜形成用塗布液ならびに該透明被膜形成用塗布液を用いて形成された透明被膜付基材、および該疎水性金属酸化物粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】該疎水性金属酸化物粒子がその表面にモノアルキルシリル基およびトリアルキルシリル基を有し、該疎水性金属酸化物粒子の平均粒子径が5〜300nmの範囲にあり、前記モノアルキルシリル基の含有量が固形分(R−SiO3/2)として、金属酸化物粒子の1〜50重量%の範囲にあり、かつ前記トリアルキルシリル基の含有量が固形分(R3−SiO1/2)として、金属酸化物粒子の3〜100重量%の範囲にある透明被膜形成用塗布液。 (もっと読む)


【課題】樹脂への分散性に優れ、屈折率を調整した疎水性酸化ジルコニウム粒子であって、該疎水性酸化ジルコニウム粒子を利用することにより、光透過率が高く、耐熱性に優れた樹脂硬化物膜を調製することのできる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】疎水性酸化ジルコニウム粒子は、酸化ジルコニウム粒子の表面に、トリアルキルシリル基が結合したシリカ被覆層を有し、平均粒子径が5〜30nmの範囲にあり、屈折率が1.58〜2.0の範囲にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】アンチブロッキング性(ハードコート膜が互いに密着することのない)に優れたハードコート膜付基材を提供する。
【解決手段】基材と、基材上に形成された親水性金属酸化物粒子(A)と疎水性マトリック
ス成分(M)とからなるハードコート膜とからなり、親水性金属酸化物粒子(A)の屈折率(nPA)が1.45〜1.70の範囲にあり、疎水性マトリックス成分(M)の屈折率(nM)が1.45〜1.70の範囲にあり、屈折率(nPA)と屈折率(nM)の屈折率差が0.0
2以下であり、少なくとも該親水性金属酸化物粒子(A)の一部が該ハードコート膜表面に
凸部を形成して存在し、該凸部の高さ(H凸)が50nm〜1μmの範囲にあることを特徴とするハードコート膜付基材。 (もっと読む)


【課題】耐光性、耐候性に優れ、高濃度で安定性に優れた高屈折率のリン含有金属酸化物微粒子、その製造方法およびこれら粒子を用いた透明被膜付基材ならびに透明被膜形成用塗布液とに関する。
【解決手段】リン含有金属酸化物微粒子であって、リン含有量が金属酸化物微粒子に対してP25として0.1〜15重量%の範囲にあり、平均粒子径が5〜50nmの範囲にあリ、金属酸化物が酸化チタンおよび/または酸化ジルコニウムであることを特徴とするリン含有金属酸化物微粒子。 (もっと読む)


【課題】高い屈折率と低い光触媒活性を有する金属酸化物微粒子を含む有機溶媒分散ゾルの調製方法並びにその有機溶媒分散ゾル、および該有機溶媒分散ゾルを用いて得られる塗料組成物を提供する。
【解決手段】チタニウムと、スズおよび/またはケイ素とを含む複合酸化物からなるチタン系微粒子の表面を、シリカ系酸化物またはシリカ系複合酸化物で被覆してなる表面被覆チタン系微粒子集合体を乾燥・焼成し、得られた該集合体の焼結物を有機溶媒の存在下で粉砕してなる金属酸化物微粒子を含む有機溶媒分散ゾルの調製方法並びにその有機溶媒分散ゾル、および該有機溶媒分散ゾルを用いて得られる塗料組成物。なお、前記金属酸化物微粒子は、高い屈折率を有しているばかりでなく、低い光触媒活性を備えている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハ、ガラス製ハードデイスク、アルミナ製ハードデイスクなどを研磨するために用いられる研磨用粒子であって、実用的な研磨速度で使用して、被研磨面でのスクラッチ発生を低減されることができる研磨用粒子。
【解決手段】研磨用粒子が有機系粒子と該有機系粒子と同等以上の大きさの無機粒子との複合粒子(ヘテロ凝集体)を調製し、研磨用粒子とした。この研磨用粒子は、研磨圧が高くなると粒子が変形し、研磨速度を維持して、スクラッチ発生が抑制され、良好な研磨性能を示すことができる。 (もっと読む)


【課題】廃液中に窒素系化合物を含有することのない、酸化セリウム微粒子を製造する方法を提供する。
【解決手段】(I)硫酸セリウム水溶液又は塩化セリウム水溶液とアルカリ金属の水酸化物とを、酸化セリウム(CeO)換算のモル数に対するアルカリ金属の水酸化物のモル数の割合が1〜10となる範囲で混合し、50〜98℃に加温・熟成した後、冷却して、沈殿物を得る工程、(II)工程(I)で得られた沈殿物を乾燥し、結晶子径5〜50nmの酸化セリウム微粒子を得る工程、を有する酸化セリウム微粒子の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】高い屈折率と低い光触媒活性を有する金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法並びにその水分散ゾル、および該金属酸化物微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物を提供する。
【解決手段】チタニウムと、スズおよび/またはケイ素とを含む複合酸化物からなるチタン系微粒子の表面を、シリカ系酸化物またはシリカ系複合酸化物で被覆してなる表面被覆チタン系微粒子集合体を乾燥・焼成し、得られた該集合体の焼結物を水の存在下で粉砕してなる金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法並びにその水分散ゾル、および該金属酸化物微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物。 (もっと読む)


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