【課題】コストの増加を抑制しながら、基板の主面全域を覆う液膜を速やかに形成でき、それによって、基板処理の品質を向上できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｗを保持して回転させる基板保持回転機構２，３と、基板Ｗの主面に向けて処理液を吐出する処理液ノズル１１を有する処理液供給機構４と、基板Ｗの主面の全域を覆う液膜を形成するのに十分な量の処理液を貯留する処理液溜まり５と、処理液溜まり５に貯留された処理液を一気に基板Ｗの主面に供給することにより、基板Ｗの主面の全域を覆う液膜を形成する液膜形成ユニット６と、制御ユニット７とを含む。制御ユニット７は、基板Ｗの主面の全域を覆う液膜を形成させた後に、処理液ノズル１１から基板Ｗの主面に向けて処理液を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】 ノズルを十分清浄に洗浄でき、かつ、そのメンテナンスが容易なノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置を提供する。
【解決手段】 洗浄機構６０は、超音波振動子１５を収納するとともに、この超音波振動子１５を冷却するための冷却水１３を貯留する冷却水貯留部１１を備える。また、洗浄機構６０は、冷却水貯留部１１に貯留された冷却水１３中にその下面が浸漬された状態で配設され、その内部に溶液１４を貯留する溶液貯留部１２を備える。スリットノズル４１を溶液１４中に浸漬した状態で超音波振動子１５が超音波振動を発振した場合には、この超音波振動は、冷却水１３および溶液貯留部１２を介して溶液１４に伝達される。 （もっと読む）

【課題】受光部のフォーカス調整を容易に行う。
【解決手段】画像取得装置は、ガラス基板９上における線状の撮像領域を撮像する撮像ユニット２と、ガラス基板９を撮像領域と交差する方向に移動する移動機構とを備える。撮像ユニット２は、光照射部２１および受光部２３を有し、光照射部２１により撮像領域に光が照射され、撮像領域からの光が受光部２３のラインセンサへと導かれる。画像取得装置では、受光部回動機構が受光部２３を回転することにより受光部２３の光軸Ｊ２とガラス基板９の法線Ｎとのなす検出角θ２が変更される。撮像ユニット２は、光軸Ｊ２に沿って受光部２３を移動する受光部移動機構をさらに備え、検出角θ２の変位量に基づいて受光部移動機構を制御することにより、光軸Ｊ２上においてラインセンサの受光面と共役な位置Ｐがガラス基板９の表面に配置される。これにより、受光部２３のフォーカス調整が容易に行われる。 （もっと読む）

【課題】簡易な制御によりチョーク吸引を行いつつも、インク消費を低減することができる。
【解決手段】制御部４５は、インクジェットヘッド１９にキャップ２９を密着させた後、インク供給制御弁２７を閉止させ、三方弁４１を大気開放側に切り換えさせた後、ダイアフラムポンプ３９を作動させ、三方弁４１をキャップ２９側に切り換えさせてキャップ２９内を減圧させる。この状態でインク供給制御弁２７を開放させると、インクが気泡とともにキャップ２９内に一気に排出される。これらの一連の動作は、インク供給制御弁２７及び三方弁４１及びダイアフラムポンプ３９の動作タイミングで主として構成されるので、簡単にチョーク吸引を行わせることができる。また、インクの排出後の所定時間Ｔ１後にインク供給制御弁２７を閉止させるので、無駄なインクの排出を抑制でき、インク消費を低減できる。 （もっと読む）

【課題】固体電解質を用いる電池の製造方法において、固体電解質の材料や厚さ等に制約を受けることなく、電池をより安定的に製造することのできる技術を提供する。
【解決手段】負極集電体１１の表面に、Ｙ方向に延びるラインアンドスペース構造の負極活物質層１２をノズルスキャン法により塗布形成する。これを覆うように薄い固体電解質層１３を形成した後、正極活物質材料および高分子電解質材料を含む粉体の層ＰＬを固体電解質層１３の表面に堆積させる。正極集電体１５となる金属膜を重ねた後、全体をホットプレスして粉体の層ＰＬに含まれる高分子電解質材料を融解させることで、粉体の層ＰＬを固化させて正極活物質層１４に変化させる。 （もっと読む）

【課題】塵ＰおよびレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去する。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに液状の被覆剤Ｃを塗布して、基板Ｗの周縁部Ｅに付着した塵Ｐを液状の被覆剤Ｃによって覆う。そして、基板周縁部Ｅに付着した塵Ｐを覆う被覆剤Ｃを硬化させることで、当該塵Ｐを硬化された被覆剤Ｃの内部に捕捉する。したがって、被覆剤Ｃを基板Ｗの周縁部Ｅから除去することで、基板Ｗの周縁部Ｅから塵Ｐを除去することができる。さらに、基板Ｗの周縁部Ｅに被覆剤Ｃを塗布した後に、基板表面ＷfにフォトレジストＲを塗布するため、基板Ｗの周縁部Ｅでは、フォトレジストＲは被覆剤Ｃの上に塗布される。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅから被覆剤Ｃを除去した際には、被覆剤Ｃの上に塗布されたフォトレジストＲも被覆剤Ｃとともに基板Ｗの周縁部Ｅから除去される。こうして、塵ＰおよびフォトレジストＲを基板Ｗの周縁部Ｅから同時に除去できる。 （もっと読む）

【課題】複数個のモータによるインクジェットヘッド保持部の昇降を確実に行って、インクジェットヘッド保持部の破損を未然に防ぐことができる。
【解決手段】制御部４１が２個のモータ２７を操作してインクジェットヘッド保持部２１を昇降させる際に、監視部４３は各スリットセンサ３５の信号を監視する。監視部４３は、各スリットセンサ３５の信号に基づいて、２個のモータ２７の回転が同期していることと、２個のモータ２７の回転方向が一致していることとを監視する。したがって、それらに異常が生じた場合には、インクジェットヘッド保持部２１にねじれが生じたことを示すので、各モータ２７の回転を停止させる等の措置をとることができる。その結果、インクジェットヘッド保持部２１の破損を未然に防止できる。 （もっと読む）

【課題】版胴に形成された凹部から印刷対象物上に転写された塗布液のプロファイルをコントロールできる技術を提供する。
【解決手段】グラビア印刷に用いられる版胴１を製造する製版装置２においては、まず、円周側面に被削層１２が形成された版胴材１０を準備する。続いて、被削層１２に回転する工具３１を当接させて被削層１２を切削あるいは研削して、被削層１２に、非平坦な底面１３２と底面１３２の周縁に連なる側壁１３１とを備える凹部１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】ラスタライズ処理中にＲＩＰ装置の記憶部の空き容量が不足することを防止する。
【解決手段】画像処理システム３の制御装置１は、画像データを複数のタスクに分割して複数のＲＩＰ装置２に割り当てる。画像処理システム３では、未割当タスクのラスタライズ処理が終了して処理済みデータが生成されたと仮定した場合に、当該未割当タスクの処理済みデータを格納するために使用されると予想されるＲＩＰ装置２の記憶部２１の使用量である予想未割当使用量、および、ＲＩＰ装置２の割当済みタスクのラスタライズ処理が全て終了した時点における記憶部２１の空き容量の予測値である予測空き容量が求められる。そして、予想未割当使用量が予測空き容量よりも小さい場合に未割当タスクがＲＩＰ装置２に割り当てられる。これにより、当該タスクのラスタライズ処理中に、ＲＩＰ装置２の記憶部２１の空き容量が不足することを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】基板Ｗの周縁部Ｅに形成された傾斜面Ｂf、Ｂrに付着した汚染物質を、粘着ローラー８４を用いて効果的に除去することを可能とする。
【解決手段】基板Ｗの周縁部Ｅに粘着剤層８４aを介して当接する粘着ローラー８４を、回転させながら基板Ｗの周縁部Ｗに沿って基板Ｗに対して相対的に移動させる（移動動作）。しかも、この移動動作の実行中に、基板Ｗの周縁部Ｅが粘着剤層８４aに食い込んだ状態で、粘着剤層８４aを基板Ｗに対して相対的に回転軸方向Ｄf、Ｄbへ移動させ、これによって傾斜面Ｂf、Ｂrに粘着剤層８４aを接触させている。したがって、基板Ｗの周縁部Ｅに形成された傾斜面Ｂf、Ｂrに付着したパーティクルを粘着ローラー８４の粘着剤層８４aで捕捉して、効果的に除去することが可能となる。 （もっと読む）