【課題】その内部に密閉された作業空間を形成するとともに、組み立てにおける作業性を良好としながら、確実に密閉性を実現できる密閉式ブースおよびこのような密閉式ブースを利用した基板処理システムを提供する。
【解決手段】互いに連結された複数のフレーム部材と、複数のフレーム部材に支持された複数のパネル部材とを備える密閉式ブースにおいて、第１フレーム部材と、第１フレーム部材に連結される第２フレーム部材と、第１フレーム部材と第２フレーム部材との間の連結部分に配置され、当該連結部分を封止する弾性部材と、第１フレーム部材、第２フレーム部材、および弾性部材のそれぞれの表面が連続的に連なって形成されたパネル封止領域と、パネル部材との間に配置され、パネル封止領域とパネル部材との間を連続的に封止する封止部材とにより構成される連結封止構造を備えさせる。 （もっと読む）

【課題】 伸縮性のあるニット素材などのウエブを従来の搬送速度よりも高速で搬送することができるウエブ搬送方法およびウエブ搬送装置を提供すること。
【解決手段】 アキュムレータ装置から排出されたウエブを送り出すオーバーフィードロールと、オーバーフィードロールから送り出されたウエブのしわを伸ばす拡幅ロールと、拡幅ロールから送り出されたウエブを次工程に搬送する搬送ロールと、を備え、搬送ロールの速度を搬送速度とし、オーバーフィードロールによるウエブの送り速度を、搬送ロールの搬送速度よりも速く設定し、オーバーフィードロールから送り出されるウエブを搬送ロールとの間でたるませる工程と、たるまされたウエブを拡幅ロールに沿って走行させて、ウエブに発生したしわを伸ばす工程と、しわが伸ばされたウエブを搬送ロールから搬送速度で次工程に送り出す工程とを有するウエブ搬送方法およびウエブ搬送装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 剛性の高いチャンバーを用いることなく、安価なチャンバーで構成できると共にタクトタイムの短縮を図ることのできるディスペンス装置およびディスペンス方法を提供すること。
【解決手段】 チャンバー内の可動ステージに載置された基板上のチップを撮像可能な撮像カメラと、予め、撮像カメラが撮像した、チャンバーの圧力が設定減圧になるまでのチップの位置の変化の履歴を記憶する記憶手段と、チャンバーが設定減圧に減圧される途中において、撮像カメラで複数のチップを順次撮像し、撮像時のチャンバー内圧力と記憶手段に記憶された位置の変化の履歴から設定減圧に到達した際のチップの移動位置を計算する演算手段と、を備えているディスペンス装置およびディスペンス方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】製膜レートを下げることなく、膜全体に亘って膜質が均一なアモルファスシリコン膜を形成することができるＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】チャンバと、前記チャンバ内に設けられ、基板が載置されるアノード電極と、前記アノード電極に対向する位置に配置されるカソード電極を有するカソードユニットと、原料ガスが供給されるガス供給部と、前記チャンバ内のガスを排気するガス排気部とを備えており、前記カソードユニットは、前記カソード電極に前記ガス供給部と連通するガス供給孔が複数一方向に沿って配列されて形成されており、前記ガス排気部と連通するガス排気溝が前記カソード電極に隣接する位置にガス供給孔の配列方向に沿って連続的に開口して形成されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】 位置決めロボットで位置決めすることのできる位置決め分解能は、軸制御部から軸移動用パルス信号が通常１パルスだけ送信された場合に移動する距離であって、前記距離以下での細かい位置決めは不可能であった。
【解決手段】 記憶装置にデジタルデータとして連続的に記録された超音波エコー信号のそれぞれの同期時間に対して、位置決めロボットの速度と同期信号の時間間隔から測定範囲内での位置決めロボットによって走査された超音波トランスデューサの位置を再計算して、対応する位置の超音波エコー信号を画素データに変換し、対応する位置情報から画像の位置にプロットし、表示装置に表示する超音波画像装置。 （もっと読む）

【課題】製膜初期におけるプラズマの放電状態を安定させることにより、膜質の低下を抑えることができるＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】チャンバ内に発生させたプラズマにより原料ガスを分解し、基板上にアモルファスシリコン膜を製膜するＣＶＤ装置であって、チャンバと、基板が載置される基板載置部と、載置された基板の温度が製膜に適した温度になるように温度調節可能な基板ヒーター部とを有するアノード電極と、前記基板載置部に載置された基板に対向する位置に設けられるカソード電極と、前記カソード電極と基板載置部との間に設けられ、開状態で基板載置部に載置された基板とカソード電極との対面を許容し、閉状態で基板とカソード電極との対面を遮断するシャッター部と、を備えており、前記シャッター部には、基板の温度に応じた温度に調整可能なヒーター部が設けられている。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の終端部分における膜厚の落ち込みを防止することができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ塗布液を吐出することにより前記基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、前記塗布ユニットに塗布液を供給し、塗布ユニットから塗布液を吐出させる塗布液ポンプと、前記塗布液ポンプを駆動制御することにより前記塗布ユニットから吐出される塗布液の吐出量を制御する制御装置とを有しており、前記制御装置は、前記塗布ユニットから、塗布膜を一定厚さに形成する一定膜厚形成吐出量の塗布液を吐出させるとともに、塗布液ポンプを停止させる前に一定膜厚形成吐出量よりも多量の膜厚補正吐出量の塗布液を吐出させるように前記塗布液ポンプを駆動制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の異常が発生する原因の特定を、迅速に開始させる。
【解決手段】基板Ｗａに塗布液を塗布することで塗布基板を作製する塗布装置４ａと、この塗布装置４ａが動作することで当該塗布装置４ａから出力される出力情報を収集する収集機能部１２と、この収集機能部１２が収集した出力情報に基づいて塗布装置４ａの動作状態を診断するための処理を行う診断用コンピュータ５とを備えている。診断用コンピュータ５が診断するための処理を行う際に用いられる出力情報は、塗布装置４ａが基板Ｗａに塗布液を塗布して前記塗布基板を作製している間に、収集機能部１２が収集した情報である。 （もっと読む）

【課題】塗布液が多く滞留してしまうのを防ぐことができるバルブを備え、塗布液の状態や特性が変わってしまうのを防ぐことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】バルブ１５は、流入ポート４１及び流出ポート４２を端部に有する主流路４４と、この主流路４４の途中から分岐して他の流出ポートへと繋がる副流路とを備え、主流路４４の塗布液が副流路へ流れない第一状態と流れることができる第二状態とのいずれか一方の状態に切り換える。主流路４４を構成している周壁に形成された開口穴４４ａを開閉切り換える弁体６２を備え、前記第一状態で、弁体６２は、前記周壁の一部となって開口穴４４ａを塞いでいる。 （もっと読む）

【課題】出口ポート側で塗布液が多く残ってしまうのを防ぐことができるバルブを備え、塗布液同士が混ざってしまうのを防ぐことができる塗布装置を提供する。
【解決手段】第一弁体５３が第一流路３５を閉塞することにより、第二流路３６と第三流路３７とが繋がった状態となる。第一弁体５３は、第一流路３５を閉塞した状態で、第二流路３６から第三流路３７へと塗布液が流れるバルブ内流路の内壁の一部を兼ねる。また、第二弁体５４が第二流路３６を閉塞することにより第一流路３５と第三流路３７とが繋がった状態となる。第二弁体５４は、第二流路３６を閉塞した状態で、第一流路３５から第三流路３７へと塗布液が流れるバルブ内流路の内壁の一部を兼ねている。 （もっと読む）