説明

大日本スクリーン製造株式会社により出願された特許

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【課題】一方主面に薄膜が形成された透明で平板状の基材の厚みを計測する厚み計測装置および厚み計測方法において、薄膜の光学的特性に影響されることなく、基材の厚みを高精度に計測する。
【解決手段】対物レンズ455の合焦位置FPを、ブランケットBLの下面BLtよりも下方位置Zminから上面BLfよりも上方位置Zmaxまで、一定の刻みΔZでステップ的に上昇させながらその都度撮像を行う。撮像位置と受光強度との関係において、ブランケットBLの上面BLfおよび下面BLtに対応するピーク間の距離から、ブランケットBLの厚みDzを求める。 (もっと読む)


【課題】基板を保持、移送し陽極化成槽の一部とする機構を有する、自動化及びバッチ処理に好適な陽極化成装置と、多孔質層を形成した半導体基板を提供する。
【解決手段】左側ホルダ部67及び右側ホルダ部69で複数枚の基板Wを保持した状態で処理位置に移動させ、上側ホルダ部71及び下部ホルダ39と連結させ、貯留槽11の内部で複数枚の基板Wの全周面が電解質溶液に対して液密にされる。この状態で化成反応処理を行った後、基板Wが貯留槽11から搬出される。従って、左側ホルダ部67及び右側ホルダ部69が上側ホルダ部71及び下部ホルダ39と協働して基板Wを液密に保持可能な構成とし、複数枚の基板Wを搬送し、多孔質層を形成でき、自動化及びバッチ処理に好適な陽極化成装置1を実現でき又、表裏、両表面に効率良く、かつ均一に形成された多孔質層を具備する半導体基板を本装置により提供可能となる。 (もっと読む)


【課題】担持体上に形成されたパターンと基板とを対向させた状態で担持体を基板に加圧当接させた後に、基板と担持体とを離間させることで剥離し、パターンを基板に転写するパターン転写装置において、基板と担持体との剥離時にも基板を安定的に吸着保持する。
【解決手段】基板SBの被吸着領域を吸着保持可能な開口371が形成された吸着プレート37と、基板SBの被吸着領域よりも狭い複数の局所領域をそれぞれ吸着保持可能な複数の局所吸着部38と、を備え、基板SBと担持体BLとの当接時には、少なくとも開口371に負圧を供給することにより吸着プレート37に基板SBを吸着保持させ、基板SBと担持体BLとの剥離時には、開口371に負圧を供給せずに、複数の局所吸着部38に負圧を供給して基板SBを吸着保持させる。 (もっと読む)


【課題】担持体および基板のそれぞれに形成されたアライメントマークの両方に同時に撮像手段のピントを合わせることができない場合であっても、担持体と基板との位置合わせを高精度に行う。
【解決手段】透明なブランケットを介してCCDカメラで撮像された画像IMから、基板側のアライメントパターンAP1およびブランケット側のアライメントパターンAP2それぞれの重心位置G1mおよびG2mを画像処理により求める。ブランケット側のアライメントパターンAP2については、ピントが合った状態で撮像された画像からエッジ抽出を伴う処理により重心G2mの位置を特定する。ピントが合わず輪郭がぼやけた状態で撮像された基板側のアライメントパターンAP1については、高い空間周波数成分を除去して低周波成分を抽出し、その結果から重心G1mの位置を特定する。 (もっと読む)


【課題】パターンを担持したブランケット等の担持体を基板に対して位置合せを行う(アライメント)時および担持体の中央部を基板に加圧当接する(転写)時に、担持体保持手段上での担持体の移動を防止してパターン転写を良好に行うことができるパターン転写装置を提供する。
【解決手段】押さえ部材71に対して各ピストン724の先端部が遊嵌されており、水平面内で移動自在となっており、押さえ部材71はブランケットBLの周縁部を押さえ付けたまま、下ステージ部5とともに移動してアライメント工程中にブランケットBLが吸着ステージ51上で移動するのを確実に防止する。また、ブランケットBLの中央部を浮上させている際にも、押さえ部材71は、アライメント工程が完了した時点での位置決め状態のままブランケットBLの周縁部を押さえ付ける。 (もっと読む)


【課題】透明な平板状の物体の一方主面を、他方主面側から該物体を介して撮像する技術において、特に対象物が薄い場合でも支障なく撮像を行うことのできる技術を提供する。
【解決手段】ブランケットBLを吸着保持する吸着ステージ51の上面510と、アライメントパターンAP2を下方から撮像するための石英窓52aの上面520とを同一平面とせず、石英窓52aの上面520を下方に後退させて配置する。ブランケットBLと石英窓52aとが部分的に接触することにより生じる干渉縞が画像に写り込むのを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】パターン形成を安定して行うことができるパターン形成装置およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】開口P(0)に隣接する開口P(+1)に接続される正圧バルブを閉じたまま吸着バルブを開状態から閉状態に切り替えて開口P(+1)への負圧供給を停止する。すると、開口P(+1)近傍では、加圧空間SP5内の加圧力に対するブランケットBLを保持する力が次第に弱くなり、それに伴って加圧空間SP5内の気体成分が、ブランケットBLの開口P(+1)の鉛直上方部分と上面51aとの間に流入して当該ブランケット部分を上面51aから浮き上がらせて版PPの下面に当接させる。このように、上記加圧空間SP5内の圧力が急激に変動するのを抑制しつつ当接領域CAが中央部から(+Y)端縁側に緩やかに安定して拡幅される。 (もっと読む)


【課題】2つの基板のそれぞれに形成されたアライメントマークの両方に同時にピントを合わせることができない場合であっても、それらの位置合わせを高精度に行うことを可能にする。
【解決手段】パターンを転写される基板に形成されるアライメントマークAM1は、正方形の中実図形であるアライメントパターンAP101〜AP109、AP111〜AP114を配列してなるものとする。一方、基板に転写すべきパターンを担持するブランケットには、アライメントマークAM2として、環状の中空矩形のアライメントパターンAP2をパターンと同じ材料で形成する。アライメントマークAM1は、低い空間周波数成分をアライメントパターンAP2よりも多く含むパターンにより構成されており、ピントが合わない状態で撮像された場合でも重心位置を精度よく検出することが可能である。 (もっと読む)


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