説明

日揮触媒化成株式会社により出願された特許

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【課題】炭化水素、特に重質油炭化水素の接触分解に用いた場合、水熱安定性に優れ、残油(ボトム)分解能が高く、選択性(高液収率、低ガス、低コーク)に優れた炭化水素接触分解用触媒および該触媒の製造方法に関する。
【解決手段】フォージャサイト型ゼオライトと、マトリックス成分と、リン成分とマグネシウム成分とからなり、フォージャサイト型ゼオライトの含有量(CZ)固形分として10〜50重量%の範囲にあり、リンの含有量(CP)がP25として0.1〜10重量%の範囲にあり、マグネシウムの含有量(CM)がMgOとして0.05〜3重量%の範囲にあることを特徴とする炭化水素接触分解用触媒。 (もっと読む)


【課題】内部に空洞を有するシリカ系粒子の圧縮強度および耐湿性を向上することで、高温高湿条件下において比誘電率の変化量および誘電正接の変化量が殆どない塗膜を形成できる半導体封止用樹脂組成物、および高い耐湿性を長時間維持できる基材を提供する。
【解決手段】シリカ系粒子は無孔質の外殻シリカ層の内部に空洞を有し、空隙率が20〜95体積%の範囲にあり平均粒子径が0.1〜50μmの範囲にある。シリカ系粒子の空洞は負圧であり、133hPa以下である。シリカ系粒子の圧縮強度は0.1〜200kgf/mm2の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】滲みを生ぜず、滑性に優れた、色素内包シリカ系粒子の製造方法の提供。
【解決手段】(a)色素含有珪酸アルカリ水溶液を熱風気流中に噴霧乾燥して色素内包シリカ系粒子前駆体粒子を調製する工程、(b)色素内包シリカ系粒子前駆体粒子を酸水溶液に浸漬し、アルカリを除去する工程、および、(c)乾燥・加熱処理する工程、からなる色素内包シリカ系粒子の製造方法。該色素含有珪酸アルカリ水溶液は、SiO/MOモル比(但し、Mはアルカリ金属を示す。)は1〜5の範囲にあり、SiO濃度(C)が1〜30重量%の範囲にあり、色素濃度(C)とSiO濃度(C)との濃度比(C)/(C)が0.0002〜1の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】顔料内包シリカ系粒子の製造方法および顔料内包シリカ系粒子ならびに該粒子の用途を提供する。
【解決手段】下記の工程(a)〜(c)からなることを特徴とする顔料内包シリカ系粒子の製造方法。(a)顔料分散珪酸アルカリ水溶液を熱風気流中に噴霧乾燥して顔料内包シリカ系粒子前駆体粒子を調製する工程。(b)顔料内包シリカ系粒子前駆体粒子を酸水溶液に浸漬し、アルカリを除去する工程。(c)乾燥・加熱処理する工程。前記顔料分散珪酸アルカリ水溶液の、SiO2/M2Oモル比(但し、Mはアルカリ金属を示す。)は1〜5の範囲にあり、SiO2濃度(CS)が1〜30重量%の範囲にあり、顔料濃度(CD)とSiO2濃度(CS)との比(CD)/(CS)が0.005〜2.3の範囲にあることを特徴とする顔料内包シリカ系粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】水素化活性がより優れるニッケル系触媒の提供。
【解決手段】酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムを主成分とする担体の表面に、ニッケルを主成分とする活性金属が担持しているニッケル系触媒であって、TEM−EDX分析を30箇所について行って得た各箇所についてのAlとNiとのピーク強度の比(Al/Ni)が90%以上の確率で1.0〜1.2で、平均値も1.0〜1.2である、ニッケル系触媒。 (もっと読む)


【課題】優れた脱メタル性能及び脱アスファルテン性能を示す水素化処理触媒、及び生産性の高い当該触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】
水素化処理触媒は、アルミナ-リン担体に水素化活性金属を担持し、
(1)比表面積が100m/g以上、
(2)水銀圧入法で測定した全細孔容積(PV)が0.80〜1.50ml/gの範囲にあり、
(3)細孔直径10〜30nmの範囲に細孔分布の極大値を有し、
(4)前記極大値における細孔直径の±2nmの範囲の細孔容積(ΔPV)の占める割合と細孔直径5〜100nmの範囲の細孔容積(PVme)に占める割合(ΔPV/PVme)が0.40以下であり、
(5)耐圧強度が10N/mm以上、
(6)リンを触媒全量基準でP濃度換算量として0.4〜10.0質量%含み、
(7)水素化活性金属が周期律表第6A族金属及び第8族金属から選ばれる金属の少なくとも1種である。 (もっと読む)


【課題】使用開始当初から高い光電変換効率を発現する光電気セルの多孔質金属酸化物半導体膜形成用塗料を提供する。
【解決手段】金属酸化物粒子と、アシル基、アロイル基、アシルオキシ基、アロイルオキシ基、カルボキシレート基(カルボキシル基ないしそのエステル)から選ばれる少なくとも1種を含む有機化合物と、分散媒とからなり、金属酸化物粒子の濃度(CMOP)が固形分として1〜30重量%の範囲にあり、有機化合物の濃度(COC)が0.05〜5重量%の範囲にあり、前記有機化合物の濃度(COC)と金属酸化物粒子の濃度(CMOP)との濃度比(COC)/(CMOP)が0.001〜0.5の範囲にあることを特徴とする多孔質金属酸化物半導体膜形成用塗料。 (もっと読む)


【課題】分散性、流動性に優れた改質ジルコニア微粒子粉末を提供する。
【解決手段】有機珪素化合物で表面処理された改質ジルコニア微粒子の粉末であって、平均二次粒子径が5〜500nmの範囲にあり、平均一次粒子径が5〜500nmの範囲にあり、平均二次粒子径/平均一次粒子径の比が1〜10の範囲にある。前記有機珪素化合物が下記式(1)で表される有機珪素化合物であり、該微粒子中の有機珪素化合物の含有量がRn-SiO(4-n)/2(nは1〜3の整数)として1〜50重量%の範囲にあり、29Si MAS NMRスペクトルの主ピークの半値幅が3〜15ppmの範囲にある。[Rn-SiX4-n(1)(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)] (もっと読む)


【課題】分散安定性が高く、たとえ酸性のpH領域であっても安定な酸化物微粒子を得ること、さらには、透明で、膜硬度と密着性に優れた塗膜を形成するための塗料組成物を得ること。
【解決手段】金平糖状の無機酸化物微粒子の単位表面積あたりにアルミニウムが0.1×10-6〜1.5×10-6mol/m2となる範囲で修飾されていることを特徴とするAl修飾金平糖状微粒子。 (もっと読む)


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