【課題】 射出成形動作開始当初から成形条件を算出する。
【解決手段】 ステップSP3において、境界条件の設定を行い、ステップSP4において、圧力計算を行い、ステップSP5において、キャビティ内の任意位置での物理量の目標値の時間変化（基準圧力履歴）Ｐａ（ｔ）が解析値Ｐａ＊（ｔ）と等しいか否かを判定し、キャビティ内の任意位置での物理量の目標値の時間変化Ｐａ（ｔ）が解析値Ｐａ＊（ｔ）と等しくないと判定された場合には、ステップSP6において、境界条件の自動修正を行い、再びステップSP4の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】遊技台前面枠の開放を信頼性高く検出でき、且つ遊技台の型番の違いに関わらず簡単な構成で装着できる遊技機前面枠の開放検出スイッチユニットを提供すること。
【解決手段】遊技機枠体に対して開閉可能に設けられた前面枠４の開放を検出する遊技機前面枠の開放検出スイッチユニット１であって、遊技機枠体における第１部材６に固定するための固定部材７と、固定部材７に取り付けられアクチュエータ８２の押圧操作に応じてオンオフの切替え動作を行う端子対Ａを複数備えたスイッチ装置８と、一端が固定部材７に取り付けられ前面枠４の背面に設けられた第２部材５との当接によりアクチュエータ８２を押圧するように付勢される長尺の弾性部材９とを有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 使用環境等に影響されることなく、火薬を効率的に着火することができる薄膜ブリッジを使用したイニシエータ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 １対の電極ピン２，３を有する塞栓４と、前記塞栓４に取り付けられる薄膜ブリッジ５と、フィルム８とを有し、前記電極ピン２，３を通して前記薄膜ブリッジ５に電流を供給し、前記薄膜ブリッジ５を作動させてイニシエータ中の火薬６，７を着火するイニシエータ１であって、前記薄膜ブリッジ５は、フィルム８上に形成された電極パタ−ン１１を介して前記電極ピン２、３に接合していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の遊技店に設置された遊技機の稼働率を対象項目別に一見してわかりやすい形式で表示できる遊技機稼働率表示システムを提供する。
【課題手段】複数の遊技店Ａ〜Ｃにそれぞれ設置された複数台の遊技機２と、遊技機の稼働中信号Ｄ１をリアルタイムで取得する稼働中信号取得手段３と、稼働中信号を総計して稼働台数Ｄ３とするローカルコンピュータ４と、ローカルコンピュータと通信回線Ｎを介してアクセス可能なメインサーバ８と、メインサーバにアクセス可能であり入力部６１と表示画面６２とを備える店端末６と、遊技機の設置台数Ｄ２を予め記憶した記憶部と該記憶部から読み出した設置台数Ｄ２とメインサーバに集約された遊技機の稼働台数Ｄ３’とに基づき、入力部から入力された要求信号Ｄ４に応じた遊技機の稼働率Ｄ５を算出し該稼働率を表データ及びグラフデータに加工して表示画面に表示する処理部とを備える稼働率算出手段５とにより構成する。 （もっと読む）

【課題】大面積で質の良い薄膜を低コストの装置構成で形成することのできる触媒ＣＶＤ方法及び触媒ＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】反応室２を活性室２１と成膜室２２とに隔絶すると共に該活性室と該成膜室とを連通させる複数のオリフィス５１が形成された仕切り板５を用い、成膜室に備えられた基板保持台６に成膜用基板Ｋを保持する基板保持ステップと、活性室に備えられた触媒用フィラメント４を通電により高温に加熱する加熱ステップと、反応室内を真空排気する真空排気ステップと、形成すべき薄膜の種類に応じて選択された第１の原料ガスを活性室に導入する第１原料ガス導入ステップと、形成すべき薄膜の種類に応じて選択された第２の原料ガスを成膜室に導入する第２原料ガス導入ステップとを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】活性化手段から印加されたエネルギーによる基板表面の損傷を抑制でき且つ速い速度で薄膜を形成することのできるＣＶＤ方法及び装置を提供する。
【解決手段】薄膜の形成対象とする基板Ｋを反応室２内の基板保持手段６に保持する基板保持ステップと、反応室を真空圧力まで減圧する減圧ステップと、目的とする薄膜の構成原子を含む原料ガスを反応室に導入するガス導入ステップと、活性化手段により原料ガスにエネルギーを印加して基板Ｋに薄膜を形成する膜形成ステップとを備えるＣＶＤ方法において、膜形成ステップは、活性化手段から基板に印加されるエネルギーが基板の表面に損傷を与えない第１エネルギーとなるようにして第１層目の薄膜を形成する第１膜形成ステップと、活性化手段から基板に印加されるエネルギーが第１エネルギーよりも強い第２エネルギーとなるようにして第２層目の薄膜を形成する第２膜形成ステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】被接合物同士を圧接させて平行度調整を行う方法の利点をそのまま活かし、その後にアライメント、さらにはエネルギー波による接合面の洗浄を可能とし、高精度の接合を容易に行うことができるようにする。
【解決手段】接合部を有する被接合物同士を接合するに際し、少なくとも一方の被接合物を他方の被接合物に押し付け倣わせた状態でその姿勢に一旦ロックし、両被接合物を離間させ、両被接合物間の相対位置をアライメントした後、または／および被接合物の接合面をエネルギー波により洗浄した後、再度両被接合物を接触させ、加熱、加圧、超音波印加のいずれか少なくとも一つの方法により被接合物同士を接合することを特徴とする接合方法、および接合装置。 （もっと読む）

【課題】接合前には接合部同士を確実に接合に適した清浄な状態にし、容易に常温接合までを可能とすることのできる接合方法および装置を提供する。
【解決手段】基材の表面に接合部を有する被接合物同士を接合するに際し、減圧下で前記接合部の表面をエネルギー波により洗浄した後接合部同士を接合する接合方法であって、洗浄に適した所定の真空度にて洗浄を行った後、さらに真空度を高めてから接合部同士を接合することを特徴とする接合方法、および接合装置。 （もっと読む）

【課題】 印刷データとＲＦＩＤデータを同時に管理し、制御言語データに前記印刷データと前記ＲＦＩＤデータを組み込むことにより、１台の印刷システムによって画像情報の印刷とＲＦＩＤタグへの情報の書き込みが可能な印刷システムを提供することである。
【解決手段】 プリンタエンジン１と、ＲＦＩＤリーダ／ライタ５と、プリンタエンジン１及びＲＦＩＤリーダ／ライタ５が接続されているプリンタコントローラ２４とから構成され、プリンタコントローラ２４はネットワーク３に接続されている。そして、ネットワーク３に接続されたクライアントのパーソナルコンピュータ４上の帳票アプリケーションプログラム４１から印刷起動された描画データをプリンタコントローラ２４とプリンタエンジン１を用いて記録媒体に印刷を行い、ＲＦＩＤリーダ／ライタ５でＲＦＩＤタグへＲＦＩＤデータを書き込む。 （もっと読む）

【課題】プラズマダメージやパーティクルによる薄膜及び基板の劣化を簡単な装置構成で抑制できるプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、チャンバー２内の圧力を真空圧力まで減圧する減圧部４と、チャンバー２内に設けられ成膜の対象となる基板Ｋを保持するための基板保持部３と、形成すべき薄膜に応じて選択されたガスをチャンバー２内に導入するガス導入部５と、ガスの分子をプラズマエネルギーにより活性化するプラズマ発生部６とを有するプラズマＣＶＤ装置１において、複数の貫通穴が形成されチャンバー２内を下室２１と上室２２とに隔絶するシールド板ＳＰを備え、下室２１はガス導入部５に連接し、上室２２は減圧部４に連接するとともに内部に基板保持部３を備え、基板保持部３は基板Ｋをその薄膜被形成面ＫＦを鉛直下方に向けて保持可能とされる。 （もっと読む）