東海ゴム工業株式会社により出願された特許

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【課題】 横方向の振動に加えて縦方向の振動であっても良好に吸収し、地震等による縦揺れも吸収できる免震機能を備えた電子機器収納用ラックを提供する。
【解決手段】 免震部材を、コイルバネ4と3軸方向の振動を吸収するオイルダンパー5とで構成し、内側枠体3の上下端部と外側枠体2の間にコイルバネ4を縦方向に伸縮するよう配置し、内側枠体3を上下方向からコイルバネ4を介して外側枠体2に保持させる一方、外側枠体2の左側部と内側枠体3の左側部との間、及び外側枠体2の右側部と内側枠体3の右側部との間にオイルダンパー5を配置し、オイルダンパー5を介して側部同士を連結した。 (もっと読む)


【課題】部品点数が少なく、薄型化が簡単で、回路構成が簡単で、各々異なる再生帯域の音声を再生可能な複数のスピーカー部を有するスピーカーを提供することを課題とする。
【解決手段】スピーカー1は、エラストマー製または樹脂製の誘電層20と、誘電層20の表裏両面に配置される複数の電極層21、22と、を有する振動部2と、表側または裏側から見て、誘電層20の表面の電極層21と、誘電層20と、誘電層20の裏面の電極層21と、が重複する部分に配置され、各々、音声の再生帯域が異なる複数のスピーカー部3、4、5と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】無指向性であって、各々異なる再生帯域の音声を再生可能な複数のスピーカー部を有するスピーカーを提供することを課題とする。また、スピーカーの有するスピーカー部の再生帯域を、簡単に調整することが可能な再生帯域調整方法を提供することを課題とする。
【解決手段】スピーカー1は、各々、音声の再生帯域が異なる複数のスピーカー部2、3を備える。スピーカー部2は、エラストマー製または樹脂製の誘電層200と、誘電層200の内周面および外周面に配置される複数の電極層201、202と、を有する筒状の振動部20を有する。スピーカー部3は、エラストマー製または樹脂製の誘電層300と、誘電層300の内周面および外周面に配置される複数の電極層301、302と、を有する筒状の振動部30を有する。 (もっと読む)


【課題】周波数の異なる振動に対してそれぞれ有効な制振効果が発揮されると共に、外部からの振動入力によるヨーク部材のコイル部材に対する相対変位量の増大を防止しつつ、電磁式アクチュエータにおけるマス−バネ共振系の共振周波数をより低周波数にチューニングすることが可能とされた、新規な構造の能動型制振器を提供すること。
【解決手段】ヨーク部材36,38を制振対象部材に対して弾性的に連結する追加ばね54を、支持ばね51とは独立して設けると共に、ヨーク部材36,38と制振対象部材の何れか一方に対する追加ばね54の接続状態と解除状態を切り替える切替手段56を設けた。 (もっと読む)


【課題】 一つの低圧チャンバー内で、基材の表面の改質と該表面への成膜とを連続して行うことができるプラズマ改質成膜装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ改質成膜装置1は、チャンバー10と、基材Fを搬送する搬送手段20、200、201と、基材Fの表面を改質するECRプラズマ生成装置3と、基材Fの該表面に薄膜を形成する成膜装置6と、を備える。ECRプラズマ生成装置3は、マイクロ波を伝送する矩形導波管31と、該マイクロ波が通過するスロット320を有するスロットアンテナ32と、スロット320を覆うように配置され、プラズマ生成領域側の表面330はスロット320から入射する該マイクロ波の入射方向に平行である誘電体部33と、誘電体部33の裏面に配置される支持板34と、支持板34の裏面に配置される永久磁石35と、を備え、ECRプラズマP1を生成する。 (もっと読む)


【課題】処理対象物の処理対象面の形状によらず、所定の改質処理を施しやすいマイクロ波プラズマ処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置1は、内筒部30と、外筒部31と、内筒部30と外筒部31との間に配置される導波通路33と、導波通路33に連通し軸直方向幅が導波通路33よりも狭いスリット36と、プラズマ生成用ガスをスリット36に供給するガス供給部35と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 酸素、水蒸気およびアウトガスを透過しにくいガスバリア性に優れたフィルム部材、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 フィルム部材は、樹脂フィルムからなる基材と、該基材の表裏少なくとも一方側に配置される酸窒化アルミニウム(AlON)膜と、を有し、該酸窒化アルミニウム膜の組成は、Al:39〜55at%、O:7〜60at%、N:1〜50at%である。当該フィルム部材の製造方法は、スパッタ成膜装置1のチャンバー8内に、基材20をアルミニウム製のターゲット30に対向するように配置し、チャンバー8内を所定の真空度に保持する減圧工程と、チャンバー8内に、窒素を含む原料ガスとキャリアガスとを導入し、所定の真空度で、チャンバー8内の窒素ガス圧に対する酸素ガス圧の比率が20%以下の雰囲気において、基材20の成膜面に酸窒化アルミニウム膜を形成する成膜工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】低圧下で高密度のプラズマを生成可能なECRプラズマ生成装置、および表面の凹凸が小さい薄膜を形成可能なマグネトロンスパッタ成膜装置を提供する。
【解決手段】ECRプラズマ生成装置4は、マイクロ波を伝送する矩形導波管41と、該マイクロ波が通過するスロットを有するスロットアンテナ42と、スロットを覆うように配置され、プラズマ生成領域側の表面はスロットから入射する該マイクロ波の入射方向に平行である誘電体部43と、誘電体部43の裏面に配置される支持板44と、支持板44の裏面に配置される永久磁石45と、を備え、ECRプラズマP1を生成する。マグネトロンスパッタ成膜装置1は、ECRプラズマ生成装置4を備え、基材20とターゲット30との間にECRプラズマP1を照射しながら、マグネトロンプラズマP2による成膜を行う。 (もっと読む)


【課題】 耐絶縁破壊性が高い誘電層を用い、かつ大きな静電引力を発生させることにより、大きな力を出力することができるトランスデューサを提供する。
【解決手段】 トランスデューサ1は、エラストマーを含み体積抵抗率が1012Ω・cm以上の高抵抗誘電層10と、高抵抗誘電層10の表裏両側に配置される一対の電極13、14と、高抵抗誘電層10の表裏少なくとも一方において、電極13と高抵抗誘電層10との間に介装されるイオン固定層11と、を備える。イオン固定層11は、エラストマー110と、金属酸化物粒子に第一イオン成分が固定化されてなるイオン固定粒子111と、該第一イオン成分と反対の電荷を持つ第二イオン成分112と、を有し、イオン固定粒子111はエラストマー110に化学結合されており、該第一イオン成分の電荷は隣接する電極13の極性と同じである。 (もっと読む)


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