【課題】枚葉型の基板処理装置に適したスケジュール作成方法およびスケジュール作成プログラムを提供する。
【解決手段】スケジュール作成方法は、基板を一枚ずつ処理する枚葉型の処理ユニットＳＰＩＮ１〜ＳＰＩＮ１２を有する基板処理装置の動作を時系列に従って規定するスケジュールを前記基板処理装置に備えられた制御部２１が作成するための方法である。この方法は、制御部２１が、各基板に対する処理内容を規定するブロックを時系列に従って結合した仮タイムテーブルを作成するステップと、制御部２１が、複数枚の基板に関する前記仮タイムテーブルからブロックを取得し、時系列に従って配置することにより、全体スケジュールを作成するスケジューリングステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】雰囲気が置換される空間の体積を減少させることができ、基板のエッチング量を面内全域で低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、内部空間Ｓ１を有するチャンバー２と、チャンバー２内で基板Ｗを保持して回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンチャック３と、チャンバー２内で基板Ｗの上面に対向する遮断板４と、遮断板４と基板Ｗとの間に不活性ガスを供給するガス供給機構５と、基板Ｗに対して傾いた方向に処理液を吐出することにより、基板Ｗの上面中央部に斜めに処理液を供給する処理液ノズル２９と、処理液ノズル２９に供給される処理液から酸素を脱気する脱気手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＲＩＰパラメータを設定する都度、当該ＲＩＰパラメータに基づくＲＩＰ展開によって生成された図形の描画に供される画像データを、描画処理の実行前に、容易に確認できる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】画像処理装置２は、設計データＤ０が表す所定の処理領域ＲＴを設定する処理領域設定部２５と、指定パラメータＰａ１用いて、処理領域ＲＴの表示倍率に応じた解像度で、処理領域に対応する設計データＤ０をＲＩＰ展開する表示用ＲＩＰ展開部２６とを備える。表示用ＲＩＰ展開部２６におけるＲＩＰ展開は、直接描画のための描画用ＲＩＰ展開よりもデータ処理量を抑制した表示用ＲＩＰ展開であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 バリアブル印刷において、印刷するバーコードの線幅を理想とされる幅にすることができる印刷データ処理装置、印刷データ処理方法、印刷システムおよびプログラム、ならびに、ページデータ作成装置およびラスタライズ処理装置を提供する。
【解決手段】 印刷データ処理装置４は、ページデータ作成装置１とラスタライズ処理装置２とを備える。ページデータ作成装置１は、機能構成として共用オブジェクト定義部１１、配置条件設定部１２、補正情報埋め込み部１３、ページデータ生成部１４を備え、ラスタライズ処理装置２は、機能構成として補正情報検索部２１と解像度取得部２２を有する解析部２０と、補正部２３と、ラスターデータ生成部２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】処理液による処理の際に電荷の移動による基板の損傷を防止するとともに、処理液と他の液体との混合による悪影響を防止する。
【解決手段】基板処理装置１では、除電液供給部６により、ＳＰＭ液よりも比抵抗が大きい除電液が基板９上に供給され、基板９の上面９１全体が除電液にてパドルされることにより、基板９が比較的緩やかに除電される。続いて、基板回転機構５により基板９が回転することにより、基板９上から除電液が除去された後、処理液供給部３により基板９上にＳＰＭ液が供給されてＳＰＭ処理が行われる。これにより、ＳＰＭ処理の際に、基板９からＳＰＭ液へと大量の電荷が急激に移動することが防止され、基板９の損傷を防止することができる。また、除電液とＳＰＭ液との混合による悪影響（例えば、除電液中の水とＳＰＭ液中の硫酸との反応熱による基板９の損傷）を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】インクジェットプリンタにおいて、短い駆動周期にて質の高いドットを形成する。
【解決手段】インクジェットプリンタでは、画像記録中において、記録用紙上に大ドットを形成する際に、駆動信号として、基本波形７０から第２吐出パルス７２１および第１吐出パルス７１３が選択される。中ドットを形成する際に、第１微振動パルス７１１および第１吐出パルス７１３が選択される。小ドットを形成する際に、第３吐出パルス７２２が選択される。液滴の非吐出時に、第２微振動パルス７１２が選択される。これにより、第１微振動パルス７１１の波形を調整することにより、第１吐出パルス７１３を大ドットおよび中ドットの形成に用いて駆動周期を短くしつつ、各サイズのドットを高い質にて形成することができる。 （もっと読む）

【課題】処理液による処理の際に電荷の移動による基板の損傷を防止する。
【解決手段】基板処理装置１では、二酸化炭素溶解ユニット６２により純水に対する二酸化炭素の溶解量を制御することにより除電液の比抵抗が目標比抵抗とされる。続いて、除電液供給部６により、ＳＰＭ液よりも比抵抗が大きい除電液が基板９上に供給され、基板９の上面９１全体が除電液にてパドルされることにより、基板９が比較的緩やかに除電される。そして、除電処理の終了後に、処理液供給部３により基板９上にＳＰＭ液が供給されてＳＰＭ処理が行われる。これにより、ＳＰＭ処理の際に、基板９からＳＰＭ液へと大量の電荷が急激に移動することが防止され、基板９の損傷を防止することができる。また、除電液の比抵抗を目標比抵抗に維持することにより、基板９の損傷が生じない範囲で、基板９の除電効率を向上し、除電処理に要する時間を短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板に対する異物の付着力を低下させることができ、ランニングコストを低減できる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】液滴ノズル１５からの液滴が基板Ｗの上面内の一部の領域だけに供給される。その後、基板Ｗの上面に保持されている液滴が冷却または加熱される。これにより、基板Ｗ上の液滴の温度が変化する。液滴に接しているパーティクルは、液滴によって冷却または加熱され、収縮または膨張する。 （もっと読む）

【課題】絶対圧力計を用いることなく、気圧変動の影響を回避して絶対圧における正確な目標圧で減圧を行うことができ、過剰減圧による脱気対象への悪影響を抑制できる。
【解決手段】制御部５９は、減圧ポンプ５７により最大能力で減圧タンク４３内の減圧を行う。相対圧力計５３の圧力を最大到達相対圧とし、予め設定されている目標絶対圧と、減圧ポンプ５７の絶対値基準の到達圧との差分を、最大到達圧相対圧に加算した値を目標相対圧として、制御部は減圧ポンプ５７を制御する。したがって、仕様により既知である減圧ポンプ５７による到達圧を基準するので、絶対圧力計を用いることなく装置周囲の気圧変動の影響を回避できる。その結果、絶対圧における正確な目標圧で減圧を行うことができ、過剰減圧に起因するインクへの悪影響を抑制でき、ノズル配管３１からノズル３３へ供給されるインクによる印刷を好適に行える。 （もっと読む）

【課題】シート状の基材上に形成された薄膜パターンの画像を取得する際に、検出角を容易に変更する。
【解決手段】画像取得装置１は、中心軸Ｋを中心とするドラム１１を有し、ドラム１１の回転により外側面１１１に沿ってウエブ９が搬送される。画像取得装置１は、中心軸Ｋに平行な線状の撮像領域９０に向けて光を出射する光照射部２１と、撮像領域９０からの光をラインセンサにて受光する受光部２３とをさらに有し、光照射部２１および受光部２３は移動機構４により中心軸Ｋに垂直、かつ、互いに交差する２方向に移動する。移動機構４を制御することにより、受光部２３の光軸Ｊ２とウエブ９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更されるとともに、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役なフォーカス位置Ｐが薄膜パターン上に配置される。このように、受光部２３を２方向に移動する移動機構４のみにより、検出角θ２を容易に変更することができる。 （もっと読む）