【課題】酸化及び溶損を防止することができるプローブカード用接触端子を提供する。
【解決手段】半導体デバイスを検査するプローブカード１０のベース１１において半導体デバイスと対向する面には、複数のポゴピン１２が配され、各ポゴピン１２のプランジャー１４は柱状の接触部１４ｃを有し、接触部１４ｃは、柱状の中心部１４ｄと、中心部１４ｄの側面を覆う外部筒１４ｅとを有し、外部筒１４ｅを構成する材料の硬度及び比抵抗は、中心部１４ｄを構成する材料の硬度及び比抵抗と異なる。 （もっと読む）

【課題】Ｃｕ配線内における空孔の集中を抑制することでＣｕ配線内でのボイドの形成を抑え、例えば２層間配線系におけるビア接続部等における、いわゆるストレスマイグレーションと呼ばれる断線等の配線不良の発生が抑制される半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ダマシン配線構造を有する半導体装置の製造方法において、配線形成後に被処理基板を加熱および除熱する熱サイクル工程を行う、半導体装置の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】小型で、基板の搬送ブロックにダウンフローを形成する際の消費エネルギーが少ない基板処理装置を提供する。
【解決手段】第１の基板処理部２に対して基板Ｗの搬送を行うための第１の搬送ブロック１４２ａの下方側には、第２の基板処理部２に対して基板Ｗの搬送を行うための第２の搬送ブロック１４２ｂが積層して設けられ、第１のファンフィルタユニット３１は、第１の搬送ブロック１４２ａ内に清浄気体のダウンフローを形成し、第２のファンフィルタユニット３２は第１の搬送ブロック１４２ａの底部の床板１５に設けられた排気口１５１から前記ダウンフローを取り込んで第２の搬送ブロック１４２ｂ内に清浄気体のダウンフローを形成する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の気流方向のバラツキや流速のバラツキがあった場合でも、基板の温度をエリア毎に補正することで、塗布膜の乾燥状態のバラツキを抑制し、塗布膜を均一に乾燥させることで乾燥ムラの発生を抑制し、且つ良好な残膜形成を行うことのできる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】被処理基板を収容し、処理空間を形成するチャンバ９と、前記被処理基板を保持する保持部１１と、前記保持部を昇降移動させる昇降手段２５と、前記チャンバに形成された給気口１６と、前記給気口から不活性ガスをチャンバ内の処理空間に供給する供給手段１８と、前記チャンバに形成された排気口１３と、前記排気口からチャンバ内の雰囲気を排気する排気手段１４と、前記被処理基板の上方に設けられ、複数のエリアに分割された第１の熱処理部２０と、前記第１の熱処理部のエリア毎に温度制御する第１の制御部４１とを備える。 （もっと読む）

【課題】第１部材と第２部材とを貼り合わせた貼り合わせ体における中央部とエッジ部の厚さにばらつきがなく、且つエッジ部の厚さが全周に亘って均一である貼り合わせ体を得ることができる貼り合わせ装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷ１を上面に載置して保持する下部チャック１０と、下部チャック１０の上部に対向配置されウエハＷ２を保持する上部チャック１１と、下部チャック１０と上部チャック１１との間に形成される空間Ｓを減圧する吸気機構１８とを有し、上部チャック１１は、剛性を有するエッジ部１１ｂと、当該エッジ部１１ｂと分割され、エッジ部１１ｂに外周部が支持された保持部本体１１ａとを有し、保持部本体１１ａは、所定の圧力、例えば０．７気圧で当該保持部本体１１ａの中心部が撓む弾性体からなる。 （もっと読む）

【課題】煩雑な操作を行うことなく複数のガス種に対して流量制御を行うことが可能な流量制御装置を提供することである。
【解決手段】ガス通路２８に流れるガス流量を制御する流量制御装置３０において、主ガス管５０と、これに流れるガスの流量を検出して流量信号を出力する流量検出手段５２と、流量を制御する流量制御弁機構５４と、外部より入力される流量指示信号Ｓｂと目標流量との関係を表すための、複数のガス種に対応した複数の換算データを記憶する換算データ記憶部５６と、外部より入力されるガス種選択信号Ｓａに基づいて複数の換算データから対応する換算データを選択すると共に流量指示信号Ｓｂに基づいて前記目標流量を求め、目標流量と流量信号とに基づいて流量制御弁機構を制御する流量制御本体５８とを備える。 （もっと読む）

【課題】ハロゲンガスを用いることなく、かつ、ホールやトレンチの側壁形状をより垂直に近付けることのできる金属膜のドライエッチング方法を提供する。
【解決手段】白金を含む金属膜を、マスク層を介してドライエッチングする金属膜のドライエッチング方法であって、水素ガスと二酸化炭素ガスとメタンガスと希ガスとを含む混合ガスからなるエッチングガスのプラズマを発生させて、金属膜をドライエッチングする。 （もっと読む）

【課題】接触端子の劣化を防止することができる接触端子の支持体を提供する。
【解決手段】半導体基板に形成された半導体デバイスを検査するプローブカード１０は多数のプローブ１２を支持するハウジング１３を備え、該ハウジング１３の本体１５は複数の金属薄板１４が積層されて構成され、本体１５を厚み方向に貫通する各プローブ穴１６には各プローブ１２が挿嵌され、本体１５に内蔵された各冷媒流路１７がハウジング１３を冷却する。 （もっと読む）

【課題】基板の液処理時に遮蔽扉に付着した処理液によって、基板の乾燥処理時にパーティクルが発生してしまうのを防止すること。
【解決手段】本発明では、基板処理装置（１）において、処理液で基板（６）の液処理を行う液処理槽（７）と、前記液処理槽（７）の上方に設けられ、前記基板（６）の乾燥処理を行う乾燥処理槽（２２）と、前記液処理槽（７）と乾燥処理槽（２２）との間に設けられ、前記液処理槽（７）と乾燥処理槽（２２）とを遮蔽可能な遮蔽扉（３３）と、前記液処理槽（７）と乾燥処理槽（２２）との間で前記基板（６）の搬送を行う基板搬送手段（５）と、前記遮蔽扉（３３）に洗浄液を供給する洗浄液供給手段（３６）とを設けることにした。 （もっと読む）

【課題】露光量及びフォーカス値についての設定時間を短くすることができる露光装置の設定方法を提供すること。
【解決手段】予め設定された寸法のパターンを形成するための露光量とフォーカス値とが決定された状態の露光装置で露光領域を露光し、パターンを形成した基準基板を撮像し、露光領域の輝度を含む基準データを取得する。そして、前記寸法のパターンを形成する前記露光量とフォーカス値とのうちの一方が不明な第２の状態の露光装置で、露光領域が複数設定された検査基板を、露光領域毎に露光量とフォーカス値とを各々変更して露光してパターンを形成する。さらに前記パターンを形成した検査基板を撮像し、前記各露光領域についての輝度を特定した検査画像データを作成し、前記基準データと検査画像データとに基づいて、第２の状態で前記寸法のパターンを形成する露光量及びフォーカス値を決定する。 （もっと読む）